《从衬底、外延片、制造及IDM分类盘点国内氮化镓主要企业》

  • 来源专题:集成电路
  • 编译者: shenxiang
  • 发布时间:2019-09-12
  • 日前,华为旗下哈勃投资入股山东天岳的消息,以碳化硅(SiC)、氮化镓(GaN)为代表的第三代半导体材料再次走入大众视野,引起业界重点关注。

    事实上,随着半导体技术不断进步,对半导体器件性能、效率、小型化要求的越来越高,传统硅半导体材料逐渐无法满足性能需求,碳化硅、氮化镓等第三代半导体材料凭借着优异的性能,早已成为当前世界各国竞相布局的焦点,我国在加速发展集成电路产业的同时,把发展第三代半导体技术列入国家战略。

    如今5G时代到来,将推动半导体材料实现革命性变化。其中,氮化镓器件以高性能特点广泛应用于通信、国防等领域,其市场需求有望在5G时代迎来爆发式增长。风口来临,我国目前有哪些企业在布局?下面将从衬底、外延片、制造及IDM几大分类盘点国内氮化镓主要企业。

    GaN衬底企业

    · 东莞市中稼半导体科技有限公司

    东莞市中镓半导体科技有限公司成立于2009年1月,总部设于广东东莞,总注册资本为1.3亿元人民币,总部设立厂房办公区等共17000多平方米,并在北京有大型研发中心,为中国国内一家专业生产氮化镓衬底材料的企业。

    官网显示,中镓半导体已建成国内首家专业的氮化镓衬底材料生产线,制备出厚度达1100微米的自支撑GaN衬底,并能够稳定生产。2018年2月,中镓半导体实现4英寸GaN自支撑衬底的试量产。

    · 东莞市中晶半导体科技有限公司

    东莞市中晶半导体科技有限公司成立于2010年,是广东光大企业集团在半导体领域继中镓半导体、中图半导体后布局的第三个重点产业化项目。

    中晶半导体主要以HVPE设备等系列精密半导体设备制造技术为支撑,以GaN衬底为基础,重点发展Mini/MicroLED外延、芯片技术,并向新型显示模组方向延展;同时,中晶半导体将以GaN衬底材料技术为基础,孵化VCSEL、电力电子器件、化合物半导体射频器件、车灯封装模组、激光器封装模组等国际前沿技术,并进行全球产业布局。

    · 苏州纳维科技有限公司

    苏州纳维科技有限公司成立于2007年,致力于氮化镓单晶衬底的研发与产业化,实现了2英寸氮化镓单晶衬底的生产、完成了4英寸产品的工程化技术开发、突破了6英寸的关键技术,现在是国际上少数几家能够批量提供2英寸氮化镓单晶产品的单位之一。

    据官网介绍,目前纳维科技GaN单晶衬底产品已提供给300余家客户使用,正在提升产能向企业应用市场发展,重点突破方向是蓝绿光半导体激光器、高功率电力电子器件、高可靠性高功率微波器件等重大领域。

    · 镓特半导体科技(上海)有限公司

    镓特半导体科技(上海)有限公司成立于2015年4月,主要从事大尺寸的高质量、低成本氮化镓衬底的生长,以推动诸多半导体企业能够以合理价来购买并使用氮化镓衬底。镓特半导体已自主研发出HVPE设备,并用以生长高质量的氮化镓衬底。

    官网显示,借助自主研发的HVPE设备,镓特半导体已成功生长出4英寸的自支撑氮化镓衬底。镓特半导体表示,未来几年内将建成全球最大的氮化镓衬底生长基地,以此进一步推广氮化镓衬底在半导体材料市场上的广泛应用,并将依托自支撑GaN衬底进行中下游的高端LED、电力电子及其他器件的研发和制造。

    GaN外延片企业

    · 苏州晶湛半导体有限公司

    苏州晶湛半导体有限公司成立于2012年3月,致力于氮化镓(GaN)外延材料的研发和产业化。2013年8月,晶湛半导体开始在苏州纳米城建设GaN外延材料生产线,可年产150mm氮化镓外延片2万片;2014年底,晶湛半导体发布其商品化8英寸硅基氮化镓外延片产品。

    官网介绍称,截至目前,晶湛半导体已完成B轮融资用于扩大生产规模,其150mm的GaN-on-Si外延片的月产能达1万片。晶湛半导体现已拥有全球超过150家的著名半导体公司、研究院所客户。

    · 聚能晶源(青岛)半导体材料有限公司

    聚能晶源(青岛)半导体材料有限公司成立于2018年6月,专注于电力电子应用的外延材料增长。针对外延材料市场,聚能晶源正在开发硅基氮化镓材料生长技术并销售硅基氮化镓外延材料作为产品。

    2018年12月,聚能晶源成功研制了达到全球业界领先水平的8英寸硅基氮化镓(GaN-on-Si)外延晶圆。该型外延晶圆在实现了650V/700V高耐压能力的同时,保持了外延材料的高晶体质量、高均匀性与高可靠性,可以完全满足产业界中高压功率电子器件的应用需求。

