德国的原位计量系统制造商LayTec AG推出了用于化合物半导体研发的EpiX晶圆测绘站。
该公司指出，目前金属有机化学气相沉积（MOCVD）生长的III-V激光器正在蓬勃发展，相关材料研究也变得活跃。LayTec已AYTEC已经通过原位计量产品（如EpiTT VCSEL、EpiTT FaceT）来支持这一点，下一个新产品则是EpiX。
第一台EpiX工作站于2018年中期安装在客户现场，结合了白光反射和光致发光（PL）测量，可在宽光谱范围（400-1700nm）内进行全面的2D分析。最多可将四个PL激发波长与可选的人眼安全插件接口相结合，以便用户使用额外激光器。 集成软件将会提供全面的数据分析，包括自动检测垂直腔面发射激光器（VCSEL）光学参数、单层和多层厚度匹配、薄膜成分和多峰分析的自动检测。
EPIX测图站的基本设计特点是硬件和软件拥有模块化功能和可定制性。 因此，EPIX被设计成一个具有多种升级选项的长期工作平台：更多光学头（晶圆弯曲、反射各向异性、片材电阻、晶圆厚度、光传输）、扩展波长范围、软件接口（例如用于用户拥有的光谱分析库）和使用在晶圆中心外延期间测量的原位数据作为EPI二维映射分析的起点。
