《2019光伏变局:海外争夺战成关键》

  • 来源专题:中国科学院文献情报先进能源知识资源中心 |领域情报网
  • 编译者: guokm
  • 发布时间:2019-03-18
  • 从能源咨询网获悉,虽然补贴政策尚未落地,但是国内市场总体的趋势却早已逐渐明朗。首先需要明确的是,2019年开始光伏项目可以分为两大类,一类是无补贴项目,一类是有补贴项目。2019年的光伏市场发展将会如何,就看这两类项目能够带来多少市场需求。

    而从企业角度来看,除了市场需求之外,项目的收益率也是决定未来发展的关键因素,那2019年光伏项目的收益率如何?

    收益率才是王道

    对于项目的收益率,我们仍然需要分无补贴项目及有补贴项目来分析。首先从有补贴项目来看,限定30亿元补贴资金的政策有很大可能得到执行,这样一来,无论有补贴项目的装机容量达到多少,其产生的收益几乎已经有了限定。

    根据新的政策,除了扶贫项目、户用项目及少部分示范项目之外, 其他所有的有补贴项目都需要通过竞价来获取规模指标。而竞价获取规模指标的模式此前一直被领跑者计划项目所采用,这也就意味着2019年的普通项目已经趋于“领跑者化”。

    借鉴前两年屡创价格新低的领跑者竞价,今年的有补贴项目竞价想必也将十分热闹。而正是由于竞价的存在,使得领跑者项目的光伏发电成本逼近甚至低于平价上网标准,但与此同时,这些项目的收益率相应的有了大幅下降。

    由领跑者项目的经验我们可以预见,未来有补贴项目的光伏发电并网价格将会在竞价模式的驱动之下越来越低,而光伏发电成本在这个价格的限制下也将逐步逼近于平价上网标准。所以与之前有固定补贴不同的是,2019年的有补贴项目收益率将会大幅下滑。

    所以在30亿元补贴资金的限定以及竞价模式的管制之下,有补贴项目的收益率将大幅下滑,直至逼近成本线。这样一来其装机规模的大小已经没有多大意义。

    再从无补贴项目来看,由于这类项目无法享受国家补贴,其收益率基本上难以和有补贴项目相比。但是从前段时间发布的《关于积极推进风电、光伏发电无补贴平价上网有关工作的通知》来看,无补贴项目的收益率很大程度上还要看该政策的落地实施。

    只有上述政策能够得到最大程度的贯彻执行,无补贴项目的“非技术成本”才能有效下降,项目收益率才能有所保证,最终无补贴项目才能顺利在2019年得到大规模推广。

    甚至在部分资源条件优越的地区,无补贴项目的收益率或许可以与部分有补贴项目持平。总体而言,无补贴项目的收益率存在较大的变数,受“非技术成本”因素的影响较大。而在理想的状况下,无补贴项目的收益率或许与有补贴项目将处于同一水平。

    综上,2019年的有补贴项目收益率或将继续下探,而无补贴项目的收益率也很难有良好表现。在这样的情况下,2019年光伏项目的新增装机规模已经不能像往年一样代表行业的发展情况。因为在同等规模下,2019年的新增的项目规模所产生的收益比之前年有很大的差距。

    所以对于2019年的光伏市场来说,收益率才是王道,只有那些成本控制能力强的企业才能有一席之地。

    海外争夺战成关键

    从以上分析可以发现,也许2019年我国仍然会有不错的新增装机规模,但是这些规模所能产生的收益却会出现大幅下滑。市场规模看似不变,蛋糕却在无形中变小。这样来看,2019年的国内市场依然无法恢复到2017年那样的生命力。

    与国内市场不同的是,海外市场在2019年却四处开花。近年来,国际上已经掀起清洁能源浪潮,而欧美、日本等光伏市场发展成熟稳定,拉美、非洲市场方兴未艾,而且在不少资源条件好的地区,光伏发电成本已经低于当地火电价格。相比之下,海外市场的潜力及机遇已经显现。这也是为什么海外市场的争夺成为了当前光伏企业发展的关键。