    · 北京世纪金光半导体有限公司

    北京世纪金光半导体有限公司成立于2010年12月,经过多年发展,世纪金光已成为集半导体单晶材料、外延、器件、模块的研发、设计、生产与销售于一体的、贯通第三代半导体全产业链的企业。

    在碳化硅领域,世纪金光已实现碳化硅全产业链贯通,氮化镓方面,官网显示其目前则以氮化镓基外延片为主。

    · 聚力成半导体(重庆)有限公司

    聚力成半导体(重庆)有限公司成立于2018年9月,是重庆捷舜科技有限公司在大足区设立的公司。2018年9月,重庆大足区政府与重庆捷舜科技有限公司签约,拟在重庆建设“聚力成外延片和芯片产线项目”。

    2018年11月,聚力成半导体(重庆)有限公司举行奠基仪式,项目正式开工。该项目占地500亩,计划投资50亿元,将在大足高新区建设集氮化镓外延片、氮化镓芯片的研发与生产、封装测试、产品设计应用为一体的全产业链基地。2019年6月5日,该项目一期厂房正式启用,预计将于今年10月开始外延片的量产。

    GaN制造企业

    · 成都海威华芯科技有限公司

    成都海威华芯科技有限公司成立于2010年,是国内首家提供6英寸砷化镓/氮化镓微波集成电路的纯晶圆代工企业。据了解,海威华芯由海特高新和央企中电科29所合资组建,2015年1月,海特高新以5.55亿元收购海威华芯原股东股权,并以增资的方式取得海威华芯52.91%的股权成为其控股股东,从而涉足高端化合物半导体集成电路芯片研制领域。

    海威华芯6英寸第二代/第三代半导体集成电路芯片生产线已于2016年8月投入试生产。官网显示,海威华芯已开发了5G中频段小于6GHz的基站用氮化镓代工工艺、手机用砷化镓代工工艺,发布了毫米波频段用0.15um砷化镓工艺。砷化镓VCSEL激光器工艺、电力电子用硅基氮化镓制造工艺在2019年也取得了较大的进展。

    · 厦门市三安集成电路有限公司

    厦门市三安集成电路有限公司成立于2014年,是LED芯片制造公司三安光电下属子公司,基于氮化镓和砷化镓技术经营业务,是一家专门从事化合物半导体制造的代工厂,服务于射频、毫米波、功率电子和光学市场,具备衬底材料、外延生长以及芯片制造的产业整合能力。

    三安集成项目总规划用地281 亩,总投资额30亿元,规划产能为30万片/年GaAs高速半导体外延片、30万片/年GaAs高速半导体芯片、6万片/年GaN高功率半导体外延片、6万片/年GaN高功率半导体芯片。官网显示,三安集成在微波射频领域已建成专业化、规模化的4英寸、6英寸化合物晶圆制造产线,在电子电路领域已推出高可靠性、高功率密度的SiC功率二极管及硅基氮化镓功率器件。

    · 华润微电子有限公司

    华润微电子有限公司是华润集团旗下负责微电子业务投资、发展和经营管理的企业,亦是中国本土具有重要影响力的综合性微电子企业,其聚焦于模拟与功率半导体等领域,业务包括集成电路设计、掩模制造、晶圆制造、封装测试及分立器件,目前拥有6-8英寸晶圆生产线5条、封装生产线2条、掩模生产线1条、设计公司3家,为国内拥有完整半导体产业链的企业。

    2017年12月,华润微电子完成对中航(重庆)微电子有限公司(后更名为“华润微电子(重庆)有限公司”)的收购,重庆华润微电子采用8英寸0.18微米工艺技术进行芯片生产,并在主生产线外建有独立的MEMS和化合物半导体工艺线,具备氮化镓功率器件规模化生产制造能力。

    · 杭州士兰微电子股份有限公司

    杭州士兰微电子股份有限公司成立于成立于1997年,专业从事集成电路芯片设计以及半导体相关产品制造,2001年开始在杭州建了第一条5英寸芯片生产线,现已成为国内集成电路芯片设计与制造一体(IDM)企业。

    近年来,士兰微逐步布局第三代化合物功率半导体。2017年,士兰微打通一条6英寸的硅基氮化镓功率器件中试线。2018年10月,士兰微厦门12英寸芯片生产线暨先进化合物半导体生产线开工,其中4/6英寸兼容先进化合物半导体器件生产线总投资50亿元,定位为第三代功率半导体、光通讯器件、高端LED芯片等。

    GaN IDM企业

    · 苏州能讯高能半导体公司

    苏州能讯高能半导体有限公司成立于2011年,致力于宽禁带半导体氮化镓电子器件技术与产业化,为5G移动通讯、宽频带通信等射频微波领域和工业控制、电源、电动汽车等电力电子领域等两大领域提供高效率的半导体产品与服务。

