氦离子束光刻(HIL)是一种新兴的纳米技术。与类似能量的电子束相比，它能从减少的相互作用量中获益，从而降低了远距离散射(近距离效应)，更高的抵抗灵敏度和更高的分辨率。此外，氦离子束的小角扩散会产生较大的磁场深度。这样就可以在不需要任何额外调整的情况下，在倾斜和弯曲的表面上形成图案，例如激光自动聚焦。到目前为止，HIL的大部分工作都集中在利用减少的近距离效应来达到单位数的纳米分辨率，因此一直专注于在小范围内的单像素曝光。这里我们将探索两个新的应用领域。首先,我们调查的邻近效应大面积接触和展示边境的能力制造精确的高密度光栅对大型平面表面(μm 100×100μm与俯冲到35海里)使用面积为暴露剂量。其次，我们通过在倾斜表面上的第一个HIL模式来开发大的景深(样本阶段倾斜45)。我们将演示一个景深大于100μm大约20海里的一项决议。
——文章发布于2018年5月8日