    而在不知不觉之间,海外市场的争夺战早已爆发。从光伏企业的财报可以发现,在去年“531”之后依然获得良好业绩表现的企业都有一个共同点,那就是海外业务繁荣。代表企业有晶科能源、协鑫集成、隆基股份等。海外市场的重要性在2019年获得了企业更大的重视,新年以来,有不少企业在踊跃开拓海外市场。

    根据报道,上半年包括晶科、晶澳、天合光能、隆基乐叶及东方日升等国内一线光伏组件企业的订单几乎已经排满,而这些一线企业的大部分产能正供应国外订单。除此之外,国内企业拿下海外订单的新闻屡见不鲜。

    在近几日受到全行业关注的“专利侵权”事件也表明,海外市场的争夺已经进入白热化阶段。

    各方面的线索都表明,虽然国内市场目前尚处于政策正式发布之前的观望期,但是海外市场的争夺战早已打响。而在国内市场持续孱弱的情况下,海外市场的表现将成为各大光伏企业的主要盈利点。

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    • 来源专题:光电情报网信息监测服务平台
    • 编译者:husisi
    • 发布时间:2021-02-04
    • 近日,荷兰的光刻机制造商阿斯麦(ASML)发布2020年度财报,全年净销售额达到140亿欧元,毛利率达到48.6%。ASML同时宣布实现第100套极紫外光刻(EUV)系统的出货,至2020年年底已有2600万片晶圆采用EUV系统进行光刻。随着半导体技术的发展,光刻的精度不断提高,2021年先进工艺将进入5nm/3nm节点,极紫外光刻成为必修课,EUV也成为半导体龙头厂商竞相争夺采购的焦点。未来,极紫外光刻技术将如何发展?产业格局如何演变?我国发展半导体产业应如何解决光刻技术的难题? 半导体大厂 竞相购买EUV 在摩尔定律不断挑战物理极限的当下,半导体先进工艺领域的竞争形势,用“得EUV者得先进工艺”来形容并不为过。台积电、三星电子等厂商均加速了导入EUV的进程。也是这个原因,EUV正在成为半导体巨头在先进工艺领域争夺优势地位的焦点。 近期,三星电子与ASML高层互访消息频出。2020年10月,三星电子副会长李在镕访问ASML,与ASMLCEOPeterWennink、CTOMartinvandenBrink进行会谈。2020年年底又传出PeterWennink回访三星电子的消息。 有业界人士指出,这样频繁的互访,核心当然在于EUV设备。三星电子希望ASML提供更多的EUV设备,同时希望ASML协助三星电子更加顺利地使用已经购买的EUV。据了解,ASML2021年EUV产能约为45~50台。而台积电就抢下当中的30台,剩下的才由三星、英特尔及SK海力士等竞争对手瓜分。如此一来,三星电子势必在2021年EUV设备数量上输给台积电。三星电子此前提出“半导体愿景2030计划”,计划于2030年在晶圆代工领域赶超台积电。这是三星高层亲自出访ASML的主要原因。 事实上,半导体逻辑制程技术进入到7纳米以下后,由于线宽过细,需要使用EUV作为曝光媒介。全球当前有能力并且有意愿进入7纳米世代的晶圆厂仅剩台积电、三星和英特尔,加之EUV设备供给有限,ASML便成为三大半导体巨头争相拉拢的重要对象。 5nm/3nm 极紫外光刻成为必修课 随着半导体技术的发展,光刻的精度不断提高,已由微米级、亚微米级、深亚微米级,细化到当前的纳米级,曝光光源的波长也由436纳米(G线)、365纳米(Ⅰ线),发展到248纳米(KrF)、193纳米(ArF),再到13.5纳米(EUV)。 EUV是线宽突破10纳米,甚至之后的7纳米、5纳米、3纳米工艺的关键。