    能讯半导体采用整合设计与制造(IDM)的模式,自主开发了氮化镓材料生长、芯片设计、晶圆工艺、封装测试、可靠性与应用电路技术,目前公司拥有专利256项。该公司在江苏建有一座氮化镓(GaN)电子器件工厂,厂区占地55亩,累计投资10亿元。

    · 江苏能华微电子科技发展有限公司

    江苏能华微电子科技发展有限公司成立于2010年6月,是由国家相关人才计划专家朱廷刚博士领衔的、由留美留澳留日归国团队创办的一家专业设计、研发、生产、制造和销售以氮化镓为代表的复合半导体高性能晶圆、以及用其做成的功率器件、芯片和模块的高科技公司。

    能华微电子先后承担了国家电子信息产业振兴和技术改造专项的大功率GaN功率电子器件及其材料的产业化项目、国家重点研发计划战略性先进电子材料重点专项的GaN基新型电力电子器件关键技术项目等。2017年,能华微电子建成8英寸氮化镓芯片生产线并正式启用。

    · 英诺赛科(珠海)科技有限公司

    英诺赛科(珠海)科技有限公司成立于2015年12月,该公司采用IDM 全产业链模式,致力于打造一个集研发、设计、外延生长、芯片制造、测试与失效分析为一体的第三代半导体生产平台。2017年11月,英诺赛科的8英寸硅基氮化镓生产线通线投产,成为国内首条实现量产的8英寸硅基氮化镓生产线,主要产品包括30V-650V氮化镓功率与5G射频器件。

    2018年6月,总投资60亿元的英诺赛科苏州半导体芯片项目开工,今年8月30日项目主厂房封顶,预计12月底生产设备正式进厂,2020年可实现规模化量产。该项目聚焦在氮化镓和碳化硅等核心产品,将打造将成为集研发、设计、外延生产、芯片制造、分装测试等于一体的第三代半导体全产业链研发生产平台。

    · 大连芯冠科技有限公司

    大连芯冠科技有限公司成立于2016年3月,该公司采用整合设计与制造(IDM)的商业模式,主要从事第三代半导体硅基氮化镓外延材料及电力电子器件的研发、设计、生产和销售,产品应用于电源管理、太阳能逆变器、电动汽车及工业马达驱动等领域。

    官网介绍称,芯冠科技已建成首条6英寸硅基氮化镓外延及功率器件晶圆生产线。2019年3月,芯冠科技在国内率先推出符合产业化标准的650伏硅基氮化镓功率器件产品(通过1000小时HTRB可靠性测试),并正式投放市场。

    · 江苏华功半导体有限公司

    江苏华功半导体有限公司成立于2016年5月,注册资本为2亿元人民币,一期投入10亿元人民币。官网介绍称,目前公司已全面掌握大尺寸Si衬底高电导、高耐压、高稳定性的GaN外延技术并掌握具有自主知识产权的增强型功率电子器件制造技术。

    根据官网显示,华功半导体可提供2英寸、4英寸、6英寸及8英寸GaN-on-Si功率电子器件用外延片产品,并基于华功自有知识产权的GaN-on-Si外延技术设计和制造,提供650V/5A-60A系列化高速功率器件。

