《摆脱EUV光刻机限制!国内首条光子芯片产线即将建成》

  • 来源专题:先进制造业科技服务情报监测平台
  • 编译者: 冯瑞华
  • 发布时间:2022-10-21
  • 近日,中科鑫通“多材料、跨尺寸”光子芯片生产线预计将于2023年在北京建成。

    该生产线完工后,能满足通信、数据中心、激光雷达、微波光子、医疗检测等领域的市场需求,将填补我国在光子芯片晶圆代工领域的空白,有望加速国产光子芯片替代的规模化进程。

    中科鑫通微电子技术(北京)有限公司总裁隋军对此表示,“光子芯片不会像电子芯片那样必须使用极紫外光刻机(EUV)等极高端的光刻机,使用我国已经相对成熟的原材料和设备就能生产。”

    曾获数千万融资,拓展光子芯片多领域开发

    中科鑫通微电子技术(北京)有限公司主要从事光子芯片与系统的研发制造及应用,是中关村高新技术企业和政府重大科技专项的承担方,产品广泛应用于微波射频系统、光通信、数据中心、卫星通信、智能网联汽车、人工智能、生命科学以及量子信息等领域。

    公司拥有全球领先的科研团队,近几年在《自然》《科学》《物理学评论》等国际顶级期刊发表了一系列科研成果,

    今年3月,中科鑫通微电子技术(北京)有限公司获得中关村发展集团基金系数千万首轮融资。融资资金将主要用于拓展光子芯片在医疗检测、无人驾驶、人工智能、光通信等领域的技术与产品开发。

    此次融资的投资方中关村发展集团认为,作为电子芯片的技术升级,光子芯片有望成为新一代信息领域的底层技术支撑,催生一大批新应用、新产业,拥有巨大的市场前景,国家在“十三五”“十四五”期间针对光子芯片做了一系列战略布局,这也是集团对光子芯片领域给予重点关注的原因之一。

    中科鑫通总裁隋军则表示:“中科鑫通在光子芯片领域的新一代芯片化光源、集成光量子平台、多材料集成工艺等方面取得了一系列国际领先的成果。未来的两三年,中科鑫通将充分利用已有科研成果,在诸如新冠病毒快速检测、激光雷达、量子计算机、大容量数据通信等领域提供切实可靠的国产核心芯片与方案支撑。”

    国内外研究差距小,光芯片将成中国发展新赛道

    光芯片是全球半导体行业的一个重要细分赛道,涵盖工业用高功率激光芯片、通信用高速率激光芯片、手机人脸识别用VCSEL等成熟应用,以及车用激光雷达和硅光芯片等。

    不久前,上海印发《上海打造未来产业创新高地发展壮大未来产业集群行动方案》,提到上海市将围绕量子计算、量子通信、量子测量,积极培育量子科技产业,其中涉及的技术及器件中,就包括硅光子、光通讯器件、光子芯片等。

    相较于电子芯片,光子芯片具有高速并行、低功耗的优势,其计算速度及传输速率是电子芯片的一千倍,而功耗仅为电子芯片的九万分之一,其对结构的要求也较低,一般是百纳米级,因此降低了对先进工艺的依赖。

    当下,光芯片在消费光子时代越来越有成为核心基础的趋势。据Gartner预测,到2025年全球光子芯片市场规模有望达561亿美元,华为、英特尔、思科、IBM等国际顶尖公司也因此纷纷布局光电芯片。

    在目前全球市场中,高意集团(II-VI)、Lumentum等占据领先地位,长光华芯、源杰科技等本土企业已在高功率激光芯片、高速率激光芯片等领域取得进展。光通信企业中,中际旭创已在部分光模块产品和应用领域采用了自研的硅光芯片;光迅科技25G VCSEL 芯片已基本可以自供;光库科技开始推进研发薄膜铌酸锂等下一代光子材料及光子集成芯片技术;仕佳光子和联特科技则都已具备相关光芯片研发设计能力。