华创证券调研报告显示,半导体芯片生产的难点和关键点在于将电路图从掩膜上转移至硅片上,这一过程需要通过光刻来实现。光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平。芯片在生产中需要进行20~30次的光刻,耗时占到IC生产环节的50%左右,占芯片生产成本的1/3。如果采用EUV,晶圆厂可以减少将芯片设计缩小所遇到的光学麻烦,并在此过程中省去一些多重图形曝光(multi-patterning)步骤,在理想情况下能够节省成本和时间,提高良品率。也正是这个原因,尽管ASML的EUV售价高达1.2亿美元,三星和台积电等厂商依然积极采购。 台积电在日前举行的法说会上宣布,2021年主要用于设备采购的资本支出约为250亿至280亿美元,较2020年的172亿美元增长了45%~62%。台积电首席财务官黄仁昭表示,为应对先进工艺与特殊工艺技术发展,并顺应客户需求的增长,公司将上调2021年资本支出,其中80%将用于3nm、5nm及7nm等先进工艺。 资料显示,台积电的5纳米节点相比7纳米节点,可以使性能提高15%(在相同的功率和复杂度下),功耗降低30%(在相同的频率和复杂度下),晶体管密度最高提高1.8倍(并非适用于所有结构)。此外,5纳米节点将在十层以上的设备上使用EUV,这使台积电减少了掩膜的使用数量,减少了多重图形曝光的使用次数。 未来,先进工艺将继续推进,至3纳米、2纳米,甚至是1纳米。届时,EUV将发挥更大的作用。半导体研究机构imecCEO兼总裁LucVandenhove指出,imec通过与ASML通力合作研发并实现新一代高解析度EUV光刻技术(高NAEUVLithography),将促使摩尔定律继续发挥作用,即使工艺微缩化达到1纳米后,摩尔定律也会继续适用。 存储芯片 下一个EUV大户 不仅逻辑芯片制造工艺需要使用EUV设备,未来美光、SK海力士等存储芯片大厂在量产DRAM时也将采用EUV设备。半导体专家莫大康指出,存储器主要分为两种:一种是DRAM,另一种是3DNAND。3DNAND目前的竞争主要集中在层数上,虽然也需要线宽的微缩化,但需求不那么迫切。而DRAM存储器则不同,如果做到1z(12~14nm)以下,就有可能需要用到EUV光刻机。届时,存储器厂商订的EUV设备将有大的爆发。 据悉,三星电子目前已经尝试将EUV应用于1zDRAM的生产当中。2020年8月,三星电子宣布在平泽工厂新建的第二座生产线开始生产16GbitLPDDR5移动DRAM。三星电子采用EUV生产的第四代10纳米级别的DRAM晶圆出货量达到100万个。 在内存业内,目前的代际划分是1x、1y、1z、1α和1β。SK海力士表示,正在为使用EUV的DRAM的大规模生产做准备。SK海力士计划从2021年起将EUV应用于1αDRAM,2022年将EUV应用于1βDRAM。SK海力士规划升级M14晶圆厂的设备,同时在即将启用的新厂——M16晶圆厂中安装EUV光刻系统。 美光也在布局对EUV的使用。有消息称,美光正在寻找管理EUV设备的工程师。美光科技高级副总裁兼移动产品事业部总经理拉杰·塔鲁里认为,是否采用EUV考量的关键在于芯片生产的成本和效率。“我们现在使用的多重图形曝光技术相比使用EUV在成本和效率上的优势更加明显。现在我们已经推进到1α节点,我们觉得做到1β、1γ节点,现有的多重图形曝光技术在成本上都会更加有优势。但是在1γ之后,我们有可能会尝试采用EUV。我们会进行成本效率分析,如果证明成本效率更优就会考虑采用。当然,前期我们会投入资金进行相关工艺的探索和开发。” 极紫外光刻产业 不仅只有EUV 光刻机供应商除ASML之外,还有日本厂商尼康和佳能。