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    • 半导体设备和材料处于产业链的上游,是推动技术进步的关键环节。半导体设备和材料应用于集成电路、LED等多个领域,其中以集成电路的占比和技术难度最高。 IC制造工艺流程及其所需设备和材料 半导体产品的加工过程主要包括晶圆制造(前道,Front-End)和封装(后道,Back-End)测试,随着先进封装技术的渗透,出现介于晶圆制造和封装之间的加工环节,称为中道(Middle-End)。 由于半导体产品的加工工序多,所以在制造过程中需要大量的半导体设备和材料。在这里,我们以最为复杂的晶圆制造(前道)和传统封装(后道)工艺为例,说明制造过程所需要的设备和材料。 IC晶圆生产线的主要生产区域及所需设备和材料 晶圆生产线可以分成7个独立的生产区域:扩散(Thermal Process)、光刻(Photo- lithography)、刻蚀(Etch)、离子注入(Ion Implant)、薄膜生长(Dielectric Deposition)、抛光(CMP)、金属化(Metalization)。 这7个主要的生产区域和相关步骤以及测量等都是在晶圆洁净厂房进行的。在这几个生产区都放置有若干种半导体设备,满足不同的需要。例如在光刻区,除了光刻机之外,还会有配套的涂胶/显影和测量设备。 先进封装技术及中道(Middle-End)技术 IC晶圆制造流程图 IC晶圆生产线的主要生产区域及所需设备和材料 传统封装工艺流程 传统封装(后道)测试工艺可以大致分为背面减薄、晶圆切割、贴片、引线键合、模塑、电镀、切筋/成型和终测等8个主要步骤。与IC晶圆制造(前道)相比,后道封装相对简单,技术难度较低,对工艺环境、设备和材料的要求也低于晶圆制造。 传统封装的主要步骤及所需设备和材料 主要半导体设备及所用材料 1) 氧化炉 设备功能:为半导体材料进行氧化处理,提供要求的氧化氛围,实现半导体预期设计的氧化处理过程,是半导体加工过程的不可缺少的一个环节。 所用材料:硅片、氧气、惰性气体等。 国外主要厂商:英国Thermco公司、德国Centrothermthermal Solutions GmbH Co.KG公司等。 国内主要厂商:七星电子、青岛福润德、中国电子科技集团第四十八所、青岛旭光仪表设备有限公司、中国电子科技集团第四十五所等。 2) PVD(物理气相沉积) 设备功能:通过二极溅射中一个平行于靶表面的封闭磁场,和靶表面上形成的正交电磁场,把二次电子束缚在靶表面特定区域,实现高离子密度和高能量的电离,把靶原子或分子高速率溅射沉积在基片上形成薄膜。 所用材料:靶材、惰性气体等。 国外主要厂商:美国应用材料公司、美国PVD公司、美国Vaportech公司、英国Teer公司、瑞士Platit公司、德国Cemecon公司等。 国内主要厂商:北方微电子、北京仪器厂、沈阳中科仪器、成都南光实业股份有限公司、中国电子科技集团第四十八所、科睿设备有限公司等。 3) PECVD 设备功能:在沉积室利用辉光放电,使反应气体电离后在衬底上进行化学反应,沉积半导体薄膜材料。 所用材料:特种气体(前驱物、惰性气体等)。 国外主要厂商:美国Proto Flex公司、日本Tokki公司、日本岛津公司、美国泛林半导体(Lam Research)公司、荷兰ASM国际公司等。 国内主要厂商:北方微电子、中国电子科技集团第四十五所、北京仪器厂等。 4) MOCVD 设备功能:以热分解反应方式在衬底上进行气相外延,生长各种Ⅲ-V族、Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体以及它们的多元固溶体的薄层单晶材料。 所用材料:特种气体(MO源、惰性气体等)。 国外主要厂商:德国Aixtron爱思强公司、美国Veeco公司等。 国内主要厂商:中微半导体、中晟光电、理想能源设备等。 5) 光刻机 设备功能:将掩膜版上的图形转移到涂有光刻胶的衬底(硅片)上,致使光刻发生反应,为下一步加工(刻蚀或离子注入)做准备。 所需材料:光刻胶等 国外主要公司:荷兰阿斯麦(ASML)公司、日本尼康公司、日本Canon公司、美国ABM公司、德国SUSS公司、美国Ultratech公司、奥地利EVG公司等。 国内主要公司:上海微电装备(SMEE)、中国电子科技集团第四十八所、中国电子科技集团第四十五所、成都光机所等。 6) 涂胶显影机 设备功能:与光刻机联合作业,首先将光刻胶均匀地涂到晶圆上,满足光刻机的工作要求;然后,处理光刻机曝光后的晶圆,将曝光后的光刻胶中与紫外光发生化学反应的部分除去或保留下来。 所用材料:光刻胶、显影液等。 国外主要厂商:日本TEL、德国SUSS、奥地利EVG等。 