为了确定Ar +离子轰击在纳米结构碳材料生长特性中的关键作用，本文提出了一种新的方法，即通过分离催化剂薄膜，在等离子体增强化学气相沉积(PECVD)中制备不同的Ar +离子态。为了实现多层结构的NCMs，在催化剂膜的两边同时制造不同的轰击环境。结果表明，Ar +离子轰击对NCMs的生长具有重要的作用。首先，Ar +离子轰击对碳纳米管(CNTs)具有正、负作用。一方面，Ar +离子可以分解CNTs的图形结构，抑制薄CNT的成核和生长。另一方面，Ar +离子轰击可以消除大催化剂颗粒表面的冗余碳层，这对厚碳纳米管是必不可少的。因此，CNTs的直径取决于Ar +离子状态。对于垂直方向的few - layer石墨烯(VFG)，Ar +离子是必不可少的，甚至可以将CNTs转换成VFG。因此，通过与催化剂分离方法相结合，通过改变Ar +离子轰击的强度，通过PECVD获得特殊或多层结构的NCMs，这些特殊的NCMs在许多领域都是有前途的。
—文章发布于2017年10月26日
