中高浓度SiGe沟道FinFET器件集成及其电学特性优化研究

出版社:中国科学院大学集成电路学院
出版年:2023
作者:陈安澜
资源类型:图书
细分类型:学位论文
相关推荐

SiGe沟道界面优化及其FinFET器件集成研究

  • 作者:李纯
  • 出版社:中国科学院微电子研究所
  • 出版年:2023

超短沟道二硫化钼晶体管构筑及电学特性研究

  • 作者:万红凤
  • 出版社:国家纳米科学中心
  • 出版年:2022

垂直C型沟道纳米片晶体管器件与工艺集成研究

  • 作者:肖忠睿
  • 出版社:中国科学院微电子研究所
  • 出版年:2023