拓扑光学状态对缺陷有独特的免疫力，使其成为光子应用的理想。这种状态的强大类别是基于对光学响应的时间反转对称性的破坏。然而，现有的建议要么涉及复杂而庞大的结构设计，要么只能在微波系统中运行。在这里，我们展示了一个理论论证，在一个简单的二维(2D)材料结构中，在红外频率上实现了高度密闭的拓扑保护光学状态，一个周期性图案的石墨烯单层，在一个只有2特斯拉的磁场中。在我们的石墨烯蜂窝状超晶格结构中，等离子体在温和的静态磁场下的超晶格节点上表现出了大量的非交互行为，导致了拓扑保护的边缘状态和局部的批量模式的出现。这种方法简单而有力，可以在二维原子层中实现拓扑非平凡的光学状态，并可以为构建快速、纳米级、缺陷免疫的光子器件铺平道路。
——文章发布于2017年11月01日