国内主要厂商:沈阳芯源等。 7) 检测设备(CDSEM、OVL、AOI、膜厚等) 设备功能:通过表征半导体加工中的形貌与结构、检测缺陷,以达到监控半导体加工过程,提高生产良率的目的。 所用材料:特种气体等。 国外主要厂商:美国的KLA-Tencor、美国应用材料、日本Hitachi、美国Rudolph公司、以色列Camtek公司等。 国内主要公司:上海睿励科学仪器等。 8) 干法刻蚀机 设备功能:平板电极间施加高频电压,产生数百微米厚的离子层,放入式样,离子高速撞击式样,实现化学反应刻蚀和物理撞击,实现半导体的加工成型。 所用材料:特种气体等。 国外主要厂商:美国应用材料公司、美国Lam Research公司、韩国JuSung公司、韩国TES公司等。 国内主要公司:中微半导体、北方微电子、中国电子科技集团第四十八所等。 9) CMP(化学机械研磨) 设备功能:通过机械研磨和化学液体溶解“腐蚀”的综合作用,对被研磨体(半导体)进行研磨抛光。 所用材料:抛光液、抛光垫等。 国外主要厂商:美国Applied Materials公司、美国Rtec公司等。 国内主要厂商:华海清科、盛美半导体、中电45所等。 10) 晶圆键合机 设备功能:将两片晶圆互相结合,并使表面原子互相反应,产生共价键合,合二为一,是实现3D晶圆堆叠的重要设备。 所用材料:键合胶等。 国外主要厂商:德国SUSS、奥地利EVG等。 国内主要厂商:苏州美图、上海微电子装备。 11) 湿制程设备(电镀、清洗、湿法刻蚀等) 设备功能:1)电镀设备:将电镀液中的金属离子电镀到晶圆表面,以形成金属互连;2)清洗设备:去除晶圆表面的残余物、污染物等;3)湿法刻蚀设备:通过化学刻蚀液和被刻蚀物质之间的化学反应将被刻蚀物质剥离下来。 所用材料:电镀液、清洗液、刻蚀液等。 国外主要厂商:日本DNS、美国应用材料、美国Mattson(已被北京亦庄国投收购)公司等。 国内主要厂商:盛美半导体、上海新阳、沈阳芯源、苏州伟仕泰克等。 12) 离子注入 设备功能:对半导体材料表面附近区域进行掺杂。 所用材料:特种气体等。 国外主要厂商:美国AMAT公司等。 国内主要厂商:中国电子科技集团第四十八所、中科信等。 13) 晶圆测试(CP)系统 设备功能:通过探针与半导体器件的pad接触,进行电学测试,检测半导体的性能指标是否符合设计性能要求。 所用材料:NA。 国外主要厂商:爱德万测试、泰瑞达等。 国内主要厂商:北京华峰测控、上海宏测、绍兴宏邦、杭州长川科技、中电45所等 14) 晶圆减薄机 设备功能:通过抛磨,把晶圆厚度减薄。 所用材料:研磨液等。 国外主要厂商:日本DISCO公司、日本OKAMOTO公司、以色列Camtek公司等。 国内主要厂商:北京中电科、兰州兰新高科技产业股份有限公司、深圳方达研磨设备制造有限公司、深圳市金实力精密研磨机器制造有限公司、炜安达研磨设备有限公司、深圳市华年风科技有限公司等。 15) 晶圆划片机 设备功能:把晶圆切割成小片的Die。 所用材料:划片刀、划片液等。 国外主要厂商:日本DISCO公司等。 国内主要厂商:中国电子科技集团第四十五所、北京中电科、北京科创源光电技术有限公司、沈阳仪器仪表工艺研究所、西北机器有限公司(原国营西北机械厂709厂)、汇盛电子电子机械设备公司、兰州兰新高科技产业股份有限公司、大族激光等。 16) 引线键合机 设备功能:把半导体芯片上的Pad与管脚上的Pad,用导电金属线(金丝)链接起来。 所用材料:金属丝等。 国外主要厂商:ASM太平洋等。 国内主要厂商:中国电子科技集团第四十五所、北京创世杰科技发展有限公司、北京中电科、深圳市开玖自动化设备有限公司等。
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    • 材料在半导体生产中一直扮演着重要的角色,随着技术与产品的不断发展,对半导体的精细度要求也越来越高。而在全球半导体产业链中,我国一直扮演追赶者的角色。尤其是硅片(8英寸/12英寸)方面,起步较晚,又底子薄弱,因此极度依赖进口。 硅片近况一览 到底什么是硅片?据资料显示,硅片,是制作集成电路的重要材料,通过对硅片进行光刻、离子注入等手段,可以制成各种半导体器件。用硅片制成的芯片有着惊人的运算能力。科学技术的发展不断推动着半导体的发展。自动化和计算机等技术发展,使硅片(集成电路)这种高技术产品的造价已降到十分低廉的程度。 所谓的8英寸、12英寸指的是硅片的直径。硅片直径主要有3英寸、4英寸、6英寸、8英寸(200mm)、12英寸(300mm),还有一直被大家广泛讨论的18英寸硅片。直径越大,在一个硅片上经一次工艺循环可制作的集成电路芯片数就越多,每个芯片的成本也就越低。