《突破 | 半导体所在氮化物位错演化机制及光电神经网络器件研究领域取得新进展》

  • 来源专题:光电情报网信息监测服务平台
  • 编译者: husisi
  • 发布时间:2024-07-24
  • III-族氮化物多采用蓝宝石衬底异质外延生长,由于大的晶格失配和热失配,导致高密度穿透位错(108-1010),极大地影响氮化物发光器件、电子电力器件性能。中国科学院半导体研究所刘志强研究员团队长期聚焦氮化物生长界面研究并形成系列研究成果,明确了原子尺度氮化物/蓝宝石生长界面构型,阐明了原子尺度界面应力释放机制。近期,半导体所刘志强研究员团队与北京大学高鹏教授,福州大学吴朝兴教授、郭太良教授,韩国汉阳大学Tae Whan Kim教授团队合作,在氮化物位错演化机制及光电神经网络器件研究领域取得新进展。

    当前对于穿透位错的有效抑制手段有限且低效。为了进一步揭示氮化物生长界面的原子尺度位错演化过程,有效降低穿透性刃位错密度,半导体所刘志强研究员团队与北京大学高鹏教授团队开展合作,对GaN /Al2O3界面进行了平面高分辨透射电子显微镜(HRTEM)分析,同时观察到了摩尔图案(Moiré patterns)变形和失配位错的终止;并对摩尔图案变形区域进行原子级表征,基于原子结构以及伯格斯矢量分析,确定导致摩尔图案变形的缺陷类型为穿透刃位错,从而证明外延层中的穿透刃位错起源于界面处失配位错的融合反应(图1-2)。 基于此氮化物穿透位错演化机制的新理解,研究人员构建了滑移界面,降低了滑移势垒,引入了新的应力释放途径,从而揭示了氮化物生长界面位错原子级演化过程,提出了从源头上抑制位错生成的外延新思路,最终实现GaN外延层穿透刃位错密度降低近一个数量级。

    基于高质量外延材料的氮化物光电器件是实现类脑神经网络的技术路线之一。半导体所刘志强研究员团队与福州大学吴朝兴教授,郭太良教授、韩国汉阳大学Tae Whan Kim教授团队合作,构建了基于高质量nano-LED的人工感知神经网络,模拟了人类神经系统中的多通路信号传递过程。

    人脑神经元的应答是即时、高度并行、复杂输出的,构建仿生神经形态电子系统是类脑计算领域的重要研究课题。在交流脉冲驱动下,nano-LED生成具有记忆效应的电致光信号脉冲,利用光脉冲波形中的特征波峰对多个分布式传感器的电信号进行编码,并在人工感知神经网络中无串扰同步传输。构建的人工感知神经网络成功模拟了人脑的触觉感知,识别准确率达到98.88%。

