在电子束(电子束)光刻中使用的现有化学物质会产生安全和废物管理问题。为了取代它们,壳聚糖是一种天然而丰富的溶于水的溶液,它被认为是一种对两层电子束光刻技术的一种积极和水的抗蚀性,它是一种用二氧化硅蚀刻的掩膜。在壳聚糖膜上,通过电子束光刻技术成功地获得了50纳米线的图案,在160-300 c cm 2之间,然后通过CHF3等离子体反应离子蚀刻技术,将其转化为硅层。