随着EUV变得越来越重要,ASML的优势正变得越来越明显。佳能和尼康仅能在“深紫外线”(DUV)光刻系统上与之竞争。可即使在DUV领域,ASML也拥有62%的市场份额。 然而,极紫外光刻产业又并不仅仅只有EUV光刻机。根据半导体专家莫大康的介绍,与EUV相关的还包括光掩膜缺陷检测和涂覆显影等周边设备,以及光刻胶等关键材料。光掩膜缺陷检测设备可检测光掩膜中存在的缺陷,如果承载原始电路的光掩膜存在缺陷,则芯片的缺陷率将相应增加。因此该设备也十分重要。日本Lasertec是这一领域的主要制造商。Lasertec公司的经营企划室室长三泽祐太朗指出:“随着微缩化的发展,在步入2纳米制程时,DUV的感光度可能会不够充分。”采用EUV光源的检测设备的需求有望进一步增长。 EUV涂胶显影设备用于将特殊的化学液体涂在硅片上作为半导体材料进行显影。作为光刻机的输入(曝光前光刻胶涂覆)和输出(曝光后图形的显影),涂胶/显影机的性能直接影响到细微曝光图案的形成,其显影工艺的图形质量和缺陷控制对后续诸多工艺(诸如蚀刻、离子注入等)图形转移结果也有着深刻的影响。东京电子是该领域的主要供应商。东京电子的河合利树社长指出,如果EUV的导入能促进整个工序的技术进步的话,与EUV没有直接联系的工序数也会增加。国内设备厂芯源微日前表示,公司前道涂胶显影机与国际光刻机联机的技术问题已经攻克并通过验证,可以与包括ASML、佳能等国际品牌,以及上海微电子(SMEE)的光刻机联机应用。 光刻胶对分辨率、对比度、敏感度,以及粘滞性黏度、粘附性等要求极高。目前全球光刻胶主要企业有日本合成橡胶(JSR)、东京应化(TOK)、住友化学、信越化学、美国罗门哈斯等,所占市场份额超过85%,市场集中度非常高。目前,中国已经可以量产G线、I线、KrF三大类光刻胶。南大光电计划通过3年的建设、投产及实现销售,达到年产25吨193nm(ArF干式和浸没式)光刻胶产品的生产规模,未来将攻关EUV光刻胶。 解决光刻难题 从非核心开始起步 我国发展半导体产业,光刻技术是绕不开的课题,以国内目前薄弱的基础,短期内攻克EUV设备并不现实。对此,莫大康指出,高性能光刻技术对中国企业来说成本高昂,但是其战略意义不容忽视。中国要推进完整的光刻工业体系的发展,只能采取从低到高的策略,比如193nm深紫外ArF干式光刻机、浸没式光刻机,以及周边设备材料等,EUV是整套体系中最困难的一块。 “要实现强大的功能,EUV就必须克服电能消耗以及光源等因素的影响。”中国电子科技集团公司第四十五研究所集团首席专家柳滨表示,EUV虽然售价超过了一亿美元,但是高额的价格并不是它最大的问题。EUV最大的问题是电能消耗。其电能消耗是传统193nm光刻机的10倍,因为极紫外光的波长仅有13.5nm,投射到晶圆表面曝光的强度只有光进入EUV设备光路系统前的2%。在与7nm成本比较中,7nm的EUV生产效率在80片/小时的耗电成本将是14nm的传统光刻生产效率在240片/小时的耗电成本的一倍,这还不算设备购置成本和掩膜版设计制造成本。 除了电能以及光源,光刻胶也是EUV技术另一个需要面对的问题。据专家介绍,光刻胶本身对于光的敏感度就十分高,但是对于不同波长的光源,光刻胶的敏感度也有差异,这就对EUV光刻机产生了一些要求。光刻机选择的波长必须和光刻胶对应的波长处于同一个波段,这样才能提升光刻胶对于光源的吸收率,从而更好地实现化学变化。 莫大康表示,极紫外光刻虽然领先,但正因如此也存在许多需要改进的空间。因此,国内厂商先在DUV等领域站住脚跟,从周边设备与材料切入,逐步解决产业中存在的问题,把产业做扎实,不失为一个有效的策略。
  • 《光伏大变局已到,谁会是下一代主流技术?》

