近日，新思科技与中国科学院微电子研究所强强联手，正式组建“EUV光刻仿真联合实验室”并举行揭牌仪式。双方联合宣布将在北京合作共建国际一流、国内领先的联合实验室，共同合作开发基于EUV的光刻仿真及应用，致力提高中国EUV研发能力并共同培养该领域尖端人才。该联合实验室得到了北京市科学技术委员会国际科技合作专项的支持。
中国科学院微电子所所长叶甜春、中国科学院微电子所科技处处长李平、中国科学院微电子所计算光刻研发中心主任韦亚一、新思科技半导体事业部全球总经理柯复华、新思科技全球资深副总裁暨亚太总裁林荣坚、新思科技中国副总经理陈志昌、新思科技中国区半导体事业部销售总监肖长青等出席揭牌仪式。
中国科学院微电子所所长叶甜春说，“早从2003年开始，作为第一家合作单位，新思科技与中国科学院微电子所成立了EDA研究中心。15年来，我们不断深化合作，目前科学院10多个研究所，20多个课题组都使用新思科技的解决方案从事科研工作。此次EUV光刻仿真联合实验室的成立，开启了新的合作点，将共同提高中国EUV研发能力。"
新思科技半导体事业部兼全球总经理柯复华表示，“集成电路产业在中国蓬勃发展，正迅速接近国际水平，国内第一台EUV也即将于2019年投入使用，预计对于EUV的光刻仿真及应用的需求将变得越来越迫切。为更好地服务于这个迅速成长的中国市场，新思科技一直努力深化提高在中国集成电路产业的参与度。我们非常高兴此次能够和国内领先的微电子研究所共建EUV光刻仿真联合实验室，使我们的产品和服务更加贴近国内芯片制造商的迫切需要，共同提高中国集成电路在EUV方面的应用水平。”
新思科技是目前在业界唯一具有从芯片设计、工艺研发到半导体生产良率提升全流程解决方案的软件提供商。在先进的极紫外（EUV）光刻领域，新思科技同样拥有广泛的研发和量产经验。
未来，新思科技将持续并加强产学研合作，助力培养更多更高质量的EUV领域尖端人才并不断坚持技术创新，推动中国集成电路产业的发展。
