《UVFAB推出HELIOS-1200 300mm晶圆紫外线臭氧清洁和表面处理系统》

  • 来源专题:集成电路
  • 编译者: Lightfeng
  • 发布时间:2018-12-16
  • 美国的UVFAB Systems公司(一家生产紫外线(UV)和臭氧表面处理设备的公司)已推出HELIOS-1200系统,作为HELIOS系列紫外线臭氧清洗系统的第二款产品。

    HELIOS-1200的设计非常紧凑,并且重量轻,价格极具竞争力。它包括一个高强度UV格栅灯,可提高均匀度,还有一个数字处理计时器,可以更精确地控制处理时间。抽屉装载样品台可使用预制基板支架容纳12”x12”的基板,一个300mm晶圆,一个200mm晶圆或四个100mm晶圆。出于维护目的,该系统还配有内置计时器,以跟踪紫外灯的使用寿命。

    UV臭氧清洁是光致敏化氧化过程,其中光致抗蚀剂、油脂类物质、清洁溶剂残留物,硅油和助熔剂等污染物分子通过吸收短波紫外线辐射而被激发或离解。使用紫外线臭氧清洁剂可以在几分钟内完成清洁,而不会对设备造成任何损害。

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