《万华化学携手三棵树成立联合创新实验室》

  • 来源专题:中国科学院文献情报制造与材料知识资源中心 | 领域情报网
  • 编译者: 冯瑞华
  • 发布时间:2020-08-31
  • 8月27日,万华化学与三棵树涂料股份有限公司战略合作签约暨联合创新实验室揭牌仪式在万华化学烟台总部基地举行。三棵树董事长兼总裁洪杰,万华化学总裁寇光武、中央研究院常务副院长孙家宽等领导嘉宾共同出席启动仪式。

    活动中,万华化学总裁寇光武表示,改善生态环境、提升人民生活品质,是每一个有责任担当企业的不懈追求。在创造美好生活的路上,万华化学与三棵树志同道合。未来,双方将以此为契机,不断深化合作、协同创新,为推进环境健康、社会文明进步、行业良性发展和消费者健康生活做出应有的贡献!

    三棵树董事长兼总裁洪杰表示,此次战略合作协议的签订是我们两家企业战略发展的必然趋势和最优选择,而以市场需求为导向设定研发、合作方向的共建联合创新实验室,是三棵树与万华化学战略性合作的重要时刻。三棵树和万华化学要共同努力增强企业科技创新能力,推动双方高质量跨越式发展,构建企业生态价值链,共赢未来!

    未来,双方将就内墙、外墙、建筑防水等领域的原料研究、应用开发、行业推广等方面展开深入合作,旨在填补行业空白,推动建筑涂料行业向更环保、绿色、高性能方向发展,为守护人类健康,创造美好生活贡献力量!

  • 原文来源:http://www.ccin.com.cn/detail/f7727cb3f3cbe540f0ebc01baab72fff
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    • 编译者:shenxiang
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    • 1月17日上午,备受瞩目的西安软件园-西安紫光国芯共建集成电路创新实验室揭牌仪式在西安紫光国芯公司举行。此次仪式的顺利举办标志着西安软件园与西安紫光国芯共建的集成电路创新实验室正式成立。 西安市商务局服务贸易处处长吴增军、高新区软件园发展中心党委副书记刘贺、高新区管委会工业和信息化局副局长李志远、陕西省半导体行业协会秘书长何晓宁、西安市服务外包协会会长吴胜利、北京紫光存储科技有限公司CEO、西安紫光国芯总经理任奇伟、西安紫光国芯代理总经理江喜平莅临揭牌仪式。 西安软件园作为西安高新区发展软件信息服务业和文化创意产业的专业园区,始建于1998年12月,是我国四个拥有国家软件产业基地、国家软件出口基地"双基地"称号的园区之一。西安紫光国芯是在西安高新区成立并一路成长起来的集成电路设计企业,是国内罕有同时拥有DRAM和NAND Flash存储器研发量产能力的企业。2019年,西安高新区软件园和西安紫光国芯进行了深入合作,由园区投入网络设备,企业投入集成电路专用设备,共同筹建集成电路创新实验室,以支持企业和园区集成电路发展。 西安软件园刘贺书记和西安紫光国芯代理总经理江喜平分别致辞。高新区软件园发展中心党委副书记刘贺表示,西安高新区在集成电路设计领域的发展起步较早,规模日益扩大,目前已聚集了紫光国芯、紫光展锐、新华三、克瑞斯半导体、华为海思、航天民芯等一批知名集成电路设计企业,聚集效应已经形成。创新实验室的建立,将有效增强高新区在集成电路测试领域的配套支撑,使上下游企业形成紧密合作,为打造自主可控的产业体系提供有力支持,也将为我省自主存储器产业的持续发展打好坚实基础。 西安紫光国芯发展至今,公司员工已接近500人,累计二十余款DRAM存储器产品和四十余款模组产品实现全球量产和销售,已经发展成为区内最重要的集成电路企业之一。西安紫光国芯代理总经理江喜平表示,此次集成电路创新实验室的建立,公司将携手软件园为园区内相关企业提供更加便捷、更加专业的设计测试服务,大大减少园区内企业尤其是小微企业的研发测试成本。接下来,公司将继续探索多种形式的合作,有效地运用社会资源,共同促进西安高新区电子信息产业和服务产业的发展。
  • 《新思科技携手中国科学院微电子所成立EUV光刻仿真联合实验室》

    • 来源专题:半导体工艺技术
    • 编译者:shenxiang
    • 发布时间:2018-11-30
    • 近日,新思科技与中国科学院微电子研究所强强联手,正式组建“EUV光刻仿真联合实验室”并举行揭牌仪式。双方联合宣布将在北京合作共建国际一流、国内领先的联合实验室,共同合作开发基于EUV的光刻仿真及应用,致力提高中国EUV研发能力并共同培养该领域尖端人才。该联合实验室得到了北京市科学技术委员会国际科技合作专项的支持。 中国科学院微电子所所长叶甜春、中国科学院微电子所科技处处长李平、中国科学院微电子所计算光刻研发中心主任韦亚一、新思科技半导体事业部全球总经理柯复华、新思科技全球资深副总裁暨亚太总裁林荣坚、新思科技中国副总经理陈志昌、新思科技中国区半导体事业部销售总监肖长青等出席揭牌仪式。 中国科学院微电子所所长叶甜春说,“早从2003年开始,作为第一家合作单位,新思科技与中国科学院微电子所成立了EDA研究中心。15年来,我们不断深化合作,目前科学院10多个研究所,20多个课题组都使用新思科技的解决方案从事科研工作。此次EUV光刻仿真联合实验室的成立,开启了新的合作点,将共同提高中国EUV研发能力。" 新思科技半导体事业部兼全球总经理柯复华表示,“集成电路产业在中国蓬勃发展,正迅速接近国际水平,国内第一台EUV也即将于2019年投入使用,预计对于EUV的光刻仿真及应用的需求将变得越来越迫切。为更好地服务于这个迅速成长的中国市场,新思科技一直努力深化提高在中国集成电路产业的参与度。我们非常高兴此次能够和国内领先的微电子研究所共建EUV光刻仿真联合实验室,使我们的产品和服务更加贴近国内芯片制造商的迫切需要,共同提高中国集成电路在EUV方面的应用水平。” 新思科技是目前在业界唯一具有从芯片设计、工艺研发到半导体生产良率提升全流程解决方案的软件提供商。在先进的极紫外(EUV)光刻领域,新思科技同样拥有广泛的研发和量产经验。 未来,新思科技将持续并加强产学研合作,助力培养更多更高质量的EUV领域尖端人才并不断坚持技术创新,推动中国集成电路产业的发展。