    • 来源专题:能源情报网信息监测服务平台
    • 编译者:guokm
    • 发布时间:2022-10-10
    • 2022年,对整个世界来说,是一个充满挑战的年头。新冠疫情尚未完全结束,俄乌危机又接踵而来,在这个复杂动荡的国际局势中,全球各国对能源安全的需求与日俱增。 为了应对未来日益增长的能源缺口,光伏行业引来了爆发式的增长,同时,各家企业也在积极推进新一代光伏电池技术,以抢占市场高地。 本文将复盘电池技术的发展历程,分析两条主要技术路线的优缺点,以及主流光伏公司在未来电池片迭代中的路线选择。 01 光伏发电逻辑与技术迭代 在分析电池片技术迭代路线之前,我们需要先了解光伏发电的原理。 光伏发电是利用半导体界面的光生伏特效应而将光能直接转变为电能的一种技术,其主要原理则是半导体的光电效应:光照使不均匀半导体或半导体与金属结合的不同部位之间产生电位差的现象。 光子照射到金属上,能量可以被金属中某个电子全部吸收,这个电子便可以从金属表面逃逸,成为光电子。硅原子有4个外层电子,如果在硅材料中掺入有5个外层电子的磷原子,便可以形成N型硅片;如果在硅材料中掺入有3个外层电子的硼原子,便可以形成P型硅片。” 而P型电池片与N型电池片分别由P型硅片与N型硅片通过不同的技术制备而成。 效率提升是光伏电池发展永恒不变的主题。 在这条技术升级路上,“降本”与“增效”并行不怠。 2015年之前,铝背场(BSF)电池片占据了几乎整个市场。 铝背场电池是最传统的电池路线:在晶硅光伏电池P-N结制备完成后,通过在硅片的背光面沉积一层铝膜,制备P+层,从而形成铝背场,形成了高低结电场,提高了开路电压。 但铝背场电池的耐辐照性能较差,同时其极限转化效率只有20%,实际转化率更低,虽然近年来产业内对BSF电池进行了工艺上的改进,但因其先天局限性,改进幅度并不大,这也成为了它注定要被取代的原因。 2015年之后,Perc电池片市占率快速提升。 Perc电池片是从常规铝背场电池片升级而来,通过在电池背面附上介质钝化层,成功减少了光电损失,提高转化效率。 2015年,是光伏电池技术变革的元年,在这一年,Perc技术完成了商业化,电池量产效率首次超过铝背场电池20%的极限转化效率,正式进入量产阶段。 转化效率代表着更高的经济效益。Perc电池片在量产后市占率快速提升,进入高速成长阶段,市占率则由2016年的10.0%爬升至2021年的91.2%。目前已经成为市场主流的电池片制备技术。 在转化效率方面,2021年规模化生产的Perc电池平均转换效率达到了23.1%,较2020年提高了0.3%。最高转化效率则是由隆基绿能在2019年1月创造,最高效率达 24.06%(CPVT认证)。 从理论极限效率来看,据德国哈梅林太阳能研究所测算,P型单晶硅Perc电池理论极限效率为24.5%,目前已十分逼近理论极限效率,未来提升空间有限。 但目前Perc是最主流的电池片技术,据CPIA预计,到2022年PERC电池量产效率将达23.3%,产能占比将超过80%,市场份额仍将稳居第一。 当前N型电池转化效率优势明显,将成为下一代主流方向。 前面已经介绍过N型电池片的工作原理,两种电池的理论依据没有本质上的差异,但由于扩散B元素和P元素在世纪工艺上存在着差异,导致二者在工业生产中面临不同的挑战和发展前景。 P型电池的制备工艺相对简单,成本较低,但在转化效率上却与N型电池有一定差距,而N型电池的工艺较为复杂,但具有转换效率高、无光衰、弱光效应好等优点。 N型电池中,实现小规模量产的电池片技术路线主要包括TOPCon、HJT和IBC三种,其中由以TOPCon与HJT两条路线为主导,现处于大规模商业化的前期阶段。