《国外封锁对半导体设备行业潜在影响分析》

  • 来源专题:集成电路
  • 编译者: shenxiang
  • 发布时间:2020-10-16
  • CINNO Research 产业资讯,中美之间的贸易战是多方面的。它最初只是美国为了减小双边贸易逆差的一项决策,不过如今已经演变成了一场针对技术、知识产权及不公平贸易的斗争。

    5 月 16 日,美国商务部以国家安全为由将中国的华为列入“实体清单”,此举会限制相应公司对其设备所需美国制造组件的使用。更直接点来说,此举将禁止华为使用美国技术制造芯片,这意味着使用美国晶圆厂设备的台湾代工厂台积电(TSMC)不能再为华为制造麒麟智能手机芯片。

    8 月 17 日,美国商务部进一步宣布将扩大限制措施,以限制华为使用美国软件和设备制造芯片。实际上,美国现在正在考虑对半导体制造设备以及相关软件工具、激光器、传感器和其他技术的出口实行新的限制。

    一周后,美国商务部在政府网站上发布消息称,他们正在寻求公众对如何定义新技术的意见。这些意见将直接决定美国企业出口产品中“是否含有需要实行更严格控制的基础技术。”

    这种对新技术定义的不确定性对设备市场影响很大,它正在造成供应商间的混乱,因为它可能不仅适用于美国公司,同时也会对一些来自欧洲和日本的设备公司产生影响。

    1、全球半导体设备行业

    如果没有诸如应用材料(AMAT)、Lam Research(LRCX)、KLA、东京电子(TEL)和 ASML 之类的半导体设备商,全球最领先的芯片制造商也将无法生产出先进的 IC。而中国目前也还没有可以全面替代这些公司本土设备公司。

    图 1

    图 1 显示了 2013 年至 2019 年排名前五位的设备供应商市场份额。这五家公司占全球设备市场(595 亿美元)的 65%。就图 1 详细说明如下几点:

    1. 两条曲线描述了 AMAT(黑色和灰色所示)的情况。总的来说,除了 2016 年有(年)一定增长,其他年份该公司的市场份额一直在下降。AMAT 2019 年的收入包含原来属于 2018 年的 3.31 亿美元,该公司将其称为“重新分配收入”(一种会计方法的变更)。如果不作如此会计方法的调整,AMAT 2019 年的收入将低于 2018 年(如黑线所示)。不过,凭借上述会计方法的调整,即从 2018 年收入中扣除 3.31 亿美元并将其投入到 2019 年,其曲线显示出收入增加(灰色线所示)趋势。

    2. ASML(如黄线所示)2019 年成为市场份额最大的设备供应商,同时这也是 20 多年来 AMAT 首次从第一名跌落。

    3. LRCX 的市场份额已连续两年下降。

    4. 日本的 TEL 凭借其在非管式低压 CVD(LPCVD,Low Pressure CVD)领域的优势地位连续增长多年。

    5. 得益于公司对 Orbotech 公司的收购,KLA 的份额目前已经增加到 6.1%。实际上,如果没有这次收购,该公司超过半数的份额还在计量 / 检查设备领域。

    2、中国半导体设备行业

    根据营销报告显示,中国 2019 年的设备进口额达到 135 亿美元,同年度国内设备市场总额不到 2.5 亿美元,主要包括 AMEC(中微半导体)、NAURA(北方华创)以及 ACM Research、Mattson 和 Piotech(沈阳拓荆)等其他公司。

    财务能力

    如下表 1 列出了中国设备供应商制造的各种类型的设备,同时还将它们与最大的外国供应商市场份额进行了比较。可以看出,(1)中国设备公司在设备类型上很分散,单一设备只有很少的公司供应;(2)中国所有这些设备公司的市场份额和顶级外国设备供应商相差非常大。

    表 1

    对于客户而言:

    1. AMEC 的蚀刻系统已经用于台积电(TSMC)的 5nm 晶圆厂,他们目前正在开发高纵横比蚀刻机和阶梯蚀刻机,主要用于长江存储(YMTC)的 128 层 3D NAND 制造。其他客户还包括中芯国际、华虹和华力。

    2. NAURA 供应的设备较为广泛,其客户包括中芯国际(SMIC)、华虹、YMTC 和 GTA 半导体。

    3. NAURA 向中国的半导体公司出售了 8 台蚀刻系统以及 6 台 CVD 和 ALD 沉积系统,同时该公司在 2019 年还售出 34 台熔炉以及 16 台清洗系统。

    4. 沈阳拓荆获得 YMTC 4 种 PECVD(主要用于 SiN、SiO2 材料沉积)系统的订单,另外还从华虹和中芯国际收到二次订单。

    5. ACMR 在清洁系统领域具有一定竞争力,他们的设备已经在 YMTC、华虹、华力以及 SK Hynix(OTC:HXSCL)安装。

    技术能力

    这些中国设备公司的技术能力如何?根据分析,NAURA 已经具有生产 5nm 芯片的能力,可与 AMAT 和同类产品媲美。另外,他们正在生产具有 14nm 制程能力的设备,而用于 7nm 和 5nm 节点的蚀刻和沉积设备还在开发中。

