相关推荐

高深宽比电子束光刻工艺研究

  • 作者:李有金
  • 出版社:中国科学院上海微系统与信息技术研究所
  • 出版年:2022

高精度掩模版电子束光刻关键技术研究

  • 作者:王冠亚
  • 出版年:2013

14nm及以下节点光刻工艺中关键技术研究

  • 作者:赵利俊
  • 出版年:2018

衍射极限附近的光刻工艺

  • 作者:伍强
  • ISBN:9787302537427
  • 出版社:清华大学出版社
  • 出版年:2020

EUV光刻工艺下的先进技术节点禁止周期图形及优化方法研究

  • 作者:马玲
  • 出版社:中国科学院微电子研究所
  • 出版年:2022

电子工艺技术

  • 作者:电子工艺技术编辑部
  • ISBN:10013474
  • 出版社:电子工艺技术编辑部
  • 出版年:1980