瑞士Eulitha公司已经启动了新的PhableX系列光刻系统，用于量产光子器件，以满足客户不断增长的需求。这些系统与Eulitha现有的PhableR系列使用相同的专有置换塔尔博特平版印刷（DTL）原理，不同的是PhableX基于全新开发的平台，可实现高通量、自动运行。
许多新的光子设备都需要产生亚微米范围内的特征尺寸，例如AR / VR眼镜中的波导分布式反馈（DFB）激光器，电信光栅或光学生物传感器等。Eulitha通过其专有的DTL技术满足了这一不断增长的需求，该技术可实现所需图案的低成本平版印刷。DTL能够在大面积上印刷免拼接图案，因此特别适合满足光子学行业的需求。该技术获得专利的无焦点成像技术，可以在非平坦基材上进行均匀印刷。与竞争性的纳米压印光刻技术不同，DTL是一种非接触式方法，可大大降低工艺复杂性，器件缺陷率和良率损失。
新的PhableX平台提供了行业标准光源，包括i-line，KrF（248nm）和ArF（193nm）光源，具体取决于应用的分辨率要求。可以使用为制造半导体器件而开发的相同的最新光刻胶产品来打印介于60nm至几微米之间的特征尺寸。该平台目前可用于尺寸介于100mm至200mm之间的晶圆。主要的掩模制造商都可以提供针对DTL技术特定需求而开发的光掩模。PhableX模型的第一个示例已交付给选定的客户，并收到了更多安装的订单。
