法国Riber SA表示，已向其长期客户Intelligent Epitaxy Technology 提供了第一台MBE 8000系统，据称这是世界上最大的分子束外延（MBE）机器。此次交货是设备销售协议的一部分，该设备将用于制造超高性能垂直腔面发射激光器（VCSEL）应用的外延片。Intelligent Epitaxy Technology 位于美国德克萨斯州理查森市，成立于1999年，主要生产外延晶片。
垂直腔表面发射激光器（Vertical Cavity Surface Emitting Laser，即VCSEL）是一种出光方向垂直与谐振腔表面的f-p激光器，出光方向垂直于衬底表面，因此可以利用此技术来制造具有高密度发射器阵列的器件。这些新器件正逐渐取代传统激光器，被越来越多的应用领域当作基础技术而采用，涉及消费电子产品、医疗保健、汽车和电信等各个领域，例如跨3D感应（智能手机上的面部识别）和移动控制。
Riber声称，与其他技术相比，其MBE技术具有一系列优势，如可提高沉积的半导体膜的质量、增强电导率性能以及加强的激光器性能。MBE平台适用于具有优异晶圆均匀性的高性能外延晶圆制造，且具有更高生产吞吐量，为了满足这一平台的需求，Riber开发了新的MBE 8000生产系统
全自动MBE 8000采用超高真空沉积，是一种多晶片反应器，能够同时生长八个150mm晶片，并有可能过渡到200mm晶片。该系统使生产vcsel和其他器件结构成为可能，其精确控制可降至原子单层精度，膜厚均匀性远低于1%。
对于IntelliEPI，MBE 8000系统将进一步增强其外延能力。除了现有的三台MBE 49、八台MBE 6000、两台MBE 7000、一台V90和一台VG100之外，新的MBE 8000生产平台能够满足VCSEL和其他市场的需求增长，特别是6英寸砷化镓（GaAs）产品。
Riber执行董事会主席Philippe Ley表示：“MBE 8000多晶片系统可提供符合市场需求的产量。这台机器可以证明MBE技术是经得起考验的，并且与替代技术相比具有更多的优点，特别是在制造复杂半导体结构的操作和输出方面。此外，MBE 8000系统为将来的业务发展带来了巨大的前景。”
IntelliEPI总裁兼首席执行官Yung Chung Kao表示：“这个先进的MBE 8000技术平台具有更高的吞吐量和先进的性能，将使IntelliEPI能够更好地应对新兴的高性能市场，例如开发用于汽车LiDAR的VCSEL以及用于5G RF应用的HEMT或HBT。在更大的反应器平台上，材料均匀性得到了提高，随着这些MBE 8000反应堆在我们位于美国得克萨斯州扩建的制造工厂中的部署，IntelliEPI将能够为客户提供更高价值的产品和服务。”
