1月9日消息，据国外媒体报道，日本昭和电工日前宣布，计划建设上海第二工厂，增产半导体材料。昭和电工株式会社（简称昭和电工）表示，为了强化电子材料用高纯度气体事业，决定在上海的生产基地-上海昭和电子化学材料有限公司（以下简称“SSE”）的旁边取得第二工厂建设用地，建设高纯度一氧化二氮和高纯度八氟环丁烷的生产设施，以及高压气体危险品仓库。第二工厂拟于2021年下半年投产。 上海第二工厂计划面积约10,000平方米，计划高纯度一氧化二氮年生产能力1,000吨，计划高纯度八氟环丁烷年生产能力600吨。 高纯度一氧化二氮主要是半导体及显示屏制造时的氧化膜的氧来源的特种气体，高纯度八氟环丁烷主要是这种氧化膜的微细加工（蚀刻）时的特种气体。 昭和电工表示，由于5G等信息通信领域的发展，预计今后中国大陆的半导体及显示屏市场（有机EL电视机等）将会扩大。 另外，昭和电工还表示，由于预计中国台湾地区的半导体市场同样也会扩大，本公司的现地生产子公司“台湾昭和化学品生产股份有限公司”也将新建年产150吨高纯度八氟环丁烷的生产设施（计划2020年春投产）。本次在上海和台湾的投资总额约为30亿日元（约合人民币1.9亿元）。 目前，昭和电工在川崎事业所和韩国基地生产高纯度一氧化二氮，并在川崎事业所和上海基地（SSE第一工厂）生产高纯度八氟环丁烷。
