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《我国首次完成微重力陶瓷光刻成形试验》

  • 来源专题：中国科学院亮点监测
  • 编译者： liuzh
  • 发布时间：2018-09-19

  • 　　近日，中国科学院空间应用工程与技术中心科研人员在瑞士利用欧洲失重飞机成功完成了国际首次微重力环境下陶瓷材料立体光刻成形技术试验，同时完成我国首次微重力环境下金属材料铸造技术试验。试验验证了多项微重力环境下高精度制造前沿技术和新型材料，获得多件完好的陶瓷和金属制造样品及丰富的实验数据。

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    • 来源专题：中国科学院亮点监测
    • 编译者：liuzh
    • 发布时间：2018-09-10
    • 　　近日，中国科学院空间应用工程与技术中心科研人员在瑞士利用欧洲失重飞机成功完成了国际首次微重力环境下陶瓷材料立体光刻成形技术试验，同时完成我国首次微重力环境下金属材料铸造技术试验。试验验证了多项微重力环境下高精度制造前沿技术和新型材料，获得多件完好的陶瓷和金属制造样品及丰富的实验数据。
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  • 《ASML光刻机拟遭禁运 我国光刻机和极紫外光刻技术发展状况》
    • 来源专题：集成电路
    • 编译者：shenxiang
    • 发布时间：2020-01-09
    • 近日， 美政府阻挠荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）向中芯国际出售价值1.5亿美元的EUV（极紫外光刻机），ASML与中芯国际终止合作的 新闻刷爆了科技圈。尽管双方均出面澄清无此事，但事情真伪尚未有最终定论。 众所周知，光刻机 被誉为半导体工业皇冠上的明珠，现代光学工业之花。光刻是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤，而光刻机也因制造过程复杂、生产难度极大而仅为少数企业所掌握。 荷兰ASML 连续18年稳居市场第一 ，其市占率超过80%，日本尼康、日本佳能位列其后。我国虽然也能生产光刻机，但目前只能生产 90nm制程工艺的光刻机，其中 上海微电子装备有限公司占据国内80％的市场。据悉，上海微电子已经开始了65nm制程光刻机的研制。 目前最先进的第五代光刻机采用EUV光刻技术，以波长为13.5nm的极紫外光作为光源。 ASML生产的EUV光刻机部分光源由 激光 行业的巨头通快集团提供。据OFweek激光网了解，通快集团为ASML提供用于极紫外光刻的特殊 激光器 是通快业绩增长的关键驱动力，18/19财年该业务的收入从2.6亿欧元增长到3.9亿欧元，增长了48％。 实际上，我国对光刻机和极紫外光刻技术的探索从未停止。 光刻机和极紫外光刻技术 的探索之路 资料显示，1977年，我国最早的光刻机－GK－3型半自动光刻机诞生，这是一台接触式光刻机，当时光刻机巨头ASML还没有出现，但美国在20世纪50年代就已经拥有了接触式光刻机，日本的尼康和佳能也于60年代末开始进入光刻机领域。然而苦于当时国内生产工艺尚不成熟，所以光刻机也一直没有得到更深入的研究。 到了八九十年代，“造不如买”的思想席卷了大批制造企业， 大批企业纷纷以“贸工技”作为指导思想 ，集成电路产业方面也出现了脱节。在这样的大环境下，光刻机产业同样也出现了衰退。虽然后续一直在追赶国外列强的脚步，但产业环境的落后加上本来就与世界先进企业有差距，使得中国终究没有在高端光刻机领域留下属于自己的痕迹。 2000年后，全球半导体产业开始兴旺，中国也重新开始重新关注并发展EUV技术。最初开展的基础性关键技术研究主要分布在EUV光源、EUV多层膜、超光滑抛光技术等方面。 2007年，中国科学院上海光学精密机械研究所“ 极紫外光刻机光源技术研究 ”项目通过验收；
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