《中国科学院上海技物所和美国宾夕法尼亚大学合作在半导体异质结隧穿电子调控机制研究中取得进展》

  • 来源专题:集成电路
  • 编译者: 李衍
  • 发布时间:2022-11-09
  •     据中国科学院之声10月28日报道,中国科学院上海技术物理研究所红外科学与技术重点实验室胡伟达、苗金水团队,与美国宾夕法尼亚大学教授德普·贾瑞拉合作,通过耦合局域场调控二维原子晶体能带,实现硒族半导体/硅半导体异质结隧穿电子的有效操控,为混合维度异质结构在高性能电子与光电子器件研制方面奠定了理论与实验基础。

      半导体中电子的输运(漂移、扩散、隧穿等)对电子与光电子器件具有重要影响。近年来,二维原子晶体因外场可调的物理性质,为突破电子与光电子器件的性能极限提供了机遇。然而,二维/三维异质结器件中电子的产生与复合、隧穿等动力学过程以及外场调控机制尚不清晰,多功能器件的研制有待进一步发展。

      针对上述问题,上海技物所团队利用二维原子晶体无表面悬挂键以及能带结构易受局域场调控的物理特性,探讨了二维硒族原子晶体与硅半导体异质结中隧穿电子在栅极电压与漏极电压协同调控下的输运行为。通过电容耦合的局域电场操控半导体异质结的能带结构,科研人员实现了电子band-to-band隧穿效率的有效操控,并观测到负微分电导与齐纳击穿现象。基于二维/三维异质结构的器件,该研究实现了6.4mV/decade的极低亚阈值摆幅以及高的电流开关比(10 6)。


        相关研究成果以Heterojunction tunnel triodes based on two-dimensional metal selenide and three-dimensional silicon为题,发表在《自然-电子学》(Nature Electronics)上。 

        论文链接为:https://www.nature.com/articles/s41928-022-00849-0

  • 原文来源:https://www.cas.cn/zkyzs/2022/11/368/kyjz/202211/t20221101_4853291.shtml
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    • 中国科学院上海技物所红外科学与技术重点实验室胡伟达、苗金水团队与宾州大学德普·贾瑞拉教授合作,通过耦合局域场调控二维原子晶体能带,实现硒族半导体/硅半导体异质结隧穿电子的有效操控,为混合维度异质结构在高性能电子与光电子器件研制方面提供了理论与实验基础。相关成果于2022年10月28日以“Heterojunction tunnel triodes based on two-dimensional metal selenide and three-dimensional silicon”为题发表在国际期刊《自然·电子学》(Nature Electronics)杂志。 半导体中电子的输运(漂移、扩散、隧穿等)对电子与光电子器件有着重要的影响。近年来,二维原子晶体因其外场可调的物理性质,为突破电子与光电子器件的性能极限提供了机遇。然而,二维/三维异质结器件中电子的产生与复合、隧穿等动力学过程以及外场调控机制尚不清晰,多功能器件的研制有待进一步发展。 针对上述问题,上海技物所研究团队利用二维原子晶体无表面悬挂键以及能带结构易受局域场调控的物理特性,研究了二维硒族原子晶体与硅半导体异质结中隧穿电子在栅极电压与漏极电压协同调控下的输运行为。通过电容耦合的局域电场操控半导体异质结的能带结构,实现了电子band-to-band隧穿效率的有效操控,并成功观测到负微分电导与齐纳击穿现象。基于二维/三维异质结构的器件,实现了6.4mV/decade的极低亚阈值摆幅以及高的电流开关比(106)。 苗金水研究员为该论文的第一兼通讯作者、德普·贾瑞拉为共同通讯作者。
  • 《中国科学院半导体所、北京大学等在石墨烯上外延深紫外LED研究中取得新进展》

    • 来源专题:集成电路
    • 编译者:shenxiang
    • 发布时间:2019-04-30
    • 深紫外LED可以广泛应用于杀毒、消菌、印刷和通信等领域,国际水俣公约的提出,促使深紫外LED的全面应用更是迫在眉睫,但是商业化深紫外LED不到10%的外量子效率严重限制了深紫外LED的应用。AlN材料质量是深紫外LED的核心因素之一,AlN薄膜主要是通过金属有机化学气相沉积(MOCVD)的方法异质外延生长在c-蓝宝石、6H-SiC和Si(111)衬底上,AlN与衬底之间存在较大的晶格失配与热失配,使得外延层中存在较大的应力与较高的位错密度,严重降低器件性能。与此同时,AlN前驱体在这类衬底上迁移势垒较高,浸润性较差,倾向于三维岛状生长,需要一定的厚度才可以实现融合,增加了时间成本。 最近,中国科学院半导体研究所照明研发中心与北京大学纳米化学研究中心、北京石墨烯研究院刘忠范团队合作,开发出了石墨烯/蓝宝石新型外延衬底,并提出了等离子体预处理改性石墨烯,促进AlN薄膜生长实现深紫外LED的新策略。通过DFT计算发现,等离子体预处理向石墨烯中引入的吡咯氮,可以有效促进AlN薄膜的成核生长。在较短的时间内即可获得高品质AlN薄膜,其具有低应力、较低的位错密度,深紫外LED器件表现出了良好的器件性能。该成果以Improved Epitaxy of AlN Film for Deep-Ultraviolet Light-Emitting Diodes Enabled by Graphene 为题发表在《先进材料》上(Adv. Mater.,DOI: 10.1002/adma.201807345)。半导体所研究员李晋闽、魏同波与北京大学刘忠范、研究员高鹏作为论文共同通讯作者,陈召龙与刘志强为论文共同第一作者。 同时,魏同波与刘忠范团队合作提出了石墨烯/NPSS纳米图形衬底外延AlN的生长模型,理论计算和实验验证了石墨烯表面金属原子迁移增强规律,石墨烯使NPSS上AlN的合并时间缩短三分之二,同时深紫外LED功率得到明显提高,使深紫外光源有望成为石墨烯产业化的一个突破口。相关成果在Appl. Phys. Lett. 114, 091107 (2019)发表后被选为Featured article,并被AIPScilight 以New AlN film growth conditions enhance emission of deep ultraviolet LEDs 为题专门报道,也被半导体领域评论杂志Compound Semiconductor 杂志版(2019年第3期)和Semiconductor Today 同时长篇报道。 此外,针对深紫外发光器件中p型掺杂国际技术难题,刘志强提出了缺陷共振态p型掺杂新机制,该方法基于能带调控,获得高效受主离化率的同时,维持了较高的空穴迁移率,实现了0.16 Ω.cm的p型氮化镓电导率,为后续石墨烯在深紫外器件透明电极中的应用奠定基础。相关成果发表在Semicond. Sci. Technol. 33, 114004 (2018),并获该期刊2018年度青年科学家最佳论文奖,该成果也得到2014年诺贝尔物理学奖获得者Amano的积极评价。 上述系列研究工作得到国家重点研发计划、国家自然科学基金、北京市自然基金的支持。