《美国空军的GaN技术将转移到BAE Systems的高级微波产品中心》

  • 来源专题:集成电路
  • 编译者: Lightfeng
  • 发布时间:2018-09-23
  • BAE系统公司与美国空军研究实验室(AFRL)签署了一项合作协议,旨在将美国空军开发的氮化镓(GaN)半导体技术转移到高级微波产品(AMP)中心。

    作为努力的一部分,BAE Systems将接受转移和进一步增强该技术,将其扩展到6英寸晶圆,以降低每芯片成本,并加强防御系统来控制关键技术的可访问性。

    AMP主管Scott Sweetland说:“今天的毫米波GaN半导体是在研发实验室低量生产,并且相关成本高,或者是生产于国防供应商无法广泛使用的专属铸造厂。这项工作将利用AFRL的高性能技术和BAE Systems的6英寸制造能力,推动GaN MMIC性能,使其更加可靠和实惠,同时促进这一关键技术更广泛的使用。”

    该项目的工作将主要在BAE Systems的70,000ft2微电子中心(MEC)进行,自2008年以来,MEC一直是DoD 1A类可信赖供应商。

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    • 编译者:Lightfeng
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    • BAE系统公司已经完成了第一阶段的工作,即将美国空军开发的短栅氮化镓(GaN)技术过渡到位于美国新罕布什尔州纳舒厄的高级微波产品(AMP)中心,并且空军研究实验室(AFRL)也已将其选为该计划的第二阶段。 GaN技术以紧凑的形式提供了高效率和宽带带宽功能,可以集成到各种系统中,以实现下一代雷达,电子战(EW)和通信。 作为第二阶段的一部分,BAE Systems FAST Labs的研发团队和AMP中心将合作进一步开发,并提高该技术的就绪性。具体而言,该项目将把140nm GaN单片微波集成电路(MMIC)技术扩展到6英寸晶圆,并提高其成熟度制造水平,其中包括优化性能,确保过程稳定性,以及最大程度地提高晶圆均匀性和晶圆良率。Engic IC将支持设计活动,包括过程设计工具包(PDK)验证。这项技术将过渡到铸造服务产品,通过BAE系统的开放铸造服务,在第2阶段结束时,该技术可以在不同的政府计划中被广泛地利用。 BAE Systems FAST Labs的先进电子产品线总监Chris Rappa说:“我们的铸造厂是国防界最信赖的合作伙伴,因为我们致力于短栅GaN等重要技术的设计和实施,GaN技术满足了国防部对低成本,高性能放大器技术的需求,而这项工作的第二阶段将AFRL技术进一步推向市场。” GaN在内的微电子技术的开发和研究主要在BAE系统公司70000平方英尺(约6503平方米)的微电子中心(MEC)进行。自2008年以来,MEC一直是美国国防部(DoD)认可的供应商,并为国防部计划量产集成电路。
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    • 编译者:张卓然
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    • 英特尔代工服务部(IFS)已与ARM就英特尔18A 1.8纳米半导体工艺签署了一项长期协议。 此次合作将首先专注于移动片上系统(SoC)设计,但允许潜在的设计扩展到汽车、物联网(IoT)、数据中心、航空航天和政府应用。这笔交易是针对“多代”核心的,尽管ARM没有具体说明是哪一代。目前使用ARMv7和v8代内核上,并正在开发ARMv9-A。 英特尔强调“强大的制造业足迹,包括美国和欧盟的产能”,以利用全球贸易的不确定性进行本地生产。 英特尔代工服务部和ARM将为英特尔18A工艺技术的核心进行设计技术协同优化(DTCO)。这里有两种新技术,用于背面功率传输的PowerVia和用于更高性能和功率效率的RibbonFET栅极全方位(GAA)晶体管架构。 英特尔代工服务部和ARM将开发一个移动参考设计,为代工客户展示软件和系统知识。两家公司还在研究系统技术协同优化(STCO),以优化从应用程序和软件到封装和芯片的平台。