《美国半导体联盟正式发布《微电子和先进封装技术路线图》》

  • 来源专题:集成电路
  • 编译者: 李衍
  • 发布时间:2023-12-13
  • 2023年10月,美国半导体工业协会(SIA)联合半导体研究联盟(SRC)正式发布《微电子和先进封装技术路线图(MAPT)》,总结了技术进步的关键驱动因素,为如何突破十年计划中概述的技术挑战提供指导,并为培养实现创新战略所需的人才制定战略。《微电子和先进封装技术路线图》是对半导体研究联盟《2030年半导体十年计划》的扩展,《2030年半导体十年计划》确定了与智能传感、内存和存储、通信、安全和节能计算相关五个行业的重大转变。

    在3月发布的临时版报告基础上[1] ,正式报告仍聚焦11个关键驱动因素,具体包括:(1)应用驱动因素和系统要求;(2)可持续发展与能源效率;(3)安全和隐私;(4)数字处理;(5)模拟和混合信号处理半导体;(6)光子学和微机电系统;(7)先进封装与异构集成;(8)材料、衬底、供应链;(9)设计、建模、测试和标准;(10)制造和工艺开发计量学;(11)劳动力发展[2]。但是,正式报告调整了关键驱动因素在报告内容中的章节排序,例如:将“应用驱动因素和系统要求”章节明显前置,将“材料、衬底、供应链”明显后置。


    [1] http://dtjc.gdinfo.net/choiceness/getChoicenessDetail.htm?serverId=14&uuid=f263afbb7e2cd03b16df2b1742d1a6cf&recommendId=119474&controlType=

