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《深圳大手笔扶持新兴产业 单个项目资助最高1500万元》

  • 来源专题：粤港澳大湾区科技信息监测平台
  • 编译者： mall
  • 发布时间：2020-07-20

  • 记者昨日从深圳最新发布的2021年新兴产业扶持计划看到，高端装备制造、生物医药、新材料、人工智能、物联网等领域的企业和项目可获得真金白银的扶持，单个项目配套资金最高1500万元。

    深圳市工业和信息化局有关负责人告诉记者，根据扶持计划，支持领域包括产业链关键环节提升项目、产业服务体系项目、市场准入扶持计划项目，以及国家、省配套项目等四个方面。支持有数量限制，受专项资金年度总额控制。

    高端装备制造、生物医药、人工智能、物联网产业领域采取事后资助，按经专业审计机构专项审计后确认费用的20%给予资助，单个项目资助金额不超过300万元。

    新材料产业领域采取事后资助，主要支持新产品、新技术在应用示范验证过程中产生的相关测试、验证费用，按经专业审计机构专项审计后确认费用的30%给予资助，单个新材料项目资助金额不超过300万元（同一单位总额不超过500万元，不超过3种新材料）。

    产业服务体系项目方面，公共服务采用事后资助，按经专业审计机构专项审计后确认费用的50%给予资助，最高不超过300万元；市场拓展同样采用事后资助，对以市政府名义在深圳主办的会议或论坛，按专业审计机构专项审计确认费用给予全额资助，最高不超过300万元；对以社会机构（不包括会展类企业）名义主办的会议或论坛，按经专业审计机构专项审计后确认费用的50%给予资助，最高不超过300万元。每年每个领域不超过一个。

    市场准入项目采用事后资助，获得国际、国内权威认证的，单个项目资助金额分别不超过100万元、50万元，按照不超过核定的项目费用实际发生额50%予以资助，并受年度资助总额控制。单个企业年度资助金额不超过500万元。

    国家、省配套项目为事后资助，按照项目中深圳有关单位国家、省资助资金实际到账金额最高1∶1予以配套，单个项目配套资金最高不超过1500万元，且配套资金与国家、省资助金额总和不超过项目总投资的40%。

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    • 2014年6月，国务院印发《国家集成电路产业发展推进纲要》。《纲要》部署充分发挥国内市场优势，营造良好发展环境，激发企业活力和创造力，带动产业链协同可持续发展，加快追赶和超越的步伐，努力实现集成电路产业跨越式发展。 《纲要》的主要任务和发展重点是：着力发展集成电路设计业；加速发展集成电路制造业；提升先进封装测试业发展水平；突破集成电路关键装备和材料。 在《纲要》的推动下，国内各大城市纷纷全面布署集成电路产业，并纷纷制定各种集成电路产业扶持政策。各地政策中都有专门条款针对流片进行支持。 芯思想研究院对我国32个城市的集成电路产业发展支持政策进行了整理和分析，除了济南外，其他31个城市的集成电路多项目晶圆（MPW）和全掩模流片（Full Mask）给予一定比例的资金支持。 1、北京 2016年12月北京中关村国家自主创新示范区出台政策对多项目晶圆（MPW）和全掩模流片进行支持。 支持集成电路设计企业加大新产品研发力度。重点支持集成电路设计企业流片和掩模版制作。对开展工程产品首轮流片的集成电路设计企业，按照该款产品首轮流片合同金额的20%或掩模板制作合同金额的20%予以研发资金支持。且合同须已执行。 单一企业年度支持总额最高不超过200万元。 2、上海 2017年11月上海市出台政策对多项目晶圆（MPW）和全掩模流片进行支持。 