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EUV lithography
出版社：Bellingham, Wash. : SPIE Press ; Hoboken, NJ : John Wiley, c2009.
ISBN：9780819469649
出版年：2009
作者：Bakshi,Vivek.
资源类型：图书
细分类型：西文文献
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EUV sources for lithography
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X-ray/EUV optics for astronomy, microscopy, polarimetry, and projection lithography : 9-13 July 1990
  • 作者：Hoover,Richard B.
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Extreme ultraviolet (EUV) lithography VIII : 27 February - 2 March 2017, San Jose, California, Unite
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Extreme ultraviolet (EUV) lithography VII : 22-25 February 2016, San Jose, California, United States
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  • 出版年：2016
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Extreme ultraviolet (EUV) lithography IV : 25-28 February 2013, San Jose, California, United States.
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  • 出版社：Bellingham, Wash. : SPIE, 2013.
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Advances in mirror technology for x-ray, EUV lithography, laser and other applications : 7-8 August
  • 作者：Conference on Advances in Mirror Technolgy for X-Ray,EUV Lithography,Laser,and Other Applications
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  • 出版社：Bellingham, Wash. : SPIE, c2004.
  • 出版年：2003