《对以微等离子体器件阴极等离子体后处理的纳米金刚石薄膜的场致电子发射性能的改善》

  • 来源专题:纳米科技
  • 编译者: chenfang
  • 发布时间:2016-03-21
  • 研究显示,电子场发射(EFE)的纳米金刚石(NCD)薄膜的性能显着增强时,制备的超小颗粒在颗粒结构的金刚石薄膜的等离子体处理后,与传统的NCD薄膜直接生长在甲烷/氩气/氢气等离子体相比下,有着显著优势。透射电子显微镜显示,对这些薄膜的EFE性能改善的影响主要是由于薄膜中物质的相感应,而处理过程中超微金刚石(∼5 nm)结合形成大的金刚石(∼几百纳米)的等离子体。这一改进的钻石薄膜的颗粒结构大大增强时,负偏置电压(300 V− )是等离子体后处理过程中的应用。此外,三电极等离子体设备进行压倒性的比两个电极装置具有较长寿命的稳定性,并表现出较高的等离子体电流密度。这些等离子体设备发出的紫外发射效率。导电NCD薄膜提供了一个改善正极材料加工设备与传统的电极材料,如钼金属。

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