对经过全掩模流片，以及首次与本市集成电路制造企业签订流片合同，利用其生产线实现线宽在45纳米及以下工程产品流片的设计企业，给予不超过产品流片费用（流片费包括：IP授权费、掩模版费、测试化验加工费）的30%的资金支持。 单一企业年度支持总额最高不超过1500万元。 3、天津 滨海新区 2014年2月天津滨海新区出台政策对多项目晶圆（MPW）和全掩模流片进行支持。 对集成电路设计企业使用本市代工企业进行IP验证、研发流片等的给予合同额10%的资金支持。 单一企业年度支持总额最高不超过100万元。 西青区 2019年1月天津西青区出台政策对多项目晶圆（MPW）和全掩模流片进行支持。 对集成电路设计企业参加多项目晶圆项目，按照直接费用的80%给予支持；对设计企业掩模制作费用，按照直接费用的40%给予支持；对设计企业工程片、试流片加工费用的40%给予支持。三项支持合计计算。 单一企业年度支持总额最高不超过600万元。 4、重庆 2018年8月重庆市出台政策对多项目晶圆（MPW）和全掩模流片进行支持。 对使用多项目晶圆流片进行研发的企业，按照多项目晶圆（MPW）流片费50%的比例给予资金支持。 单一企业年度支持总额最高不超过100万元。 对实际到位投资2000万元以上的集成电路设计企业，按照其每款产品完成首次全掩模工程流片费用50%的比例给予资金支持（流片费包括：IP授权费、掩模版费、测试化验加工费）。 单一企业年度支持总额最高不超过1000万元。 同时，还对晶圆制造企业给予支持。对集成电路制造企业开放产能为企业代工流片的，按照每片（折合8英寸片）100元的标准给予资金支持。 单一企业年度支持总额最高不超过1000万元。 5、南京 2016年3月南京市出台政策对多项目晶圆（MPW）和全掩模流片进行支持 对集成电路设计企业开展的符合一定条件的工程产品首轮流片，按照该款产品掩模版制作费用的60%或首轮流片费用的30%支持。 单一企业年度支持总额最高不超过100万元。 浦口区 2019年3月南京浦口区出台政策对多项目晶圆（MPW）和全掩模流片进行支持。 对于首次完成全掩模工程产品流片或开展多项目晶圆首轮流片的集成电路设计企业，叠加市级奖补给予直接费用最高不超过60%的支持；对再次完成全掩模工程产品流片的，给予直接费用最高不超过50%的支持。 单一企业年度支持总额最高不超过600万元。 6、无锡 2018年2月无锡出台政策对多项目晶圆（MPW）和全掩模流片进行支持。 对拥有自主知识产权，且对工艺制程达到一定节点的产品进行工程流片（含MPW）的设计企业，择优最高按照该款产品首轮流片（含IP授权、掩模制版）费用的40%给予支持；对在本地生产企业掩模流片的，择优最高按首轮流片费用的60%给予支持。 工艺制程为45nm以上的，单一企业年度支持总额最高不超过300万元。 工艺制程达到45nm及以下的，单一企业年度支持总额最高不超过600万元。 7、苏州 2019年苏州工业园区出台政策对多项目晶圆（MPW）和全掩模流片进行支持。 对集成电路设计企业拥有自主知识产权的产品进行首轮流片（MPW或工程流片）产生的费用，给予最高50%的支持。 单一企业年度支持总额最高不超过300万元。 对注册在园区的集成电路制造、封装测试等企业，为园区集成电路设计企业提供流片、封装、测试服务的，给予实际服务金额10%的支持。 单一企业年度支持总额最高不超过100万元。 8、昆山 2018年6月昆山市出台政策对多项目晶圆（MPW）和全掩模流片进行支持。 对IC设计企业开展的符合一定条件的工程产品首轮流片，按该产品掩模制版费用的60%或首轮流片费用的30%给予支持。 单一产品年度支持总额最高不超过200万元；单一企业年度支持总额最高不超过500万元。 