锗基pMOSFET迁移率的栅电荷库伦散射研究

出版社:中国科学院微电子研究所
出版年:2019
作者:周丽星
资源类型:图书
细分类型:中文文献
相关推荐

MOSFET迁移率与高k金属栅研究

  • 作者:于伟泽
  • 出版年:2012

基于新型高κ介质及高迁移率沟道材料的电荷俘获型存储器研究

  • 作者:侯朝昭
  • 出版社:中国科学院微电子研究所
  • 出版年:2019

Si基高迁移率InGaAs沟道MOSFET器件研究

  • 作者:孔祥挺
  • 出版年:2017

GaN基高电子迁移率晶体管的器件优化与性能研究

  • 作者:崔晓
  • 出版社:中国科学院大学纳米科学与技术学院
  • 出版年:2023