    可见,未来的时代将是一个光子大规模替换电子的时代,光网络传输有望成为人类信息文明最重要的基础设施。而对于国内产业市场来说,光芯片被认为是中国与国外研究进展差距最小的芯片技术,将带来指数型增长的高产业回报,是中国芯片发展必须力争的新赛道。

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  • 《摆脱EUV光刻机限制!国内首条光子芯片产线即将建成》

    • 来源专题:中国科学院文献情报制造与材料知识资源中心—领域情报网
    • 编译者:冯瑞华
    • 发布时间:2022-10-21
    • 近日,中科鑫通“多材料、跨尺寸”光子芯片生产线预计将于2023年在北京建成。 该生产线完工后,能满足通信、数据中心、激光雷达、微波光子、医疗检测等领域的市场需求,将填补我国在光子芯片晶圆代工领域的空白,有望加速国产光子芯片替代的规模化进程。 中科鑫通微电子技术(北京)有限公司总裁隋军对此表示,“光子芯片不会像电子芯片那样必须使用极紫外光刻机(EUV)等极高端的光刻机,使用我国已经相对成熟的原材料和设备就能生产。” 曾获数千万融资,拓展光子芯片多领域开发 中科鑫通微电子技术(北京)有限公司主要从事光子芯片与系统的研发制造及应用,是中关村高新技术企业和政府重大科技专项的承担方,产品广泛应用于微波射频系统、光通信、数据中心、卫星通信、智能网联汽车、人工智能、生命科学以及量子信息等领域。 公司拥有全球领先的科研团队,近几年在《自然》《科学》《物理学评论》等国际顶级期刊发表了一系列科研成果, 今年3月,中科鑫通微电子技术(北京)有限公司获得中关村发展集团基金系数千万首轮融资。融资资金将主要用于拓展光子芯片在医疗检测、无人驾驶、人工智能、光通信等领域的技术与产品开发。 此次融资的投资方中关村发展集团认为,作为电子芯片的技术升级,光子芯片有望成为新一代信息领域的底层技术支撑,催生一大批新应用、新产业,拥有巨大的市场前景,国家在“十三五”“十四五”期间针对光子芯片做了一系列战略布局,这也是集团对光子芯片领域给予重点关注的原因之一。 中科鑫通总裁隋军则表示:“中科鑫通在光子芯片领域的新一代芯片化光源、集成光量子平台、多材料集成工艺等方面取得了一系列国际领先的成果。未来的两三年,中科鑫通将充分利用已有科研成果,在诸如新冠病毒快速检测、激光雷达、量子计算机、大容量数据通信等领域提供切实可靠的国产核心芯片与方案支撑。” 国内外研究差距小,光芯片将成中国发展新赛道 光芯片是全球半导体行业的一个重要细分赛道,涵盖工业用高功率激光芯片、通信用高速率激光芯片、手机人脸识别用VCSEL等成熟应用,以及车用激光雷达和硅光芯片等。 不久前,上海印发《上海打造未来产业创新高地发展壮大未来产业集群行动方案》,提到上海市将围绕量子计算、量子通信、量子测量,积极培育量子科技产业,其中涉及的技术及器件中,就包括硅光子、光通讯器件、光子芯片等。 相较于电子芯片,光子芯片具有高速并行、低功耗的优势,其计算速度及传输速率是电子芯片的一千倍,而功耗仅为电子芯片的九万分之一,其对结构的要求也较低,一般是百纳米级,因此降低了对先进工艺的依赖。 当下,光芯片在消费光子时代越来越有成为核心基础的趋势。据Gartner预测,到2025年全球光子芯片市场规模有望达561亿美元,华为、英特尔、思科、IBM等国际顶尖公司也因此纷纷布局光电芯片。 在目前全球市场中,高意集团(II-VI)、Lumentum等占据领先地位,长光华芯、源杰科技等本土企业已在高功率激光芯片、高速率激光芯片等领域取得进展。光通信企业中,中际旭创已在部分光模块产品和应用领域采用了自研的硅光芯片;光迅科技25G VCSEL 芯片已基本可以自供;光库科技开始推进研发薄膜铌酸锂等下一代光子材料及光子集成芯片技术;仕佳光子和联特科技则都已具备相关光芯片研发设计能力。 可见,未来的时代将是一个光子大规模替换电子的时代,光网络传输有望成为人类信息文明最重要的基础设施。而对于国内产业市场来说,光芯片被认为是中国与国外研究进展差距最小的芯片技术,将带来指数型增长的高产业回报,是中国芯片发展必须力争的新赛道。
  • 《国产芯片再获新技术,无需EUV光刻机也能实现7纳米,ASML慌了》