根据CPIA预测,2030年,N型电池的市占率或将达到56%左右,前景十分广阔。 在转换效率上,HJT和TOPCon极限效率分别为27.5%、28.7%,两者不相上下,但都超过了P型电池的极限效率,未来HJT叠加IBC和钙钛矿,可将转换效率进一步提升至30%。远超P型电池的转化效率意味着更高的经济效应。 在成本上,N型P型硅片的成本差距在逐步缩小。以中环210尺寸150μm厚硅片为例,N型硅片较P型硅片溢价率约为6%,较过去有大幅下降。HJT电池的低温加工工艺更适合薄片化工艺,可进一步降低N型硅片的成本溢价。 随着光伏设备和材料的国产化日趋成熟,对于更高效电池的追求成为市场的选择,N型电池提效降本空间更大的优势便体现了出来,2021年也成为了N型电池加速量产的关键时点。 02 TOPCon vs HJT,谁抢技术先机? 尽管N型电池有多种,但目前得到大多数公司青睐,有望商业化普及的只有两条路线。一路是以TOPCon为代表的延续性创新技术,工艺与P型电池时代的Perc技术一脉相传;另一路则是以HJT为代表的颠覆性创新技术,其工艺更加简单,未来提效空间大,但并不与Perc产线互通。 目前已经来到了技术迭代的时间点,开始了实战的对垒阶段,两种技术各有优劣,在性价比、工艺难度、转换效率、未来发展等角度均有所不同。 第一:TOPCon当前更具性价比,HJT长期降本空间大。 TOPCon相比Perc工艺流程只增加2-3步,在Perc工艺技术的基础上,只需对原有扩散炉和PECVD进行改造,或者购置LPCVD,即可完成产线升级。 而HJT则与现有的Perc产线不兼容,需要重置设备,加之HJT双面都需要使用电阻率较高的低温银浆,耗材成本更高,在转换效率没有明显差距的情况下,TOPCon更具性价比。 但是,未来伴随着工艺的进一步成熟,下游需求增加,可通过增大产量来降低成本,同时,设备国产化、硅片薄片化、金属化也在加速的路上,预计2023年HJT与其他电池成本差距将大幅收窄。 第二:TOPCon转换效率居于榜首,HJT转换效率提升空间大。 从理论极限效率来看,根据权威测试机构德国哈梅林太阳能研究所(ISFH)测算,TOPCon电池的理论极限效率达到 28.7%,高于HJT的27.5%,在当前实际的生产中,TOPCon转化效率也确实优于HJT。 但HJT未来转换效率提升空间更大。HJT电池可以采用叠加IBC和钙钛矿等技术,进一步提高转换效率,最高有望提升至30%以上。 第三:TOPCon制造工艺繁杂,HJT工艺流程极短。 TOPCon的氧化层钝化接触制备有超过三种不同的细分工艺路线,不同厂商制备流程不统一,且总工序约为12-13步,所需的设备数量、人力资源、车间面积都将高于传统的PERC电池。 此外,TOPCon的硼扩散难度较高,所需温度超过900℃,且硼在硅中的固溶度低,导致难以得到高浓度发射区,但若硼浓度太高,则会导致硼原子不激活,产生死层。 相比之下,HJT只需4道核心工序——绒清洗、非晶硅薄膜沉积、TCO薄膜沉积、电极金属化,相较于TOPCon来说所需设备较少,工艺相对简单,可以快速提高产品良率。 第四:TOPCon拥有现在,HJT掌握未来。 从短期来看TOPCon经济效应更高,可直接由Perc产线改造升级而成,并且当下的转换效率更高。 从中长期来看,HJT是业内相对更认可的技术路线,伴随着降本增效的推进,未来HJT将会更加受到青睐。 03 不同企业选择不同 在光伏电池处于技术迭代的关键时点,各电池设备企业站在了自身生产的角度,在转换效率和成本间做出平衡,以最大化设备的性价比。 