《致力于用光的组分来测量纳米尺度特征的研究：展现下一代半导体生产的前景》

• 来源专题：纳米科技
• 编译者： chenfang
• 发布时间：2015-12-11

美国国家标准与技术研究所（NIST）的研究人员们以一种完全不同的方式看到了光。他们是如何做的，这可能会是用于扩展其使用光学显微镜的方法来测量接近10纳米的计算机芯片特性、光的微小分数的半导体行业的门票。这些研究人员报道，在SEMATECH制造晶片上细如16纳米宽的测量线可以精确到一纳米。该方法也得益于一点点超前的智能——芯片上的电路线设计，下至每一个模块的大小。了解什么有望成为复杂芯片制造过程的结果，则可建立一个经典的对决理论。