纳米压印光刻[1][2][3]是一种经过验证的生产技术，可用于各种应用，从制造微透镜[4]到用于垂直腔面发射激光器(vcsel)[5]的生产。
在大多数应用中，纳米压印是在晶片尺度上进行的。滚轴基纳米压印技术很早就被认为适用于较大的[6]区域。基于卷对卷的纳米压印[7][8][9]已经经历了几个发展阶段。然而，在辊到板无利用刚性基板的情况下，已大大减少了精细化。
为了解决大面积纳米压印在不透明和刚性基板上的局限性，Stensborg开发了一种基于紫外光的卷板式纳米压印工具。它是建立在我们的专利概念[10]，并包括一个透明辊和基板的翻译阶段。一个半透明的印版或印章可以连接到辊。这个滚筒包含紫外线的光源。一系列的UV-LEDs发光，直接照射到nip。压痕是辊与基板相接的地方。
目前生产和安装的设备管理的基板尺寸最大可达30 x 60平方厘米，板厚最大可达10毫米。印刷速度可从每分钟1米到10米不等。槽模涂层和喷墨打印设备是可安装的选项，包括大面积的涂层能力。
史丹斯堡已经进行了初步的刻印试验。为了进行这些研究，将玻璃基板固定在花岗岩基板上。在玻璃基板上附着一种聚合物箔，并在槽模涂层上涂上一种uv固化的压印材料。
地物的周期随高度变化了几个数量级。标准印刷全息图结构如图3所示。该装置在UV-imprinting(包括印版)中的图像如图4所示。
由于所评估的材料组合，分离非常有效。不需要在玻璃基板上粘贴聚合物箔，以便在印模之后进行有效的分离。
用可紫外光固化的树脂材料或可紫外光固化的PDMS制成的印版与来自Stensborg的X29抗印剂一起使用。在这两种组合中，分离都是瞬间进行的，所以箔片会从印版中分离出来。
Stensborg公司将发表更多具有更大范围的微观和纳米尺度特征的印迹结果，以及更大范围的uv固化材料涂层的结果。