因此,更大直径硅片是硅片制各技术的发展方向。但硅片尺寸越大,对微电子工艺设各、材料和技术的要求也就越高。 据SEMI统计,2018年第一季度,全球硅片出货量达30.84亿平方英寸,同比增长7.9%,环比增长3.6%。2018和2019全年继续创造着记录,出货量分别为118.14亿平方英寸和122.35亿平方英寸。快速增长的需求让全球大硅片供应显得有些吃力。虽然相关 厂商纷纷上调价格,但依旧有很大的供需缺口。 纵观全球硅片市场,市场份额一直在少数几家如日本Shin-Etsu信越(市占率27%),日本SUMCO三菱住友株式会社(市占率25%),中国台湾Global Wafers环球晶圆(市占率17%),德国Silitronic(市占率15%)等厂商手里,总计超过90%的市场份额。中国大陆始终在材料这一环节被掐住脖子。这种情况对国产芯片想要实现自主可控的今天来说不可谓不严峻。因此近年来,我国已将本土大硅片生产厂排上了议事日程。 据最新消息报道,9月21日下午,国内规模最大、技术最成熟,拥有自主核心技术,并真正可量产半导体大硅片的生产厂—杭州中欣晶圆半导体股份有限公司大硅片项目在杭州钱塘新区竣工投产,实现了8英寸大硅片的正式量产,同时12英寸大硅片生产线进入调试、试生产阶段。预计这一项目明年将实现月产35万枚8英寸半导体大硅片。12英寸半导体硅片生产线投产后,月产能将达3万片。 中欣晶圆的成绩自然令人欣喜,其他项目的进展也不容小觑。俯瞰整个中国地图,发现目前我国12英寸的晶圆几乎都依赖进口,因此目前许多重大投资还是锁定在12英寸晶圆。上海新昇半导体执行副总裁费璐博士曾在演讲中指出,目前中国有14家公司官宣介入12英寸大硅片产业,总数量超过目前世界12英寸硅片公司数。这些公司规划的总月产能为692万片,高于目前世界总产能。这些公司资方各异,有大基金、国资、地方政府资金、国家项目资金,也有外资、私企和市场资本。费璐表示,这些公司规划的产能太高,实现起来可能没有那么容易。小编对我国的大硅片项目最新进展进行了整理,以供参考。 国内硅片项目最新进展 一、上海新昇 上海新昇成立于2014年6月,公司经营范围包括高品质半导体硅片研发、生产和销售,从事货物及技术的进出口业务等。公司第一期目标致力于在我国研究、开发适用于40-28nm节点的12英寸硅单晶生长、硅片加工、外延片制备、硅片分析检测等硅片产业化成套量产工艺;建设12英寸半导体硅片的生产基地,实现12英寸半导体硅片的国产化,充分满足我国极大规模集成电路产业对硅衬底基础材料的迫切要求。 据资料显示,上海新昇12英寸半导体硅片项目总投资68亿元,一期总投资22亿元。上海新昇原本由上海新阳控股。2016年,国家集成电路产业基金和上海国盛集团共同出资设立上海硅产业,由上海硅产业投资3.085亿元认购上海新昇增发股份。此后,上海硅产业又将上海新昇原股东公司上海新傲和兴森科技的持股全部收购,实现了对上海新昇的绝对控股。 据介绍,新昇现有月产能已经达到了10万片,现有产房可容月产能为30万片,现有厂区可建月产能为60万片,扩建用地可达100万片/月产能。目前已实现量产,并向中芯国际、上海华力微电子实现交付。 二、超硅半导体 1、重庆超硅 重庆超硅半导体于2014年5月开工,2016年4月投入试生产。2016年5月第一根IC级8英寸单晶硅棒成功拉出;2016年9月第一根IC级12英寸单晶硅棒成功拉出;2016年10月 第一批IC级单晶硅顺利下线,预示"极大规模集成电路用12英寸(含8英寸)单晶硅晶体生长与抛光硅片及延伸产品(一期)"项目正式建成,并举行产品下线仪式;2017年1月20日第一批8英寸硅片产品出厂发货。达产后将实现8英寸硅片年产600万片、12英寸硅片年产60万片的产能。 2、上海超硅 上海超硅半导体成立于2008年、2010年正式运营。12英寸全自动智能化生产线项目总投资约100亿元,其中一期项目投资约60亿元,包括固定资产投资约45亿元,预计达产后年销售收入约50亿元,项目包括AST综合研究院、12英寸全自动智能化生产线、18英寸中试生产线、先进装备研发中心、人工晶体研发中心等。 12英寸全自动智能化生产线项目规划建设周期为1.5年,2019年9月设备搬入、2019年12月产品下线,预计建成后可形成年产360万片12英寸抛光片和外延片以及12万片18英寸抛光片生产能力。 3、成都超硅 2017年8月云南城投集团与邛崃市人民政府签署《成都超硅半导体生产基地项目》协议,协议中商定将在邛崃市建设超硅半导体生产基地,项目总投资50亿元,占地600亩,主要建设两条12英寸晶圆生产线,包括研发中心、研发试验测试中心及动力辅助设施、综合办公楼等。项目达产后,可实现月产50万片集成电路级单晶硅片产能,年销售收入70亿元。 