而不同的企业又有着各自特有的情况,也导致他们选择了不同的技术路线。 不同公司,押宝不同技术。 TOPCon产线可由Perc产线直接改进而来,对于那些有着大量Perc产线的企业有着巨大的吸引力。晶科能源、钧达股份等公司便选择了TOPCon,除转换成本低之外,他们还看上了当前效率高,放量早的优点。 据统计,截至2022年6月15日,国内已建成的TOPCon产能为30.55GW,在建/待建产能为178.8GW。在建产能中,预计有62.30GW产能将在年内投产。 HJT产线因其代表着未来技术方向,并需要重新购置成本,受到了“新晋玩家”的喜爱。HJT则主要是东方 日升、爱康科技、迈为股份等公司在主导。 东方 日升证券部人员对我们表示,“毋庸置疑我们选择了HJT技术,我们的方向是降低HJT的成本,目前通过设备国产化、硅片轻薄化,降本已经卓有成效,在投资产出期间,我们认为HJT路线也是比较合适的,我们看好HJT技术的未来,预计明年将会有量产”。 据不完全统计,虽然目前国内HJT的投产产能仅为 8.1GW,且多数为中试线。但因其降本路线清晰,未来潜能较大,国内已规划产能达到了162.7GW。 除TOPCon与HJT技术路线外,也有公司另辟蹊径,走出了自己的道路。 在两种技术方向的争执中,爱旭股份显得格格不入。在大多数企业选择从TOPCon、HJT技术入手,而爱旭却直奔IBC技术路线,并以此为基础推出N型ABC自有专利技术电池。 在与爱旭股份人员交流中,其表示即将实现ABC电池片的量产,“我们曾做过HJT与TOPCon的研究,但我们认为ABC是更好的选择。ABC的转化效率高,已达25.5%,并且采用了非银工艺,成本预计可以与Perc打平”。 龙头企业多管齐下。 在技术迭代的岔路口,错误的抉择可能将公司推向万劫不复。底蕴深厚的行业龙头们自然不能选择某种技术ALL IN。 在与隆基绿能的内部人员交流中,对方表示两种技术在不同的阶段都有优势,目前TOPCon技术商业化更加成熟,而HJT当下成本过高,所以已经开始推进TOPCon产线的落地。 但TOPCon产线的落地并不意味着放弃HJT,由于HJT长期降本空间较大,公司仍然在实验室进行HJT的研发,后续还需要看设备投资与低温银浆成本下降幅度。 “技术的进步是很难被人为精准判断的,还是要看实验室中研究推进的情况如何”,隆基绿能内部人员认为。 无独有偶,晶澳科技证券部人员也对我们表示,“目前TOPCon量产后转化效率较高,而HJT则并没有达到预期的转化效率,从性价比的角度来看,对于我们公司来说HJT不具备大规模量产的条件”。 不过对方还表示,晶澳不会选择“一条腿”走路,目前仍在加速推进HJT的研究,如果出现了新的突破或成本快速下降,完全可以在短期内开始HJT产线的建设,第一时间投入量产。 总的来说,光伏电池片技术迭代加速的当下,TOPCon和HJT仍将并行发展,并不存在谁更优秀的情况。但就现阶段量产的进度来看,TOPCon有望率先打开市场,但最终谁主沉浮还需假以时日。 04 写在最后 “降本”与“增效”作为光伏电池片迭代的主旋律,穿插在了整个发展史中。 2022年,光伏N型电池的“大幕”已经拉开,光伏片企业又站上了技术升级的风口,选择也摆在了公司的面前——当下性价比高的TOPCon?未来前景明朗的HJT?更加先进的HBC技术?亦或是多管齐下,同时推进?赛道内企业的一举一动,都会引来产业界、资本市场的关注。 TOPCon和HJT的量产竞争可能才刚刚开始,未来仍将并行发展,短期内也不存在谁绝对占优的情况,鹿死谁手犹未可知。亦或两者共存,你追我赶,共同推进行业的进步。