    这里,认识下面三点很重要:

    1. 技术节点不是一个固定的概念。例如,英特尔 10nm 制程的晶体管密度比台积电 SRAM 的 7nm 还略微高一点。如果从节点概念看,逻辑上台积电 7nm 制程的晶体管密度应该比英特尔的 10nm 制程高。

    2. 尽管中国供应商具有 5nm 节点的制程能力,但这里还存在着一个疑问——如果没有 EUV 技术,他们能否实现 7nm 节点,这一点在之前关于 SMIC 的 SA 文章中有过讨论。

    3. 根据之前的报告,中国的芯片产能只有 25%可以做到小于 20nm,该一节点技术已经有六年的历史了。2020 年第一季度,中芯国际的收入中只有 1.3%来自 14 纳米制程的芯片。

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  • 《继半导体材料后,光刻机相关设备市场或受日韩贸易战影响》

    • 来源专题:集成电路
    • 编译者:shenxiang
    • 发布时间:2019-08-26
    • 在半导体设备的供应商名单中,前15大厂商营收占总产值超过8成,由于半导体制造厂商在设备选择上多属于长期合作模式,因而形成目前半导体设备厂商大者恒大的态势。 从全球半导体设备厂的总部位置来看,日本厂商占7间、美国厂商4间、欧洲厂商2间、新加坡与韩国各1间。由于美国与日本厂商为供应链主要玩家,面对话题性不断升温的中美贸易战,以及近日突发的日韩贸易关系恶化,也让半导体设备供需状况,或将成为继半导体材料后市场讨论的议题。 半导体设备产业聚落集中度高,美国与日本为主要玩家 从设备在半导体制程的位置分析,具有独占性质的是荷兰光刻机厂商ASML,在半导体的曝光显影制程中扮演重要角色,技术层面与市占最集中,虽然有日本厂商Canon与Nikon做为竞争对手,但市占率不及ASML。 在蚀刻制程部分,Applied-Materials、LAM Research、Tokyo Electron(TEL)、Hitachi High-Technology(HHT)是主要厂商,市占部分以LAM Research与TEL囊括近7成份额。 在晶圆清洗制程部分,日商SCREEN以市占超过5成位居首位,旗下的桶槽式(WET Bench)与单晶圆式(Single Wafer)晶圆清洗设备是市场领头羊,竞争对手如韩国SEMES、LAM Research与TEL的清洗设备皆有比照SCREEN相对应的机台设计。 在薄膜沉积制程部分,Applied Materials占主导地位,其CVD(化学气相沉积)设备市占率近6成,而在PVD(物里气相沉积)设备部分市占率达7成,竞争对手TEL、LAM Research等分食剩余市场,值得一提的是,ASM International的原子层沉积(Atomic Layer Deposition,ALD)针对特定需求市场具有很高的机台使用率。 最后在晶圆检验设备方面,美商KLA Tencor市占最高超过5成,Applied Materials与Hitachi High-Technology是主要竞争对手,而日商ADVANTEST与美商Teradyne则是晶圆测试市场的主要供应商。 整体来说,半导体晶圆制造的主要设备技术供应商以美国与日本为主,高集中度的产业聚落也意味着容易受各国在贸易与进出口政策上的变动而影响产业状况,例如中美贸易战与近期的日韩关系恶化,均为半导体产业添加不稳定因子,也持续考验供应商对大环境的应变能力与经营策略。 日商半导体设备尚未出现明显影响,然而光刻机相关设备或将有潜在风险 日本与韩国同为亚洲区半导体产业一线集团,而2019年8月2日,日本宣布将韩国移出适用贸易优惠待遇的白名单后,韩国半导体产业受到的影响也备受市场关注。对半导体设备而言,机台在收到PO后约需半年制作时间,如果出口审核的时间能纳入制作机台的时间内,则较不会产生负面影响;然而,倘若审核时间必须叠加上机台出货时间,对机台出货的优先级及晶圆厂的产能规划就会造成不小影响。 从日本半导体设备供应商来看,会造成影响的独占性或许不如半导体材料大,但仍不可忽略其可能影响性,尤其是在晶圆厂的产线配置上,多半有固定机台与机型间相互搭配,由过去的机台参数调整经验与实际产品验证建构出最有效率的生产线,若要变更使用机台,即便机台参数一致,也不能保证能得到与原来产品一样的结果。因此就算半导体设备在功能分上有替代厂商,但若非过去验证过的机台,也不能抹除韩国半导体晶圆厂对于日本出口审核的潜在威胁。 值得一提的是,荷兰商ASML的光刻机是晶圆制造中相当重要且必须的设备,而ASML的光阻剂布植设备就是与日商TEL合作,晶圆做完光阻剂布植后会直接传送进做曝光显影制程空间,因此ASML某些机型的光刻机,原则上是与TEL机台联结在一起,装机与调机期间也是同时进行,倘若TLE机台出口因审核而影响交机时间,连带也会影响光刻机建置,对于韩国积极投资扩大半导体产业带来潜在的风险评估,后续影响程度仍需重点观察。