三、中环领先 中环领先集成电路用大直径硅片项目是由浙江晶盛机电、中环股份及其全资子公司中环香港、无锡市人民政府下属公司三方共同投资组建,并设立中环领先半导体材料有限公司(简称“中环领先”)运营。 中环领先集成电路用大直径硅片项目于2017年12月开工。该项目涵盖研发、生产与制造等环节,产品类型为满足集成电路用8英寸、12英寸抛光片,总投资约30亿美元。其中一期投资约15亿美元。 9月3日,中环股份发布公告称,其中公司增资8.1亿元、公司全资子公司中环香港控股有限公司(以下简称“中环香港”)增资8.1亿元、无锡市人民政府下属公司锡产投资(香港)有限公司(以下简称“锡产香港”)增资8.1亿元、浙江晶盛机电股份有限公司(以下简称“晶盛机电”)增资2.7亿元。 中环股份表示,公司8-12英寸大硅片项目,晶体生长环节在内蒙古呼和浩特,抛光片环节在天津和江苏宜兴。8英寸方面,天津工厂已有30万片/月产能,宜兴工厂在7月开始投产,已经具备成熟的8英寸半导体硅片供应能力。 最新消息,9月27日,中环股份官微发文,中环股份集成电路用大直径硅片项目顺利投产。 四、金瑞泓 金瑞泓科技(衢州)有限公司和金瑞泓微电子(衢州)有限公司由立昂微成立。项目计划分三期逐步实施。一期总投资约7亿元,建设周期为2017年至2019年,用地100亩,计划2017年建成月产10万片8英寸硅外延片项目;二三期项目总投资43亿元,用地120亩,将形成月产30万片8英寸硅片项目生产线和月产10万片12英寸硅片项目生产线,填补国内12英寸硅片生产线的空白。 该基地经过近一年的建设,8英寸硅外延生产线在2018年4月建成投产并实现批量销售,8英寸的单晶、切、磨、抛厂房也将在2019年三季度建成投产,届时将全线拉通8英寸硅单晶、硅抛光片、硅外延片生产线。 立昂微电子公司金瑞泓生产的8英寸硅片约占全部国产8英寸硅片的40%,牢牢占据市场第一的位置。截至2017年底,浙江金瑞泓已经具备月产12万片8英寸硅抛光片的生产能力。 近日立昂微电子股份有限公司成功拉制了浙江省第一根拥有完全自主知识产权的量产型集成电路用12英寸硅单晶棒。 五、德州有研 2018年6月25日,德州市政府党组成员、经济术开发区党工委书记、管委会主任鄂宏达代表德州市与有研科技集团半导体材料公司签约。2019年3月19日,德州经济技术开发区举行山东有研集成电路用大尺寸硅材料规模化生产项目开工仪式。项目总投资约80亿元,分两期建设,一期新建年产180万片8英寸硅片生产线,预计今年5月中旬启动主体建设,达产后年可实现年销售收入10亿元、利税2亿元。项目二期规划年产360万片12英寸硅片,可实现年销售收入25亿元、利税6亿元。 有研科技集团由国务院国资委直接管理,旗下11个国家级工程中心和实验室、7个控股子公司,是国内在半导体材料、稀有金属、粉末冶金等领域集产、学、研于一体的龙头企业。 六、宁夏银和 2016年4月12日,由申和热磁投资的宁夏银和半导体科技有限公司在银川经济技术开发区奠基。项目总投资30亿元,规划年产360万片8英寸半导体级单晶硅片及年产120万片12英寸半导体级单晶硅片。 目前,宁夏银和半导体科技有限公司8英寸半导体级单晶硅片已成功试生产。已研发了具有自主知识产权的40-16nm制程8英寸半导体抛光片制造技术,并实现了产业化。可年产420万片8英寸半导体级单晶硅片和年产240万片12英寸半导体级单晶硅片,产品涉及电子、半导体、集成电路、通讯、汽车、医疗、国防等产业领域。项目达产后,新增年销售收入10亿元。 2019年8月23日,宁夏银和半导体科技有限公司举办了盛大仪式,宣布12英寸半导体大硅片晶棒实现量产,32英寸半导体石英坩埚下线,这标志着宁夏在新材料领域两项关键制造技术将完全国产化。 七、郑州合晶 郑州合晶硅材料有限公司成立于2017年2月,是由中国台湾合晶科技集团下属的上海合晶硅材料有限公司和上海晶盟硅材料有限公司共同出资组建。 郑州合晶年产240万片200毫米硅单晶抛光片生产项目计划总投资53亿元,主要建设8英寸、12英寸硅材料衬底片和外延片生产基地。项目共分两期实施,一期产能为8英寸硅材料衬底片20万片/月,二期产能为12英寸硅材料衬底片25万片/月和外延片9万片。这是郑州地方政府取得的首个半导体投资案,其中,合晶持股约6成,双方合资投资额共12亿人民币。 目前合晶台湾杨梅厂为6寸重掺硅晶圆产能,月产能为33 万片;龙潭厂为8 寸硅晶圆产能,将由目前的30万片逐月增加至年底的32万片。在大陆的产能部分,扬州厂主力为8寸以下单晶晶棒;上海晶盟磊晶厂将在明年农历年前,月产能达20万片。 八、安徽易芯 安徽易芯半导体有限公司成立于2016年,主要从事全自动硅晶体生长炉、大尺寸半导体硅晶体与硅片的研发、生产、销售,以及技术服务。 