9、南通 2017年11月南通港闸区出台政策对多项目晶圆（MPW）和全掩模流片进行支持。 对集成电路设计企业用于研发的多项目晶圆（MPW），可享受多项目晶圆（MPW）直接费用70%的支持、工程片试流片加工费40%的支持。 单一企业年度支持总额最高不超过300万元，连续支持3年。 10、常州 2019年5月常州武进区出台政策对多项目晶圆（MPW）和全掩模流片进行支持。 对工程流片（含MPW）的设计企业，最高按照该款产品首轮流片（含IP授权、掩模制版）费用的50%给予支持。 工艺制程40nm以上产品支持总额不超过300万元，工艺制程达到40nm-28nm（不含28nm）产品支持总额不超过500万元，工艺制程达到28nm及以下产品支持总额不超过800万元。 单一企业年度支持总额最高不超过1000万元。 11、杭州 2018年7月杭州市出台政策对多项目晶圆（MPW）和全掩模流片进行支持。 对进行重点支持领域工程产品流片的集成电路企业，给予其该款产品掩模版制作费用的50%或首轮流片费用的30%的支持。 单一企业年度支持总额最高不超过300万元。 杭州高新区 2019年11月杭州高新区出台政策对多项目晶圆（MPW）和全掩模流片进行支持。 对进行重点支持领域工程产品流片的集成电路企业，给予其该款产品掩模版制作费用的50%或首轮流片费用的30%的支持。 单一企业年度支持总额最高不超过600万元。 12、宁波 2019年2月宁波高新区出台政策对多项目晶圆（MPW）和全掩模流片进行支持。 对区内集成电路设计、制造企业进行工程流片的费用，按照当年实际发生额给予50%的支持。 单一企业年度支持总额最高不超过200万元。 13、绍兴 2018年绍兴越城区出台政策对多项目晶圆（MPW）和全掩模流片进行支持。 对在本区集成电路生产企业进行重点支持领域的工程产品流片的设计企业，按该款产品掩模版制作费用的60%或者首轮流片费用的30%给予研发支持。 单一企业年度支持总额最高不超过300万元。 14、海宁 2018年6月海宁市出台政策对多项目晶圆（MPW）和全掩模流片进行支持。 鼓励集成电路设计企业开展符合一定条件的工程产品首轮流片，按照该款产品掩模版制作费用的60%或首轮流片费用的30%给予支持。 最高不超过200万元研发支持。 单一产品年度支持总额最高不超过200万元；同一企业每年支持上限为500万元。 15、青岛 2019年2月青岛红岛经济区出台政策对多项目晶圆（MPW）和全掩模流片进行支持。 对注册在红岛的独立法人公司或商及税务注册地迁至红岛经济区的公司，按照产品掩模版制作费用的60%或首轮流片费用的40%给予支持。 单一企业年度支持总额最高不超过150万元，连续支持3年。 16、合肥 2018年4月合肥市出台政策对多项目晶圆（MPW）和全掩模流片进行支持。 集成电路设计企业参加MPW项目（多项目晶圆项目，含单企业MPW），同一设计型号首轮流片、再次流片分别按50%、30%给予支持。 单一企业年度支持总额最高不超过300万元。 企业进行工程流片，按照工程型号产品掩模版制作费用或首轮流片费用的30%给予支持。 单一企业年度支持总额最高不超过500万元。 合肥高新区 2018年8月合肥高新区出台政策对多项目晶圆（MPW）和全掩模流片进行支持。 对集成电路设计企业产品流片（含掩模版等）费用的30%及从第三方购买IP（含Foundry的IP模块）费用的30%予以支持。 单一企业年度支持总额最高不超过500万元。 17、芜湖 2019年7月芜湖市出台政策对多项目晶圆（MPW）和全掩模流片进行支持。 微电子设计企业参与研发的多项目晶圆（MPW），可享受最高不超过MPW直接费用70%（高校或科研院所MPW直接费用80%）、工程片试流片加工费30%的支持。 