据官网4月18日报道，英特尔晶圆代工厂(Intel Foundry)宣布组装完成业界首台商用高数值孔径(High Numerical Aperture, High NA)极紫外(EUV)光刻扫描机，在先进半导体制造领域取得了重要里程碑。该来自光刻行业领导者ASML的TWINSCAN EXE:5000高NA EUV光刻机位于英特尔公司俄勒冈州希尔斯伯勒的研发基地，目前正在进行校准步骤，为英特尔未来工艺路线图的生产做准备。通过改变将印刷图案投射到硅片上的光学设计，WINSCAN EXE:5000高NA EUV光刻机能够显著提高下一代处理器的分辨率和特征缩放。
据英国电子周报报道，这台价值3.73亿美元的机器有双层巴士那么大，重达150多公吨，装在43个货运集装箱里的250多个板条箱，通过20辆卡车运往俄勒冈州。英特尔计划在2025年将该机器用于14A代芯片的开发，预计2026年早期生产，2027年全面商业化生产。高NA EUV预计能够印刷比现有EUV光刻机小1.7倍的图案，这将启用二维特征缩放，从而使集成电路密度增加2.9倍。
与0.33NA EUV相比，高NA EUV（或0.55NA EUV）可以为类似特征提供更高的成像对比度，这使得每次曝光量更少，从而减少了每层的印刷时间，并增加了晶片产生量。
原文链接：https://www.intel.com/content/www/us/en/newsroom/news/intel-foundry-opens-new-frontier-chipmaking.html
