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Modern Ion Plating Technology
PISBN：9780323908337
出版社：Elsevier
出版时间：2023
作者：Wang,Fuzhen
主题词：Plasma Energy,Gas Discharge,Glow Discharge,Arc Discharge,Electromagnetic Field,Evaporation,Magnetron Sputtering,Chemical Vapor Deposition,Plasma Assisted Chemical Vapor Deposition
学科：TB4 工程材料学
语种：英语
所属数据库：Elsevier电子图书
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