氧化石墨烯的制备(去)通过悍马方法通常分为两个步骤:低温氧化在35°C(一步氧化)和高温氧化在98°C(二步氧化)。然而，这两步对氧化石墨的剥离能力和化学结构的影响尚不清楚。在本研究中，研究了石墨氧化物的官能团含量和层间间距的整个演化过程。步骤I氧化是一种缓慢的非均匀氧化步骤，以去除未氧化石墨薄片。制备的氧化石墨烯可以很容易地自我剥离，但含有大量的有机硫。在第二步氧化过程的前20分钟，由于羧基的急剧增加，大多数有机硫可以有效去除，氧化石墨仍然是一种良好的去角质能力。但是，随着氧化时间的延长，有机硫含量的降低明显减缓，但没有任何羧基形成，氧化石墨最终失去了自我剥离能力。结果表明，在短时间内，氧化可以通过自我剥离产生更纯净、更大的氧化皮。纯GO具有更好的热稳定性和液晶性能。此外，从第二步氧化反应制备的还原氧化膜在还原后的力学性能和电性能都较好。