公司自主研发的12英寸及以上硅晶体生长炉属于大陆首台套产品、全自动晶体生长控制系统的核心技术与工艺均填补了国内空白,达到国际先进水平,并掌握了12英寸芯片级单晶硅片的产业化经验。项目总投资17亿元,一期建设8条12英寸芯片级单晶硅片生产线,年产12英寸单晶硅棒160吨(成品),现已投产。二期预计投资金额20亿。 九、西安弈斯伟 2017年12月9日,奕斯伟硅产业基地项目签约仪式在西安举行。西安高新区与北京芯动能公司、北京奕斯伟公司三方共同签署了硅产业基地项目投资合作意向书。根据意向书,该项目总投资超过100亿元。 2019年1月17日,西安奕斯伟硅产业基地项目正式封顶。项目建成后将成为研发生产300mm(12英寸)硅片,建设月产能50万片、年产值约45亿元的生产基地,最终目标成为月产能100万片、年产值超百亿元的12英寸硅材料企业。 据报道,西安奕斯伟硅产业基地项目已进入设备调试阶段,四季度就可产出样品,投产后将填补我国半导体行业硅材料空白。 十、四川经略 2018年3月22日,四川经略长丰集成电路8/12英寸硅片项目在自贡高新区开工,据了解,四川经略长丰由深圳市经略长丰投资管理有限公司直接投资,公司投产后,主要经营电子产品、通信设备、集成电路设备、TFT设备等科研、生产及投资管理等业务。 该项目投资50亿元,一期工程计划1年内完工,建设标准化生产体系,形成月产50万片8/12英寸硅片的生产能力,全面达产后年产值将达36亿元。 十一、广西启世 据查,广西启世半导体有限公司成立于2018年5月29日,董事长是金成默,总经理是CHO KWAN SIK。投资方是深圳启世投资有限公司,成立于2018年8月21日。2018年9月,钦州市与广西启世半导体有限公司签订了年产1440万片集成电路用12英寸大硅片项目投资协议。 据了解,该项目总投资30亿美元,总年产1440万片,分三期建设,总占地面积约1000亩,一期总投资10亿美元,主要建设12英寸大硅片生产线,共四条生产线,年产480万片。 十二、嘉兴中晶 2019年1月19日,浙江嘉兴南湖区人民政府与上海康峰投资管理有限公司签署投资协议和定向基金协议,年产480万片12英寸硅片(300mm)项目大硅片项目落户嘉兴科技城。 该项目位于嘉兴科技城,计划总投资110亿元,其中一期投资60亿元,固定资产投资超56亿元,用地面积139亩,计划建设12英寸单晶硅片生产线。项目计划于2021年2月竣工投产,建成后将将形成年产480万片12英寸大硅片产能,预计实现年销售产值达35亿元。 8月14日,嘉兴召开百亿工业项目现场推进会,嘉兴经信部门的相关人员先后考察了南湖区中晶(嘉兴)半导体大硅片和秀洲区捷威动力电池项目工地。 目前,中晶大硅片一期项目正在紧张施工中,预计今年年底厂房可封顶,明年年底试生产。捷威动力电池项目计划总投资108亿元,目前前期资金、用地已基本落实,预计今年年底设备进厂。 十三、江苏睿芯晶 2019年3月1日,常州武进国家高新区进行了10个重点项目集中签约,涉及高端装备、智电汽车、电子信息等领域,累计总投资118亿元;其中外资项目7个,内资项目3个。 此次签约项目包括8-12英寸集成电路级硅片项目,该项目由江苏睿芯晶半导体科技有限公司投资,项目首期总投资约3亿美金,建设300毫米半导体硅片产能10万片/月,项目达产后,年可实现营业收入11.4亿元。 十四、江苏协鑫 协鑫鑫晶半导体大硅片项目是江苏徐州市和徐州经开区重点产业项目。总投资150亿元,一期投资94.5亿元,建筑面积43.9万平方米。 据消息人士透露,当前协鑫已经开始着手从美国、中国台湾、 新加坡等地引进相关半导体领域工艺技术和专业人才团队。相关公告信息显示:目前公司正在推进非公开发行股票项目,拟发行不超过10.12亿股,募资总额不超过32.82亿元。其中,25.5亿投资于大尺寸再生晶圆半导体项目,另外7.32亿用于补充流动资金。 定增预案显示,大尺寸再生晶圆半导体项目拟年产8英寸再生晶圆60万片、12英寸再生晶圆300万片,建设期12个月。 总结 最近中欣晶圆的出色表现,为我国半导体产业打入了一剂强心针。首先是可以有效改善国内半导体大硅片完全依赖国外的现状,其次可以填补国内半导体大硅片供应的行业短板,因此能够在很大程度上推动我国集成电路产业的发展。但国内总体状况与国外企业相比仍有加大差距,半导体产业从来不是一蹴而就,需得一步一个脚印,踏踏实实埋头苦干方能有所成。 近年来,几大晶圆代工厂对先进制程的追求导致对高质量的大硅片的需求越来越大,同时物联网,人工智能的发展让汽车以及工业领域得到了发展,势必会推动半导体产业的进一步发展。国内不断涌现的芯片厂商也会带来巨大的需求,因此建设自主的硅片供应商势在必行,国内大硅片项目首先把握好国产厂商得需求,取得国内市场,方能与国外大厂有一争之力。