全球领先工业原子层沉积（ALD）薄膜涂层技术供应商Picosun集团已推出Sprinter，这是一种全新的、全自动的、高产量的300mm晶圆原子层沉积生产模块。阻挡层、高k膜和其他膜以理想的ALD沉积在Sprinter中，用于半导体、显示器和IoT组件应用，例如新兴存储器、晶体管、电容器等。
在Sprinter中，单晶片膜的质量和均匀性都升级到具有最高，可靠性和可重复性大大提升，并且可以快速批量处理。与批量处理常用的ALD立式炉反应器相比，Sprinter能够以较低的热预算提供更高的薄膜质量，因此适用于对温度敏感的设备。与立式炉相比，Sprinter的处理时间非常快，可以批量处理较小的器件，从而在不牺牲产量的情况下提供了更大的生产灵活性和最小的风险。
Sprinter的核心是其破坏性设计的反应室，其中完全层流的前驱体流动确保了完美的ALD沉积，而没有寄生CVD的生长。这样可以最大程度地减少系统维护的需求。
Picosun集团首席执行官Jussi Rautee说：“Picosun Sprinter直接面对了在300mm晶圆上进行大批量ALD制造的挑战。我们很高兴向300mm半导体市场的新老客户介绍该产品，颠覆批量ALD制造中的旧技术，并提供代替技术。”
经SEMI S2 / S8认证的Picosun Sprinter模块可以集成到客户的生产线或集群中。它也适用于单晶圆生产线，因为它不会干扰工艺流程。Sprinter运行的是Picosun新的、专有的PicoOS操作系统和过程控制软件。
Picosun表示：“与Sprinter一起，Picosun还将发布PicoOS操作系统，是一款由我们内部软件团队开发的操作系统和过程控制软件，可以给客户提供更高的控制精度和准确性，最佳的可靠性和质量以及高效的服务。”
PicoOS软件允许通过一个统一、直观和用户友好的图形HMI来控制、操作和配置Picosun ALD设备（独立系统或完整的生产集群），通过SECS/GEM协议确保系统和客户工厂自动化之间的平滑连接。
Sprinter可在Picosun工厂进行过程演示。Sprinter模块的销售将从1月开始，Sprinter集群中的几个ALD模块、中央真空晶片处理单元和EFEM将于2021年春季晚些时候上市。
