《用嵌段共聚物光刻法制备二维金属硫化合物纳米晶体》

  • 来源专题:纳米科技
  • 编译者: 郭文姣
  • 发布时间:2018-10-30
  • 纳米结构工程对二维过渡金属二硫族化合物(TMDs)的各种应用有着很高的需求。通过嵌段共聚物(BCP)纳米atterning演示了一种边缘暴露的二维多晶MoS2纳米孔薄膜。钼纳米孔结构是由六方柱BCP纳米模板的直接金属沉积和随后的升压过程形成的。随后,钼纳米孔的硫化形成了MoS2纳米孔薄膜,没有任何降解蚀刻步骤。该方法不仅适用于其它金属硫化物和氧化物,而且适用于其它纳米级结构的TMD薄膜,包括纳米点和纳米线阵列,通过各种BCP纳米模板形状。由于MoS2的边缘位置对NO2敏感非常活跃,所以与均匀的薄膜相比,边缘暴露的MoS2纳米孔对NO2分子的敏感性提高了七倍,即使在80%的相对湿度环境下也具有优越的可逆性。这种结构工程方法可以极大地增强二维TMD材料的潜在应用前景,使其具有最优的自定义纳米级结构。

    ——文章发布于2018年10月16日

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