应用Ptychographic相干x射线成像技术对胶体晶体的电子密度进行了预测,这是一种很有前景的纳米材料用于光电应用和重要的模型系统。采用混合态的入射x射线波场,通过ptychography得到高分辨率和高对比度的胶体晶体结构。重建的胶体晶体显示域平均结构域2µm大小。由基本封闭结构形成的域的比较,使我们可以在没有纯六角形密集的区域的情况下得出结论,并证实在胶体晶体膜的分析部分中,以面为中心的立方体结构存在随机的六角形密闭层。ptychography重构表明,最终结构复杂,可能包含局部位错,导致横向上叠加序列的变化。在这项工作中,x射线ptychography被扩展到高分辨率的晶体样品成像。
——文章发布于2017年11月24日