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《厦门恒坤牵手中国科学院共推半导体光刻胶的研发和项目产业化》

  • 来源专题：光电情报网信息监测服务平台
  • 编译者： husisi
  • 发布时间：2019-10-21

  • 10月11日，厦门恒坤新材料科技股份有限公司与中国科学院微电子研究所产业化平台南京诚芯集成电路技术研究院进行合作签约，双方将共同推进半导体光刻胶的研发和项目产业化。

    据厦门日报报道，坤新材料相关负责人表示，恒坤新材料希望借助中国科学院微电子所在全球半导体产业的技术优势，加强研发力量，促进高端光刻胶及相关原材料的技术拓展并实现产业化。恒坤新材料将以厦门为总部，规划建立半导体先进材料研发中心，推动光刻胶和先进半导体材料的发展。

    厦门恒坤新材料科技股份有限公司成立于1996年，于2015年在新三板挂牌。厦门日报显示，恒坤新材料是国内率先实现量供集成电路超高纯前驱体和高端光刻胶的企业，已成为国内多家高端芯片企业的材料供应商。今年恒坤新材料加大产业布局力度，相继投资建成两个半导体先进材料工厂。

    南京诚芯集成电路技术研究院有限公司成立于2018年11月，2018年9月30日，南京浦口高新区就与中国科学院微电子所举行了南京集成电路制造技术研究院的签约仪式，拟将建设成为一所具有“科学研究+成果转化+资源聚集+企业孵化+人才聚集”五大功能体系的集成电路领域的创新型科技研发机构。

