登录
机构网站
切换导航
首页
到馆服务
学科服务
研究支持
情报产品
数据资源
科学传播
关于我们
首页
馆藏纸本
图书详情
Plasma etching processes for interconnect realization in VLSI
出版社：
London : ISTE Press ; Oxford : Elsevier Ltd, 2015.
ISBN：
9781785480157
出版年：
2015
作者：
Posseme,Nicolas,
资源类型：
图书
细分类型：
西文文献
1浏览量
问图书管理员
馆际互借
点赞
收藏
访问借阅管理系统
分享
相关推荐
Glow discharge processes : sputtering and plasma etching
作者：
Chapman,Brian.
ISBN：
0000000000
出版社：
New York : Wiley, 1980.
出版年：
1980
Glow discharge processes : sputtering and plasma etching
作者：
Chapman,Brian N.
ISBN：
047107828X
出版社：
New York : Wiley, 1980.
出版年：
1980
Applications of plasma processes to VLSI technology
作者：
Sugano,Takuo,
ISBN：
0471869600
出版社：
New York : Wiley, c1985.
出版年：
1985
Dry etching for VLSI
作者：
Roosmalen,A. J. van.
ISBN：
91007385
出版社：
New York : Plenum Press, c1991.
出版年：
1991
Dry etching for VLSI
作者：
Roosmalen,A. J. van.
ISBN：
91007385 36
出版社：
New York : Plenum Press, c1991.
出版年：
1991
Plasma Etching in Semiconductors Fabrication
作者：
Russ A. Morgan
ISBN：
0444424199
出版社：
Amsterdam : Elsevier, 1985.
出版年：
1985
×
访问借阅管理系统
问图书管理员
馆际互借