单一企业年度支持总额最高不超过200万元。 本地微电子设计企业利用本地芯片生产线流片，按首次工程流片费用（含IP授权或购置、掩模版制作、流片等）的40%给予支持。（芜湖本地芯片生产线在哪里） 单一企业年度支持总额最高不超过500万元。 18、广州 2018年9月广州黄埔区出台政策对多项目晶圆（MPW）和全掩模流片进行支持。 企业研发多项目晶圆（MPW）流片的，按直接费用的80%给予支持；企业购买光罩、研发全掩模（Full Mask）流片的，按直接费用的40%给予支持；企业研发工程片、试流片的，按加工费用的30%给予支持。 单一企业年度支持总额最高不超过600万元。 19、深圳 2019年4月深圳市出台政策对多项目晶圆（MPW）和全掩模流片进行支持。 对于使用多项目晶圆进行研发的设计企业，给予多项目晶圆直接流片费用最高70%的支持。 单一企业年度支持总额最高不超过300万元。 对于首次完成全掩模工程产品流片的企业，给予流片费用最高50%的支持。 单一企业年度支持总额最高不超过500万元。 坪山区 2019年5月坪山区出台政策对多项目晶圆（MPW）和全掩模流片进行支持。 对集成电路设计企业参加多项目晶圆（MPW）项目，按多项目晶圆（MPW）直接费用的80%进行支持；高校或科研院所参加多项目晶圆（MPW）项目的，按多项目晶圆（MPW）直接费用的90%进行支持。 单一企业年度支持总额最高不超过200万元。 对利用坪山区晶圆制造企业开展多项目晶圆（MPW）的集成电路设计企业，按多项目晶圆（MPW）直接费用的80%进行支持；对利用坪山区晶圆制造企业开展多项目晶圆（MPW）的高校或科研院所，按多项目晶圆（MPW）直接费用的90%进行支持。 单一企业年度支持总额最高不超过400万元的资助。 对集成电路设计企业首次工程流片进行资助，按首次工程流片费用（含IP授权或购置、掩模版制作、流片等）的30%进行支持。 单一企业年度支持总额最高不超过300万元。 对利用坪山区企业集成电路生产线流片的，按首次流片费用的60%进行支持。 单一企业年度支持总额最高不超过600万元。 龙岗区 2019年7月龙岗区出台政策对多项目晶圆（MPW）和全掩模流片进行支持。 给予不超过上一年多项目晶圆（MPW）流片（含掩模版）实际发生金额、单个项目最高100万元扶持，单一企业年度支持总额最高不超过300万元。 于完成小于90nm全掩模（Full Mask）工程产品流片的项目，给予不超过流片费用（含掩模版），其中，工艺制程小于90nm、大于45nm（不含）的，单个项目最高扶持50万元，小于45nm、大于28nm（不含）的，单个项目最高扶持200万元，小于28nm的，单个项目最高扶持300万元；同一项目只扶持1次。 单一企业年度支持总额最高不超过500万元。 20、珠海 2019年1月珠海高新区出台政策对多项目晶圆（MPW）和全掩模流片进行支持。 集成电路设计企业在参加多项目晶圆（MPW）、工程片试流片阶段，市财政对企业多项目晶圆（MPW）直接费用给予最高70%的支持，区财政再给予10%的支持；市财政对企业首次工程片流片加工费（含IP授权或购置、掩模版制作、流片等）给予最高30%的支持，区财政再给予20%的支持。 单一企业年度支持总额最高不超过600万元（其中区财政不超过200万元）。 21、东莞 2017年12月东莞松山湖高新技术产业开发区出台政策对多项目晶圆（MPW）和全掩模流片进行支持。 购买多项目晶圆（MPW）项目费用，给予50%的支持。 单一企业年度支持总额最高不超过100万元。 购买光罩（MASK）费用，给予30%的支持。 单一企业年度支持总额最高不超过150万元。 22、福州 2017年9月福州高新区出台政策对多项目晶圆（MPW）和全掩模流片进行支持。 