《韩媒：韩国芯片制造商将减少对EUV工艺的核心溶剂进口》

• 来源专题：光电情报网信息监测服务平台
• 编译者： husisi
• 发布时间：2022-02-24

据韩媒TheKorea EconomicDaily GlobalEdition报道，韩国芯片制造商预计将减少对EUV工艺核心溶剂的进口，因为当地公司已成功大规模生产该材料。
据行业内消息人士称，石化和电子材料制造商JaewonIndustrialCo.实现了丙二醇甲基醚乙酸酯(PGMEA)的商业化，PGMEA是半导体行业常用的一种溶剂，用于在硅晶圆上应用表面粘合剂。
Jaewon表示，该公司是第一家大规模生产PGMEA的韩国公司，尽管一些公司已经成功开发了这种溶剂。
PGMEA由半导体用稀释剂制成，在EUV曝光过程中清洗没有EUV光敏反应的部件上的光刻胶。当在曝光过程之前将其应用于晶圆时，该溶剂还有助于以较少的量均匀分布感光材料。
通过EUV工艺制造的半导体具有非常精细的电路，因此非常小的杂质就会降低产量。EUV工艺需要纯度为99.999%或更高的PGMEA。
日本制造商如大赛璐（DaicelCorp.）一直在生产这种纯PGMEA方面占主导地位，而韩国公司以前拥有的技术只是提高PGMEA的纯度，而不是将丙二醇单甲醚(PGME)合成为PGMEA。
Jaewon于2018年开发了自己的PGMEA合成技术。该公司去年将PGMEA产能扩大到3万吨以进行大规模生产。
该公司预计韩国芯片制造商将在上半年开始将其PGMEA用于EUV工艺，从而每年减少约1000亿韩元（8370万美元）的溶剂进口。
一位公司消息人士称，成立于1987年的Jaewon将考虑在美国生产PGMEA，并将在美国建立电池材料工厂。