据韩国商业报2024年12月27日报道,韩国半导体巨头三星电子和SK海力士在极紫外(EUV)光刻技术方面采取了不同的策略,引起了业内广泛关注[1]。两家公司都致力于在高度动态和竞争激烈的半导体市场中提高竞争力。
三星电子在全球制造与基础设施总务部下成立了一个新的工作组团队,名为“EUV Synergy 工作组”,作为其年终机构重组的一部分。此举被视为提高3 nm代工厂等超细半导体制造良率的措施。EUV Synergy 工作组的任务是监督EUV设备管理,重点是提高光刻和监测设备的生产率,旨在最大限度地提高EUV光刻设备中使用的各种材料和组件的生产率,包括ASML独家提供的200亿美元光刻机和东京电子的EUV跟踪设备。三星电子对EUV技术的承诺在其对EUV光刻机的大量投资中显而易见。该公司的华城和平泽工厂已获得了30多台EUV光刻机。三星电子于2019年将EUV引入其制造工艺,此后在提高其10 nm级第六代DRAM和亚3 nm(sub-3 nm)代工厂的良率上面临挑战。
相比之下,SK海力士采取了不同的方法。该公司在今年的机构重组中解散了EUV工作组,并将其整合到未来技术研究所。此举突显出SK海力士专注于长期技术进步,而不是立即提高产量。SK海力士于2021年开始将EUV应用于其10nm级第四代DRAM,目前在利川的M16工厂运营着10多台EUV机器。展望未来,SK海力士未来技术研究所预计将专注于为引入下一代EUV光刻设备(称为高NA EUV光刻设备)做准备。SK海力士预计最早将于明年下半年收到第一台高NA EUV光刻设备。
[1] https://www.businesskorea.co.kr/news/articleView.html?idxno=232652