    [2] https://mp.weixin.qq.com/s/-nQA6jWuk8W_56qPCLaVTg



  • 原文来源:https://srcmapt.org/introduction/
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    • 编译者:李衍
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    • 2023年3月1日,美国半导体研究联盟(Semiconductor Research Corporation, SRC)在美国商务部国家标准与技术研究院(NIST)资助下编制并发布《微电子和先进封装技术路线图》(以下简称“MAPT路线图”)临时报告,从生态系统、系统架构和应用、系统集成和基础微电子四个层面,规划并梳理关键核心技术和培育专业人才队伍所需的步骤,以确保未来美国在设计、开发和制造异质集成系统级封装(SiP)方面的创新能力。MAPT路线图以2021年版《半导体十年计划》和《异构集成路线图》为基础进行构建,提出了一个新的全面的3D半导体路线图,以指导即将到来的微电子革命。 MAPT路线图仍在开发,临时报告旨在广泛征集公众意见以实现高质量的最终路线图。MAPT路线图共包含12章。第一章为MAPT路线图报告概况,其余11章具体包括: 1. 可持续发展与能源效率。根据《半导体十年计划》,现阶段计算解决方案不可持续,随着计算需求的增加,计算的能源需求将超过市场上可用的能源。如果未来十年能源效率没有实现1000倍的提高,2040年后没有实现1000000倍的提高,计算将处于能源受限状态,不会增长、驱动新市场或刺激全球GDP增长。此外,由于全球半导体需求日益增长,以及美国《芯片法案》目标,预计未来几年美国的芯片制造将会增加。同时,从环境和人类健康的角度来看,芯片制造和先进封装所涉及的化学品、材料和工艺以及产品设计本身都必须尽可能可持续。可持续发展与能源效率的跨领域需求包括:(1)提高计算中的能源效率;(2)在半导体器件和系统的全生命周期中(如:设计、开发、制造、使用、产品使用寿命期后废弃管理)提高环境可持续性和效率;(3)随着社会需求的变化,可持续解决方案和系统创新所需的劳动力的发展。 2. 材料、衬底、供应链。本章聚焦微电子封装供应链生态的输入端,材料的来源、环境因素、成本等都会影响封装供应链的韧性和可持续性。MAPT路线图旨在确定未来几代先进电子封装结构中将使用的材料和化学品,重点考虑因素包括:高可靠性材料、新工艺材料、电气性能材料、机械性能/工艺可操作性材料、热管理材料、可靠性/温度/湿度性能优越材料和环境可持续材料。 3. 设计、建模、测试和标准。本章涉及未来的设计自动化组合和行业标准开发。这些设计工具和标准将有效帮助芯片和系统设计者探索和优化不同设计领域以及性能、功率/能源、面积/体积、保密性和安全性等指标,并将成为半导体行业的关键推动者。 4. 制造和工艺开发计量学。本章涵盖了半导体材料和器件研究、开发和制造等各个方面的测量。“表征和计量”可离线、在线和线上使用,包括物理和电气测量的所有方面。“表征和计量”涵盖了从原子尺度到宏观尺度的测量。对新材料和新结构的探索是表征密集型的,而且随着工艺技术的日益成熟,晶圆厂内计量(in-fab metrology)的使用也在增加。本章描述了MAPT路线图所有领域的表征和计量,从材料和器件到先进封装和异构集成以及系统。 5. 安全和隐私。本章确定了新出现的安全和隐私挑战,并概述了解决这些挑战的方法。本章对整个技术堆栈进行了全面分析,但重点强调了对制造和封装技术的影响。本章是对2019年IEEE发布的《异构集成路线图》(Heterogeneous Integration Roadmap)安全章节的补充。本章的主要主题包括:(1)异构集成中潜在的硬件安全漏洞;(2)确定SiP安全内容的可行策略,以及定义合理指标以评估安全弹性实施的可行策略;(3)针对特定应用的攻击预测和防御机制。 6. 劳动力发展。本章概述了未来十年MAPT领域劳动力的需求。美国上下一致认为,目前的人才库以及创建和支持美国国内MAPT劳动力的途径都远远达不到预期需求,并已成为关系美国经济和国家安全的关键点。目前,从技术认证师、专科学位操作员、维护工程师到硕士和博士工程师,MAPT领域不同教育水平的工人在数量、知识、技能和能力方面都不足以满足未来的需求。本章内容主要包括:(1)微电子劳动力需求的预测/时间表;(2)全国“赢得人心”运动的路线图;(3)整个MAPT生态系统的整体、有效的劳动力发展框架。 7. 应用驱动因素和系统要求。本章描述了各种应用领域的影响及其对MAPT路线图所涵盖的关键使能技术方向的影响,并具体讨论了数据中心和高性能计算、移动通信和基础设施、边缘计算和物联网、汽车、生物应用和健康、安全和隐私、以及防御和恶劣环境等应用实例。每一个应用领域都将以不同方式发展,并需要领域特定的系统来实现更高水平性能。 8. 先进封装与异构集成。本章重点介绍了微电子芯片的先进封装和异构集成的各个方面。由于使用更精细的晶体管(低于20nm)微缩芯片的成本优势正在减弱,因此有必要采用一种新方法,即将单个晶粒分解为更小的芯粒(chiplet)并在适当的技术制程上进行经济有效地制造。为了通过芯粒和无源元件的异构集成实现功能“缩放”,封装必须从“芯片载体”过渡到“集成平台”。随着微电子行业朝着为每个应用定制更高性能、更低功耗的解决方案发展,芯粒数量将继续增加。下一代封装技术需要支持这种异构集成的爆炸式增长,实现可以容纳极细间距I/O芯片和极细间距电路系统的互连。 9. 数字处理。本章重点介绍了已经渗透到现代社会各个方面的数字处理技术和基础设施。如今,产率问题、散热设计功耗(TDP)的实际限制、先进技术制程的高设计和制造成本对实现终端用户期望构成威胁。与此同时,人工智能/机器学习相关应用、高级认知需求、区块链等方面都要求处理不断增加的数据集,并执行越来越复杂的计算。单芯片封装解决方案不再适配数据密集型或高性能处理需求。此外,数据处理成本现在主要由将数据移动的能耗决定,包括在处理数据的微芯片内移动数据的能耗。将不同的未封装芯粒进行单片异构集成从而形成SiP,已成为解决这些挑战的重要方案。 10. 模拟和混合信号处理。模拟和混合信号处理驱动着模拟硬件的新兴应用和趋势,本章概述了该领域的短期、中期和长期前景。模拟元件对于世界-机器接口、传感、感知、通信和推理系统,以及所有类型的电气系统的电力分配、输送和管理至关重要。模拟信号处理或“模拟边缘”处理有助于减少必要的数字处理数量。本章的主要主题包括:(1)模拟和混合信号电路及处理;(2)电力转换和管理;(3)智能传感接口;(4)射频(RF)到太赫兹(THz)的器件、电路和系统(RF-to-THz devices, circuits and systems)。 11. 光子学和微机电系统。本章阐述了存储器、计算、传感、通信等所必需的重要配套技术。本章是对2021年荷兰PhotonDelta联盟和麻省理工学院微光子学研究中心发布的《国际集成光子学系统路线图》(Integrated Photonics System Roadmap – International, IPSR-I)的补充。本章的主要主题包括:(1)基于微机电系统和光子学的传感器和执行器;(2)用于通信的集成光子学;(3)用于存储器和计算的光子I/O;(4)材料和加工;(5)设计和建模支持。
  • 《我国《第三代半导体电力电子技术路线图》正式发布》

