登录
 机构网站
  1. 首页
  2. 馆藏纸本
  3. 图书详情
...

SiGe沟道界面优化及其FinFET器件集成研究
出版社：中国科学院微电子研究所
出版年：2023
作者：李纯
资源类型：图书
细分类型：中文文献
1浏览量
 馆际互借
访问借阅管理系统
相关推荐
...

中高浓度SiGe沟道FinFET器件集成及其电学特性优化研究
  • 作者：陈安澜
  • 出版社：中国科学院大学集成电路学院
  • 出版年：2023
...

SiGe高迁移率沟道三维器件集成及优化研究
  • 作者：刘昊炎
  • 出版社：中国科学院大学集成电路学院
  • 出版年：2024
...

SiGe高迁移率沟道环栅器件关键技术研究
  • 作者：赵飞
  • 出版社：中国科学院微电子研究所
  • 出版年：2024
...

新型SOI-FinFET器件选择性沟道缩小技术研究
  • 作者：李俊锋
  • 出版年：2015
...

锗硅高迁移率沟道FinFET及FOI新结构器件关键技术研究
  • 作者：刘昊炎
  • 出版年：2021
...

新型垂直沟道晶体管器件及集成工艺研究
  • 作者：陈卓
  • 出版社：中国科学院微电子研究所
  • 出版年：2023