对IC设计企业参加多项目晶圆（MPW）项目，采用180nm以上工艺，给予MPW直接费用40%支持；采用180nm及以下工艺，给予MPW直接费用45%；对企业在本地代工厂采用90nm及以下工艺，给予MPW直接费用50%支持；成立不足3年的企业申请首件MPW支持，最高给予MPW直接费用80%支持。（实在不知福州本地代工厂有90nm及以下工艺） 单一企业年度支持总额最高不超过100万元。 23、厦门 2016年6月厦门市出台政策对多项目晶圆（MPW）和全掩模流片进行支持。2018年10月进行了修订、增补。 用于研发的集成电路企业多项目晶圆（MPW），按照不高于多项目晶圆（MPW）直接费用70%进行资助，针对硅CMOS工艺最小线宽≤55nm、GaAs MMIC工艺最小线宽≤250nm等两类先进工艺，按照不高于多项目晶圆（MPW）直接费用80%进行资助；用于研发的集成电路企业工程片试流片按照不高于其加工费30%进行资助，针对硅CMOS工艺最小线宽≤55nm、GaAs MMIC工艺最小线宽≤250nm等两类先进工艺，工程片试流片按照不高于其加工费40%进行支持。 单一企业年度支持总额最高不超过200万元。 同时政策规定，本地集成电路企业利用本地集成电路生产线流片，按首次工程流片费用（含IP授权或购置、掩模版制作、流片等）的40%给予支持。 单一企业年度支持总额最高不超过500万元。 厦门海沧区 2017年6月22日厦门海沧区出台政策对多项目晶圆（MPW）和全掩模流片进行支持。 利用厦门集成电路生产线流片，按首次工程流片费用（含IP授权或购置、掩模版制作、流片等）的50%给予支持。 单一企业年度支持总额最高不超过600万元。 24、泉州 2018年8月泉州市出台政策对多项目晶圆（MPW）和全掩模流片进行支持。 按MPW直接费用的80%给予支持；企业参加工程流片项目，对同一流片项目工程流片费用给予50%支持。 单一企业年度支持总额最高不超过200万元。 25、晋江 2016年10月晋江市出台政策对多项目晶圆（MPW）和全掩模流片进行支持，2019年5月对政策进行了修订、增补，于2019年6发布修订版。 对采用多项目晶圆技术的集成电路设计企业，按MPW直接费用的80%（高校或科研院所按90%）给予支持。 单一企业年度支持总额最高不超过400万元。 对采用全掩模工程片流片的，按照其每款产品首次工程流片费用（掩模版费及流片加工费）的30%给予支持。 单一企业年度支持总额最高不超过400万元。 对利用晋华集成电路生产线流片的企业，按首次工程流片费用（含IP授权或购置费、掩模版费及流片加工费等）的40%给予支持。 单一企业年度支持总额最高不超过500万元。 26、莆田 2018年12月莆田市出台政策对多项目晶圆（MPW）和全掩模流片进行支持。 对集成电路设计企业，按照MPW流片费用80%支持。 单一企业年度支持总额最高不超过200万元。 对集成电路设计企业，首轮工程流片按照流片费用的50%支持。 单一企业年度支持总额最高不超过200万元。 27、武汉 2019年8月武汉东湖新技术开发区出台政策对多项目晶圆（MPW）和全掩模流片进行支持。 对进行工程产品流片的集成电路企业，按照掩模版制作费用的50%或首轮流片费用的30%给予支持。 单一企业年度支持总额最高不超过500万元。 28、长沙 2019年9月20日长沙市出台政策对多项目晶圆（MPW）和首轮流片进行支持。 对企业的多项目晶圆（MPW）试流片、全掩模（Full Mask）工程产品首次流片、购买IP核费用，给予实际发生额的60%、50%、50%的支持。 单一企业年度支持总额最高不超过500万元。 29、成都 2018年3月成都市出台政策对多项目晶圆（MPW）和全掩模流片进行支持. 