近日,国际电气电子工程师学会(IEEE)发布《国际设备与系统路线图(IRDS)2024:计量学》报告,重点阐述了半导体行业在设备、系统及新材料集成领域涌现的测量技术挑战,并提出了相应的研发路径。其研究范畴涵盖(但不限于):传统互补金属氧化物半导体(Complementary Metal Oxide Semiconductor,简称CMOS)工艺扩展的测量需求、后CMOS技术的加速发展、新型通信器件/传感器/换能器的表征技术、材料特性分析以及结构-功能关系研究,同时包含研发阶段与制造过程控制所需的计量学创新突破。
该技术路线图致力于解决测量科学领域的关键挑战,推动新型计量技术发展,并就未来设备与材料的工艺控制及可制造性评估,系统性地提出长期技术展望——包括核心挑战、潜在解决方案、关键技术、工具开发及基础设施需求等维度。
该章节内容可为计量专家、设备制造商及研究人员提供技术指导,同时也可作为标准组织制定关键测量标准的基础依据。通过建立统一的技术基准,将有效推动半导体行业的技术进步。