美国外延沉积和工艺设备制造商Veeco Instruments公司推出了Lumina金属有机化学气相沉积（MOCVD）平台，该平台结合了专有的TurboDisc反应器技术，薄膜均匀性出色，且具有产量和设备优势，适用于各种光子学应用。新的MOCVD平台包括Lumina R480和Lumina R480S、将加速垂直腔表面发射激光器（VCSEL）、边缘发射激光器（EEL）以及微型LED器件的生产。
为了满足消费者对磷化砷（As / P）MOCVD技术的强烈需求，Lumina平台主要面向新一代高效光子器件，例如用于3D感测、自动驾驶和高速数据通信的VCSEL。Lumina平台还用于微型LED生产、下一代4K和8K电视、智能手机和可穿戴设备以及用于光通信和硅光子学应用的EEL设备中的高级显示器。
Lumina R480和R480S系统基于Veeco的MOCVD TurboDisc技术，该技术在长时间的生产过程中均匀性高和缺陷率低，可实现高产量的目标。这是由于该公司的专有技术可实现均匀的热控制，从而实现了极好的厚度和成分的均匀。该系统提供了无缝晶圆尺寸转换功能，能够在直径最大6英寸的晶圆上沉积高质量的As / P外延层。并且R480和R480S系统允许用户定制系统以实现最大价值。
产品线管理高级副总裁Gerry Blumenstock表示：“领先的光子学制造商看到了我们的Lumina MOCVD系统的好处，并正在验证其对未来大批量光子学设备制造产生的影响。凭借成熟的设计、技术和性能，Lumina将推动下一代光子学设备的发展。”