对于首次完成全掩膜（Full Mask）工程产品流片的企业，给予流片费用最高10%、年度总额不超过500万元的补贴；对于进行化合物半导体全掩膜首轮验证性流片的企业，给予流片费用最高50%、年度总额不超过500万元的补贴；对于使用多项目晶圆（MPW）流片进行研发的企业（单位），给予MPW直接费用最高40%、年度总额不超过100万元的补贴。 2018年6月发布政策实施细则。 对于使用多项目晶圆（MPW）流片进行研发的企业，给予多项目晶圆（MPW）直接费用最高40%的支持。 单一企业年度支持总额最高不超过100万元。 本市IC设计企业工程产品在本市企业完成首轮全掩模（Full Mask）工程产品流片，达到可以提供给集成电路系统整机厂商的芯片示范应用水准，首轮流片费用累计在4000万元以上（含4000万元），给予IC设计企业流片费用10%的支持；首轮流片费用累计在2000万元以上但小于4000万元（含2000万元、不含4000万元），给予IC设计企业流片费用7%的支持；首轮流片费用累计小于2000万元（不含2000万），给予IC设计企业流片费用5%的支持。 单一企业年度支持总额最高不超过500万元。 非本市IC设计企业工程产品委托本市集成电路制造企业完成首轮全掩模（Full Mask）工程产品流片，达到可以提供给集成电路系统整机厂商的芯片示范应用水准，给予本地集成电路制造企业代工的流片费用2%的支持。 单一企业年度支持总额最高不超过200万元。 本市IC设计企业委托非本市集成电路制造企业完成首轮全掩模（Full Mask）工程产品流片，达到可以提供给集成电路系统整机厂商的芯片示范应用水准，给予IC设计企业流片费用总额1.5%的支持。 单一企业年度支持总额最高不超过50万元。 对于提供化合物半导体全掩模首轮验证性无偿试流片的本市代工企业，首轮流片成本费用累计在900万元以上（含900万元），给予代工企业流片成本费用50%的支持；首轮流片成本费用累计300万元以上、小于900万元（含300万元，不含900万元），给予代工企业流片成本费用20%的支持；首轮流片成本费用小于300万元（不含300万元），给予代工企业流片成本费用10%的支持。 单一企业年度支持总额最高不超过500万元。 对于在本市进行化合物半导体全掩模首轮验证性有偿试流片的本市IC设计企业，首轮流片费用累计在1000万元以上（含1000万元），给予IC设计企业流片费用10%的支持；首轮流片费用累计在500万元以上、小于1000万元（含500万元、不含1000万元），给予IC设计企业流片费用7%的支持；首轮流片费用累计小于500万元（不含500万元），给予IC设计企业流片费用5%的支持。 单一企业年度支持总额最高不超过200万元。 30、贵阳 2016年5月贵阳市出台政策对多项目晶圆（MPW）和全掩模流片进行支持。 对开展工程产品首轮流片的集成电路设计企业，按照该款产品掩模版制作费用的20%或首轮流片费用的20%予以资金支持。 单一企业年度支持总额最高不超过200万元。 31、西安 2018年2月西安国家自主创新示范区出台政策对多项目晶圆（MPW）和全掩模流片进行支持。 对于集成电路产品设计企业，按照企业初次流片实际费用的50%予以支持。 单一企业年度支持总额最高不超过50万元。 分析： 1、对工艺有明确要求，以提升本地设计工艺技术。上海明确规定支持的是45纳米及以下工艺，由于45纳米及以下费用较高，所以支持额度高达1500万元。无锡对工艺也有明确规定，如工艺制程为45纳米以上的，单一企业年度支持总额最高不超过300万元；而工艺制程达到45nm及以下的，单一企业年度支持总额最高不超过600万元。