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Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond
EISBN：
9789811500466
PISBN：
9789811500459
出版社：
Springer Singapore
出版类型：
Monograph
出版时间：
2019
版次：
1st ed. 2019
作者：
Guilei Wang
主题词：
Physics,Semiconductors,Circuits and Systems,Nanotechnology and Microengineering
语种：
英语
所属数据库：
SpringerLink电子图书
丛书题名：
Springer Theses
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