纳米技术在控制产毒真菌和真菌毒素生产方面的潜在应用研究很少。在本文中，阐述了工程银纳米粒子的合成，并且用单粒子电感耦合等离子体质谱法对其进行了描述。然后，研究了它们在控制主要影响食品的产黄曲菌和赭曲霉菌的生长和黄曲霉毒素和赭曲霉毒素A的产生方面的有效性。目标研究种类及其相关真菌毒素为黄曲霉（AFB1和AFB2）、寄生菌（AFB1、AFB2、AFG1和AFG2）、炭疽菌（A. carbonarius）、黑曲霉（A. niger）、赭曲霉（A. ochraceus）、斯特伊尼（A. steynii）、韦斯特迪基亚曲霉（A. westerdijkiae）和疣状青霉（OTA）。培养以0-45μg/ml的剂量添加银纳米粒子（平均直径30 nm，范围14-100 nm）的孢子悬浮液2-30 h。在选定的暴露时间，脱去易位基因并在玉米培养基（maize-based medium, 简称MBM）上培养10天。在这些培养基中，估算了活孢子、抑制活孢子数量50%、90%和100%的有效剂量（effective doses, 简称EDS）、菌落延迟期、抑制菌落生长速率（colony growth rates, 简称GR）50%、90%和100%的有效剂量。采用UPLC-MS/MS法测定黄曲霉毒素、赭曲霉毒素A的水平，在测定条件下，可估算银纳米粒子对所有研究真菌的有效剂量。这些剂量通常随暴露时间的增加而减少，黄曲霉和寄生曲霉的剂量高于赭曲霉类。处在高暴露时间（20-30小时）和可变的银纳米粒子剂量的孢子菌落显示出滞后现象，甚至没有发生依赖于真菌种类的现象。当银纳米粒子剂量和接触时间增加时，玉米培养基中的菌落生长速率以及黄曲霉毒素、赭曲霉毒素A水平降低。菌种、银纳米粒子剂量、暴露时间及其相互作用对玉米培养基真菌生长、黄曲霉毒素、赭曲霉毒素A积累有显著影响。结果表明，银纳米粒子仅作为或作为涂料、薄膜或其他聚合物中的活性成分，在处理主要影响食品的产黄曲菌和赭曲菌、黄曲霉毒素、赭曲霉毒素A污染的主要黄曲和偏曲物种方面，可能是一个很好的策略。