    • 来源专题:光电情报网信息监测服务平台
    • 编译者:husisi
    • 发布时间:2023-02-15
    • 美国眼见着中国已量产14纳米,开始不断收紧限制,最近更是拉拢了ASML、尼康等光刻机企业,试图从先进光刻机上着手,阻止中国研发更先进的10纳米、7纳米技术,然而近期中国有芯片企业却公布了一项新技术,可以用现有的DUV光刻机就能量产10纳米乃至7纳米工艺。 据悉中国一家芯片企业已研发了一项SAQP技术,这项技术可以利用现有的DUV光刻机开发出10纳米工艺,证明中国基于现有的芯片设备在芯片制造工艺方面又迈出了重要一步。 业界人士指出SAQP技术不仅可以利用现有的DUV光刻机开发10纳米工艺,还能进一步开发出7纳米工艺。这是完全有可行性的,日本的NIL工艺就无需EUV光刻机可以开发出5纳米工艺,美光开发的1-beta工艺也无需EUV光刻机,台积电第一代7纳米工艺同样是以DUV光刻机生产。 SAQP全称是四重曝光技术,即使以现有的DUV光刻机经过多重曝光,最终实现10纳米乃至7纳米的量产,这样的方式可以有效降低成本,毕竟EUV光刻机的价格可是DUV光刻机的数倍,美光选择绕开EUV光刻机就是为了节省成本,而性能方面却能接近EUV光刻机的工艺。 如今中国也成功研发出无需EUV光刻机的先进工艺,对于中国芯片来说无疑是巨大的进步,尤其是这种方式还能大幅降低先进工艺的成本,有助于增强中国芯片的竞争力,此前美国家电制造商就认可了中国芯片的超低成本优势,这是中国芯片所特有的竞争优势。 中国开发的SAQP技术,说到底还是基于现有的硅基芯片技术,而硅基芯片以美国为首的西方经济体近百年的积累,让他们拥有了足够的领先优势,中国在硅基芯片技术上终究只能成为跟随者,为了真正实现赶超,中国已开始研发更先进的芯片技术。 中国已分别筹建了全球第一条光子芯片生产线、量子芯片生产线,这将推动这两项先进芯片技术早日实现商用,这些芯片技术可以将芯片性能提升千倍,而功耗大幅下降,这才是未来的先进芯片技术。 另一项先进芯片技术被称为石墨烯技术,中国同样也在推进,并已有多家中国企业取得石墨烯技术专利;美国也在力推石墨烯芯片技术,美国一家初创芯片企业表示在现有硅基芯片注入碳纳米管,以90纳米生产的芯片性能却比7纳米芯片提升50倍性能。 这些先进芯片的技术商用,将彻底变革当下的硅基芯片技术,将再也无需EUV光刻机等先进光刻机,这对于ASML无疑将是巨大的打击。事实上ASML也已认识到它的第二代EUV光刻机量产,基本就已经到了硅基芯片的极限,全球芯片行业需要引入更先进的芯片技术,而中国加速了这些先进芯片技术的推进,将让ASML的辉煌提前结束。 中国芯片这几年的表现显示出中国芯片所具有的强大技术实力,如今在美国的压迫下,中国芯片行业已被激发了巨大的潜力,不断加速各种先进芯片技术的发展,一旦这些先进芯片技术实现商用,那么中国将取得领先优势,将再也不会受制于美国。