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  • 《厦企携手中国科学院 推进半导体核心材料研发创新》
    • 来源专题：集成电路
    • 编译者：shenxiang
    • 发布时间：2019-10-21
    • 昨日，厦门恒坤新材料科技股份有限公司与中国科学院微电子研究所产业化平台南京诚芯集成电路技术研究院进行合作签约，双方将共同推进半导体光刻胶的研发和项目产业化。 当前，我市将集成电路设计列入十大未来产业培育工程之一，努力突破一批关键核心技术，并实现转化和批量应用，力争到2021年产值突破百亿元。业内人士指出，目前国内集成电路产业正迎来发展的窗口期，光刻胶是集成电路半导体制造的重要材料，长期依靠进口，是“卡脖子”产品之一，当前还面临上游关键原材料短缺、先进工艺和专业人才不足等问题。 恒坤新材料是国内率先实现量供集成电路超高纯前驱体和高端光刻胶的企业，已成为国内多家高端芯片企业的材料供应商。前驱体和高端光刻胶是企业目前的两大拳头产品，填补了国内半导体先进电子材料的空白。今年恒坤新材料加大产业布局力度，相继投资建成两个半导体先进材料工厂，业务方面也取得了突破性发展。 恒坤新材料相关负责人表示，恒坤新材料希望借助中国科学院微电子所在全球半导体产业的技术优势，加强研发力量，促进高端光刻胶及相关原材料的技术拓展并实现产业化。恒坤新材料将以厦门为总部，规划建立半导体先进材料研发中心，推动光刻胶和先进半导体材料的发展。 作为中国半导体产业发展的重镇之一，我市正通过“三高”企业系列扶持政策，推动自主研发项目攻关、加大科技成果转化奖励力度、支持企业建设实验室等，提升企业的研发创新能力。
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  • 《中国半导体产业因光刻胶失色》
    • 来源专题：中国科学院文献情报制造与材料知识资源中心 | 领域情报网
    • 编译者：冯瑞华
    • 发布时间：2018-05-31
    • “假如我们把光刻机比作一把菜刀，那么光刻胶就好比是要切割的菜，没有高质量的菜，即使有了锋利的菜刀，也无法做出一道佳肴。”日前，江苏博砚电子科技有限公司技术部章宇轩在接受科技日报记者采访时说。 在北京化工大学理学院院长聂俊眼里，我国虽然已成为世界半导体生产大国，但面板产业整体产业链仍较为落后。目前，上游高端电子化学品（LCD用光刻胶）几乎全部依赖进口，必须加快面板产业关键核心材料基础研究与产业化进程，才能支撑我国微电子产业未来发展及国际“地位”的确立。 彩色薄膜少了光刻胶，产生不了绚丽的画面 显示器是人与机器沟通的重要界面。光刻胶是整个光刻工艺的重要部分，也是国际上技术门槛最高的微电子化学品之一，主要应用在集成电路和平板显示两大产业。光刻技术决定了集成电路的集成度，引领了技术节点的推进和实现。 章宇轩介绍,我们在日常工作生活中，之所以能从显示屏幕上看到色彩斑斓的画面，就是离不开屏幕中厚度只有2μm、却占面板成本16％的一层彩色薄膜。然而，彩色薄膜颜色的产生，必须由光刻胶来完成。 LCD是非主动发光器件，其色彩显示必须由本身的背光系统或外部的环境光提供光源，通过驱动器与控制器形成灰阶显示，再利用彩色滤光片产生红、绿、蓝三基色，依据混色原理形成彩色显示画面。 其中，根据颜色的不同，可以将光刻胶分为黑色、红色、绿色、蓝色四种。彩色滤光片的制作就是在玻璃基板上应用黑色光刻胶制作黑色矩阵，再应用红、绿、蓝光刻胶制作三原色像素。 光刻胶的研发，关键在于其成分复杂、工艺技术难以掌握。光刻胶主要成分有高分子树脂、色浆、单体、感光引发剂、溶剂以及添加剂，开发所涉及的技术难题众多，需从低聚物结构设计和筛选、合成工艺的确定和优化、活性单体的筛选和控制、色浆细度控制和稳定、产品配方设计和优化、产品生产工艺优化和稳定、最终使用条件匹配和宽容度调整等方面进行调整。因此，要自主研发生产，技术难度非常之高。 江苏汉拓光学材料有限公司副总经理孙友松告诉记者，在光刻胶研发上，我国起步晚，2000年后才开始重视。近几年，虽说有了快速发展，但整体还处于起步阶段。事实上，工艺技术水平与国外企业有着很大的差距，尤其是尖端材料及设备都仍依赖进口。 工艺技术难以突破，国内企业受制于人 “造成与国际先进水平差距的原因很多。过去由于我国在开始规划发展集成电路产业上，布局不合理、不完整，特别是重生产加工环节的投资，而忽视了最重要的基础材料、装备与应用研究。目前，整个产业是中间加工环节强，前后两端弱，核心技术至今被TOK、JSR、住友化学、信越化学等日本企业所垄断。”江苏博砚电子科技有限公司负责销售的经理李中强说。 记者了解到，光刻胶的主要技术指标有解析度、显影时间、异物数量、附着力、阻抗等。每一项技术指标都很重要，必须全部指标达到才能使用。因此，国外企业在配方、生产工艺技术等方面，对中国长期封锁。 事实上，我国是在缺乏经验、缺乏专业技术人才，缺失关键上游原材料的条件下，全靠自己摸索。近年来，尽管光刻胶研发有了一定突破，但国产光刻胶还是用不起来。目前，国外阻抗已达到15次方以上，而国内企业只能做到10次方，满足不了客户工艺要求和产品升级的要求，有的工艺虽达标了，但批次稳定性不好。 “10次方的光刻胶经过多次烘烤，由于达不到客户需求的防静电作用，不能应用到最新一代窄边框、全面屏等高端面板上。而国外做到15次方就有了很好的防静电作用。这还是我们的光刻胶材料、配方、生产工艺方面存在问题。”李中强说。 关键指标达不到要求，国内企业始终受制于人。就拿在国际上具有一定竞争实力的京东方来说，目前已建立17个面板显示生产基地，其中，有16个已经投产。但京东方用于高端面板的光刻胶，仍然由国外企业提供。
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