本文对5个取代的2-氨基-4-(4- x -苯基)噻唑(- x = - h， - och3， - ch3， - cl， - no2)在二甲基硫氧嘧啶中的还原过程进行了伏安法研究。在考虑的电位范围内(-2.0 ~ -2.9 V vs Ag+/AgCl)，检测到一个信号(Ic)，该信号与杂环化合物相应的电化学还原有关。还原信号的伏安分析表明，当增加扫描速度(0.1 < v < 1.0 Vs-1)时，没有观察到与Ic波相关的氧化信号。峰值电流与Ic波速度根的线性关系表明，这是一个由扩散控制的过程，具有明显的不可逆行为。随着电位扫描速度的提高，峰值电位逐渐向负值偏移;这表明该信号具有不可逆行为。取代基的变化影响了电化学行为，证明取代基，如甲氧基化合物-OCH3，对噻唑衍生物的还原有更大的能量需求，在最负电位下，对于没有取代基-H的衍生物，其能量需求变得更大。这是2-氨基-4-(4- x -苯基)噻唑衍生物电化学行为的新证据，这些化合物尚未报道。
