《Grolltex为电子设备发布了“增强性能的石墨烯”》

  • 来源专题:纳米科技
  • 编译者: 郭文姣
  • 发布时间:2018-10-23
  • 位于圣地亚哥的石墨烯和2D材料生产商Grolltex已经完成了表征工作,并将发布一种大面积单层石墨烯的配置用于商业销售,这种配置可以显著提高“电子迁移率”,从而提高石墨烯的性能。这种“异质结构”在石墨烯下面包含一层或多层六边形氮化硼(或“hBN”),增强了石墨烯的性能。

    Grolltex公司已经开始向客户销售这种“增强性能的石墨烯”产品,这种产品可以显著改善传感、晶体管、连接性和纳米设备的其他关键方面的设备性能。这种材料性能的改进通常是新应用的垫脚石,使更大的市场增长向更快、更小、更便宜和更敏感的硅基设备。

    来自我们欧洲大型设备合作伙伴的数据显示,载流子移动性能从30%开始提高,我们的内部工作显示,通过一些配置调整,我们甚至可以在此基础上,在指数范围内提高电子移动性能。我们相信,这对我们的许多以硅为基础的客户来说将是非常重要的。

    杰夫德拉,首席执行官和联合创始人,Grolltex

    第一个原因为石墨烯电子迁移率的提高性能,当之上hBN晶片,是底层层hBN,晶片和石墨烯之间,区域硅晶片的表面,石墨烯可以坐在一个表面(hBN)更有利于石墨烯电子流动。

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    另一个原因是,如果石墨烯直接位于硅/二氧化硅晶圆之上,那么下面硅/二氧化硅晶圆中氧化物的电子干扰。石墨烯与薄片之间的hBN层大大降低了薄片氧化物对石墨烯电子性能的负面影响,使石墨烯电子的流动更加自由。另外的优点是更低的加工温度和更强的附着力,石墨烯层与底层基板,hBN的存在。

    当石墨烯位于hBN上时,它的性能更接近石墨烯用户期望的“电子高速公路”。我们已经对这种异质结构进行了表征,并将其以8英寸(200mm)直径的配置出售给我们的预审客户,并且可以将hBN和石墨烯分层为任意组合。设备设计师,尤其是先进的传感器制造商,对电子移动性非常感兴趣。影响这一点的因素有很多,谁能将这些因素消除并显示出机动性的显著改善,谁就能帮助为设备性能增加真正的、独特的和实质性的价值。我们的下一个特性列表是MoS2,这是一个重要的“带隙”材料,在2D产品中已经缺失了。

    杰夫德拉,首席执行官和联合创始人,Grolltex

    Grolltex是“石墨烯滚动技术”的缩写,它采用了最初由加州大学圣地亚哥分校(University of California, San Diego)开发的专利研究和技术,生产出高质量的单层石墨烯、六角形氮化硼以及其他2D材料和产品。公司是石墨烯可持续生产方法的实践者和专家,致力于通过单原子厚材料的优化提升石墨烯领域的前沿材料科学和产品设计的未来。

    ——文章发布于2018年10月15日

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