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《璞璘科技交付首台半导体级步进纳米压印光刻系统，性能对标佳能》

  • 来源专题：集成电路与量子信息
  • 发布时间：2025-08-06

  • 据半导体行业观察微信公众号报道，8月1日璞璘科技自主设计研发的首台PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备已经初步完成储存芯片、硅基微显、硅光及先进封装等芯片研发验证并交付至国内特色工艺客户。

    璞璘科技的首台PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备攻克了步进硬板的非真空完全贴合、喷胶与薄胶压印、压印胶残余层控制等关键技术难题，可对应线宽＜10nm 的纳米压印光刻工艺，对标日本佳能的纳米压印工艺。

    璞璘科技PL-SR系列成功攻克喷墨涂胶工艺多项技术瓶颈，在喷涂型纳米压印光刻材料方面实现重大突破。在半导体级芯片压印工艺中，芯片结构通常为变占空比、多周期变化的纳米结构。这种复杂的结构设计需对局部胶量精准控制，根据结构变化动态调节压印胶的喷涂量，从而获得薄而一致的残余层厚度。PL-SR系列通过创新材料配方与工艺调控，提高胶滴密度与铺展度，成功实现了纳米级的压印膜厚，平均残余层＜10nm，残余层变化＜2nm，压印结构深宽比>7:1的技术指标。发展了匹配喷胶步进压印工艺与后续半导体加工工艺的多款纳米压印胶体系，特别是开发了可溶剂清洗的光固化纳米压印胶，解决了昂贵石英模板可能被残留压印胶污染的潜在风险，为高精度步进纳米压印提供了可靠材料保障。

    此外，该PL-SR重复步进压印系统还可满足模板拼接的需求，最小可实现20mmx20mm的压印模板均匀的拼接，最终可实现300mm(12in)晶圆级超大面积的模板。

  • 原文来源：https://mp.weixin.qq.com/s?__biz=Mzg2NDgzNTQ4MA==&mid=2247791007&idx=1&sn=aa240227261e7c14853519969d400e90&scene=0&poc_token=HOSckmijCpCiWLjZkzfrTz9ZduM5vUmCiGCA7aYa
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    • 编译者：guokm
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    • 编译者：李衍
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