    图1 GaN/Al2O3界面STEM-HAADF刃位错直接观测图像及原子结构示意

    图2 GaN/Al2O3界面穿透刃位错演化机制

    图3 基于记忆电致发光的传入神经系统示意

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    • 编译者:冯瑞华
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    • 有一种元素,以单质分子形式构成了大气体积的 21% 、以化合物形式构成了地壳总质量的 48.6% ,这就是氧。因其活泼的化学性质及其较大的电负性,成就了自然界物种的多样性。自 1777 年由拉瓦锡发现以来,氧元素一直都是化学家的宠儿。如今在新兴的半导体 SERS 领域,它的重要性再一次被体现。   自上世纪 70 年代表面增强拉曼光谱( SERS )面世后,贵金属基底的引入将拉曼检测灵敏度提升了百万倍,克服了传统拉曼光谱与生俱来的信号微弱等缺点,使得拉曼检测在食品安全、环境监测、生命科学等领域得到广泛应用,并迅速成长为最为灵敏的表面物种现场谱学检测技术之一。然而,人们欣喜的同时却遗憾地发现, SERS 仅在金、银、铜等贵金属的粗糙表面才具有高活性,即需依赖贵金属表面电磁增强的 “ 热点 ” 效应,基底的选择十分有限;且实际应用中这种精细调制的材料结构易受环境因素干扰,稳定性差强人意。事实上,探索新型、高性能的非金属基底一直是 SERS 技术中最重要的研究方向之一。尤其近年来半导体化合物被证实具有 SERS 活性,其丰富的种类与化学组成引起人们极大的兴趣,但此类化合物作为 SERS 基底普遍较低的增强因子似乎成为难以突破的科研瓶颈。我们知道,基底材料所表现出的 SERS 性能来源于探针分子与其表面的相互作用,包括电磁增强( EM )与化学增强( CM )两种方式。通常认为金属材料中以电磁增强为主,而半导体化合物表面化学增强则起决定作用。正因为机制不同,半导体材料用作 SERS 基底的设计应遵循完全不同于现有的贵金属材料的研究理念。   最近,中国科学院苏州纳米所赵志刚研究员团队成功地发现了氧分子可以作为开启半导体化合物 SERS 性能宝藏的钥匙,即利用化合物化学组成可调的特点,巧妙地通过氧元素调控过渡金属化合物的化学计量组成或表面晶格氧浓度,来增强非(弱) SERS 活性材料表面物种的信号。   在此学术思想指导下,该研究团队首先选择自身富氧缺陷的 W 18 O 49 海胆状纳米粒子作为 SERS 基底,成功获得了高灵敏度和低探测极限的优异 SERS 性能。这种首次作为 SERS 基底的半导体材料对 R6G 分子的检测极限可低至 10 -7 M ,通过还原气氛( H 2 、 Ar )处理的方法进一步改变 W 18 O 49 的表面氧缺陷浓度,成功地将材料的 SERS 增强因子提升至 3.4 × 10 5 ,是现已报道的性能最为优秀的半导体 SERS 基底材料之一,并已接近无 “ 热点 ” 的贵金属材料。相比之下,化学计量比 WO 3 几乎没有 SERS 活性,这说明氧缺陷对于半导体氧化物的 SERS 性能有着至关重要的作用。   既然从晶格中拖出氧对材料 SERS 如此重要,那么反过来向晶格中插入氧又将如何?带着这个疑问,赵志刚研究员团队选择了硫化钼( MoS 2 )这种本身 SERS 性能微弱的硫族半导体材料,通过取代和氧化两种方式方便地实现其晶格中氧的插入。结果证实,适量的氧插入可使硫化钼的 SERS 活性提升 100,000 倍,但过量的氧掺杂会导致 SERS 活性大幅下降。此外,通过这种氧插入方法,硒化钨、硫化钨、硒化钼等多种化合物的 SERS 性能均可获得大幅增强,也就是说这种晶格氧调控的手段在提升半导体 SERS 性能方面颇具普适性潜力。   至此,晶格中的 “ 氧缺陷 ” 与 “ 插入氧 ” 对半导体 SERS 的增强作用已被统一,而理论计算结果更是指向了同一结论。该团队研究人员将化学增强的理论模型应用于半导体 - 有机分子体系,发现半导体材料晶格氧的增减可作为调控其能级结构的有效手段;其中 “ 氧缺陷 ” 会引入深能级作为电子跃迁的 “ 弹跳板 ” ,而 “ 插入氧 ” 将直接增加带边附近的电子态并伴随着禁带变窄;这些都将显著增加激光激发下半导体中电子跃迁的可能,并进一步通过振动耦合( Vibronic Coupling )作用于半导体 - 有机分子之间的电荷跃迁( Charge Transfer ),影响基底表面所吸附有机分子的极化张力,从而增强其拉曼光谱响应。   以上工作证实了恰当地调制半导体化合物中的晶格氧,可作为显著提升其 SERS 性能的一种有效手段,突破常规 SERS 技术中贵金属基底的局限性,进一步拓宽半导体化合物作为基底材料在 SERS 检测中的应用范畴。系列研究成果相继以 “Noble metal-comparable SERS enhancement from semiconducting metal oxides by making oxygen vacancies” 与 “Semiconductor SERS enhancement enabled by oxygen incorporation” 为题于 2015 年 7 月 17 日、 2017 年 12 月 8 日在 Nature Communications 在线发表。 ( DOI:10.1038/ncomms8800& DOI: 10.1038/s41467-017-02166-z)   研究工作得到国家自然科学基金 (51372266, 51572286, 21503266, 51772319, 51772320) 、 江苏省相关人才计划 (BK20160011) 、 中国科学院青年创新促进会 等的资助和支持。
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