芬兰的原子层沉积（ALD）薄膜技术公司Picosun和中国的苏州纳米技术和纳米仿生学研究所（SINANO）报道了使用Picosun等离子体ALD技术来沉积优质氮化钛（TiN）。
Picosun说：“通常钛的纯金属被用作金属材料，TiN的导电性和热稳定性优于纯钛金属。但高质量的TiN薄膜却不容易获得。”
SINANO Nano-X实验室的Sunan Ding教授评论道：“他们的ALD设备质量非常出色，使我们能够开发尖端的ALD工艺，使用Picosun ALD工具的一个非常重要的好处是从流程到生产规模都具有平稳的可扩展性，因为所有Picosun ALD系统从研发单位到全规模工业生产平台，都拥有相同的核心设计和运营原则。”
自2017年初以来，SINANO和Picosun一直在合作，目标开发微电子和光电子元件，如高电子迁移率晶体管（HEMT）和激光二极管，以及利用ALD的锂离子电池。
