美国外延沉积和工艺设备制造商Veeco Instruments表示，其Propel HVM金属有机化学气相沉积系统被韩国A-Pro半导体业务子公司A-Pro Semicon Co Ltd选中，用于开发和生产基于氮化镓（GaN）的功率半导体和5G RF器件。这是由于该系统具有出色的均匀性，操作效率和经过验证的性能，可进行大批量生产。
据联合市场研究公司（Allied Market Research）估计，2019年全球GaN功率器件市场为1亿美元，从2020年开始，将以35％的复合年增长率（CAGR）增长至2027年的12亿美元。增长的原因有GaN器件的价格下降，无线充电的GaN器件需求的增加、电动汽车（EV）中采用GaN器件的数量以及用于商业RF应用的GaN器件的增加等。
Veeco表示，其Propel HVM系统为基于GaN的应用提供了大容量、单晶片反应器配置，具有均匀性、重复性和成品率性能，这得益于GaN MOCVD技术数十年的生产规模专业知识。该系统提供200毫米和300毫米配置，最多6个模块化集群室，以实现最大生产力和灵活性，适用于铸造厂和集成设备制造商（IDM）。
Veeco的单晶片Propel HVM平台具有A-Pro Semicon所需要的灵活性和多功能性。因此A-Pro Semicon选择Propel HVM平台作为第一个MOCVD系统，可以帮助扩大其在GaN功率半导体和5G市场中的地位。Propel系统套件以其可靠的高性能和高产量推动了关键技术的革新，例如电源、5G RF和光子学应用，这些趋势正在推动着A-Pro Semicon使用GaN MOCVD技术扩展5G RF技术并使之商业化。
