《英国开设全球第二个5纳米以下电子束光刻中心》

• 来源专题：光电信息技术
• 编译者： 王靖娴
• 发布时间：2025-05-09
• 原文来源：https://www.eepw.com.cn/article/202505/470191.htm

【内容概述】据电子产品世界5月8日报道，英国南安普敦大学宣布成功开设了一个尖端电子束光刻（EBL）中心。这是日本以外全球首个分辨率达5纳米以下的中心，也是欧洲首个此类电子束光刻中心。该中心能够制造下一代半导体芯片。

     据南安普敦大学介绍，该电子束光刻中心采用日本JEOL公司的加速电压直写电子束光刻系统，是全球第二台200kV系统（JEOL JBX-8100 G3），第一台在日本。该系统可在200毫米晶圆上实现低于5纳米级精细结构的分辨率处理，适用于厚至10微米的光刻胶，侧壁几乎垂直，有助于开发电子和光子学领域研究芯片中的新结构。JEOL的另一款100kV EBL设备（JBX-A9）将用于支持更大批量的300毫米晶圆。

    目前，JEOL的加速电压直写电子束光刻系统（JEOL JBX-8100 G3）已安装在南安普顿大学蒙巴顿综合大楼内一个专门建造的820平方米洁净室内。