登录
 机构网站
  • 首页
  • 到馆服务
  • 学科服务
  • 研究支持
  • 情报产品
  • 数据资源
  • 科学传播
  • 关于我们
  1. 首页
  2. 馆藏纸本
  3. 图书详情
...

PECVD裂解SiCI_4低温快速沉积氢化纳米晶硅薄膜的研究

出版年:2012
作者:张林
资源类型:图书
细分类型:学位论文
1浏览量
 问图书管理员
 馆际互借
点赞
收藏
访问借阅管理系统
分享
相关推荐
...

射频PECVD高速沉积微晶硅薄膜及等离子体过程的研究

  • 作者:孙振中
  • 出版年:2008
...

催化化学气相沉积制备硅薄膜及纳米材料的研究

  • 作者:程士敏
  • 出版年:2013
...

氢化非晶硅薄膜的稳定性研究

  • 作者:盛殊然
  • 出版年:1997
...

晶硅薄膜中低温外延及纳米多孔馅光结构的研究

  • 作者:曹勇
  • 出版年:2016
...

金属硫化物纳米薄膜的化学浴沉积、图案化及光电性能研究

  • 作者:卢永娟
  • 出版年:2012
...

低温非晶/纳晶硅薄膜生长及其晶化研究

  • 作者:宋蕊
  • 出版年:2007

访问借阅管理系统

问
图
书
馆
员
意
见
反
馈
友情链接
扫码下载科讯APP

关于平台

运营单位:中国科学院文献情报中心

技术支持: 中国科学院文献情报中心知识系统部

联系我们

电话:010-82626611

地址:北京市中关村北四环西路33号

版权公告 使用协议 隐私声明 常见问题 使用反馈
京ICP备05002861号-1 | 京公网安备 11010802041433号 版权所有© 2020 中国科学院文献情报中心
使用反馈 我的意见