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    • 编译者:姜山
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    • 中国科技网讯(记者李禾)2018年7月31日,国内首个《第三代半导体电力电子技术路线图》正式发布。该路线图是由第三代半导体产业技术创新战略联盟组织国内外众多大学、科研院所、优势企业的知名院士、学者和专家,历时1年多共同编写而成,对指导和促进第三代半导体技术和产业的发展具有重要意义。 第三代半导体是支撑国防军备、5G移动通信、能源互联网、新能源汽车、轨道交通等产业创新发展和转型升级的重点核心材料和电子元器件,因其在国防安全、智能制造、产业升级、节能减排等国家重大战略需求方面的重要作用,正成为世界各国竞争的技术制高点。未来5-10年是全球第三代半导体产业的加速发展期,也是我国能否实现产业自主可控的关键期。 据介绍,《第三代半导体电力电子技术路线图》围绕电力电子方向,路线图主要从衬底/外延/器件、封装/模块、SiC应用、GaN应用等四个方面展开论述,提出了中国发展第三代半导体电力电子技术的路径建议和对未来产业发展的预测。 该联盟表示,从2016年就展开了与美国电气和电子工程师协会(IEEE)ITRW分会合作,并委派联盟国际分委会参与ITRW的工作。2017年,联盟组织国内大学、科研院所、优势企业的知名院士、学者和专家,成立与ITRW对应的中国工作组,这包括衬底/外延/器件、封装模块、碳化硅应用、氮化镓应用等四个工作组,并启动编写中国版《第三代半导体电力电子技术路线图》的编制工作。 一年多来,中国工作组克服了资料缺乏、工作压力大、工作协调繁杂等多方面的困难,通过采取远程会议、专项会议讨论、专家咨询和等多种方式,对初稿进行反复修改,在全体工作组成员的共同努力下,中国版《第三代半导体电力电子技术路线图》第一版(2018)终于正式发布。《第三代半导体电力电子技术路线图》将帮助行业和企业把握技术研发和新产品推出的最佳时间,帮助政府更好明确技术研发战略、重点任务、发展方向和未来市场,集中有限优势资源为产学研的结合构建平台,能使利益相关方在技术活动中步调一致,减少科研盲目性和重复性,将市场、技术和产品有机结合,为不同创新主体提供合适的技术关联“着力点”。 据悉,继电力电子路线图之后,联盟还将陆续组织光电、微波射频等其他应用领域的技术路线图。