厦门则针对硅CMOS工艺最小线宽≤55nm、GaAs MMIC工艺最小线宽≤250nm等两类先进工艺，给予更大支持。而常州对工艺要求更甚。工艺制程40nm以上产品支持总额不超过300万元，工艺制程达到40nm-28nm（不含28nm）产品支持总额不超过500万元，工艺制程达到28nm及以下产品支持总额不超过800万元，单一企业年度支持总额最高不超过1000万元。 2、在流片支持条款中明确要支持本地晶圆制造企业。上海、重庆、苏州、芜湖、深圳、晋江、成都都规定对利用本地晶圆制造企业开展多项目晶圆（MPW）和全掩膜流片给予更大支持。 3、大部分城市的流片补贴只是流于形式，为了招商工作而写，多是给出一个补贴比例和最高补贴限额，无外乎就是比哪个城市支持的金额更大，而对工艺等没有具体要求，造成鱼龙混杂，对真正进行高端先进IC设计的公司不利。 如果一个城市招商，只是靠政策恐怕不会长远；一个企业落户只是看补贴，估计这种企业也不会长久。 注：多项目晶圆（Multi Project Wafer，简称MPW）：就是将多种具有相同工艺的集成电路设计放在同一个硅圆片上、在同一生产线上流片，制造完成后，每个设计项目可以得到数十片芯片样品，这一数量足够用于设计开发阶段的实验、测试。而实验费用就由所有参加多项目晶圆的项目按照各自所占的芯片面积分摊，极大地降低了产品开发风险。这就很象我们都想吃巧克力，但是我们没有必要每个人都去买一盒，可以只买来一盒分着吃，然后按照各人吃了多少付钱。多项目晶圆提高了设计效率，降低了开发成本，为设计人员提供了实践机会，并促进了集成电路设计成果转化，对IC设计人才的培训，及新产品的开发研制均有相当的促进作用。
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    • 编译者：guokm
    • 发布时间：2022-10-09
    • 深圳市发改委9月30日发布《关于组织实施深圳市2022年氢能产业发展扶持计划的通知》，文件对绿色高效制氢技术工程研究中心、高密度高安全性储氢技术工程研究中心、燃料电池关键材料及零部件工程研究中心、燃料电池电堆及系统集成工程研究中心四大领域重点支持，按经评审核定的项目总投资的40%给予资助，最高不超过500万元。 《高技术产业化事后补助扶持计划》中提出：重点支持电解水制氢设备、储氢材料、储氢瓶、燃料电池关键材料及零部件、燃料电池电堆及系统等领域新产品研发及产业化。 综合评审得分60分以上（含60分）且通过市发展改革部门复核的，予以批复立项。项目单位须先自行投入资金组织实施项目，待项目建设完成并通过验收后，按经专项审计核定项目总投资的20%予以事后资助，最高不超过1500万元。 在线申报时间：2022年10月8日9:00至2022年11月7日17:00 申报绿色高效制氢技术工程研究中心扶持资金的企业，需聚焦于氢气绿色高效、低成本、大规模制取，重点开展质子交换膜电解水、固体氧化物电解水、碱性固体阴离子交换膜电解水、生物质制氢等关键技术的研究。 申报高密度高安全性储氢技术工程研究中心扶持资金的企业，需聚焦于氢气高密度、高安全性存储，重点开展70MPa高压储氢瓶、液态有机物储氢、低温液态储氢、高压微管储氢、固体合金储氢等关键技术的研究。 申报燃料电池关键材料及零部件工程研究中心扶持资金的企业，需围绕质子交换膜、催化剂、气体扩散层、双极板、膜电极等质子交换膜燃料电池关键材料及零部件，以及阴极、阳极、固体电解质、单电池、密封材料和连接体等固体氧化物燃料电池关键材料及零部件开展关键技术的研究。 申报燃料电池电堆及系统集成工程研究中心扶持资金的企业，需聚焦提高电堆及系统性能、寿命、安全性、可靠性等，重点支持围绕质子交换膜燃料电池电堆、辅助系统、系统集成等，以及固体氧化物燃料电池电堆、热管理系统、电管理系统、系统集成等开展关键技术的研究。 原文如下： 各有关单位： 为促进氢能产业创新发展，我委决定组织实施深圳市2022年氢能产业发展扶持计划，现将有关事项通知如下： 一、资助对象 在深圳市（含深汕特别合作区）注册、具备独立法人资格的从事战略性新兴产业研发、生产及服务的企业、事业单位、社会团体或民办非企业等机构。 二、申报要求 （一）申报项目必须符合申报指南和相关规划重点支持领域，项目申报单位应按照申报指南的要求（各类扶持计划的具体申报条件、申报材料、资金申请报告编制要求等详见申报指南），结合本单位实际情况，认真组织编写项目资金申请报告，并落实项目建设资金、节能、环保、土地、规划等相关建设条件。 （二）项目名称应准确、规范、简洁。市级工程研究中心项目可命名为“深圳市XXXX工程研究中心组建（或提升）项目”，产业化事后补助扶持计划项目可命名为“XXXX产业化项目”。 （三）项目采用的自主技术成果(包括自主知识产权、消化吸收创新、国内外联合开发的技术等)应具有先进性和良好的推广应用价值，拥有有关成果鉴定或权威机构出具的认证、技术检测报告等证明材料。 （四）已明确项目建设资金筹措方案，建设资金落实，有自有资金证明、贷款合同或协议、金融机构出具的贷款承诺等。 （五）项目申报单位应登录广东政务服务网在线申报，申报网址http://www.gdzwfw.gov.cn/portal/guide/11440300693966093K3442001031000，无需提交纸质版申报材料。 （六）同一单位建设内容相同或部分相同的项目不得向市有关部门多头申报。经核实属多头申报的项目，将取消申报资格并追究申报单位责任。 （七）项目单位提交的工业总产值、工业投资和技术改造投资、营业收入、纳税金额等经营指标数据，应确保与报送市统计部门的数据一致。 （八）项目单位及其法定代表人、项目负责人等有关责任主体在项目申报和实施过程中发生违规行为的，市发展改革委按照《深圳市市级财政专项资金管理办法》（深府规〔2018〕12号）、《深圳市发展和改革委员会专项资金战略性新兴产业发展扶持计划操作规程》（深发改规〔2020〕2号）等相关规定进行处理。 （九）所有申报项目列入专项资金扶持计划后，应严格按照项目批复或合同要求完成项目建设，按《深圳市发展和改革委员会专项资金战略性新兴产业发展扶持计划操作规程》（深发改规〔2020〕2号）要求填报月报信息,在项目到期后3个月内提交验收申请。 （十）我委从未委托任何单位或个人为项目建设单位代理我市氢能产业专项资金申报事宜，项目建设单位须自主申报。我委将严格按照有关标准和程序受理战略性新兴产业专项资金申请，不收取任何费用。如有任何中介机构和个人假借我委领导和工作人员名义向申报单位收取费用的，请知情者即向我委举报。若发现中介机构代为申报的，一律取消申报资格，如已立项则予以撤项。 三、办理流程 项目申报—项目初审—第三方评审机构评审—现场核查—征求各部门意见—公示—下达扶持计划—下达项目批复或签订项目合同。 四、申报时间和咨询电话 （一）在线申报时间： 2022年10月8日9:00至2022年11月7日17:00 （二）咨询电话： 88101248；88121178 附件：深圳市2022年氢能产业发展扶持计划申报指南 注：请申报单位提前在市、区（新区）发展改革部门做好项目备案或核准工作，可前往广东省政务服务网（深圳市）选择所在区，进行“企业投资项目备案”。对于申报产业化事后补助扶持计划的企业，项目备案建设期和实际申报建设期不一致的，不影响正常申报。 深圳市发展和改革委员会 2022年9月30日
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